下摆机工艺设计.docx

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下摆机工艺设计

下摆高速精磨，抛光机（超小型）

•治工具设计要领

•1.高品质高生产条件

•机械精度+精密治工具+作业条件+技术员技术（技能）

•2.高品质镜片生产条件

•1）镜片需高精密加工要求,须周期确认设备精度

•2）为了避免使用设备中发生异常和问题,保证设备清洁状态

•3）高品质镜片生产是从治工具设计和精密工具开始

•3.设计基准

•1）求R高度方法

•-求1次RING值△HRING:

ø÷2X=?

•-曲率RXX=-△HRING值=（-镜片曲率）½

•例:

△H1次RING:

ø20÷2X=100

•镜片曲率R50时高度为1.0102

•2）设定TOOL外径请参照后图表[研磨TOOL及精磨TOOL外径设定基准]

•3）有关镜片治工具TOOL辅材料

•

（1）适用0.5T氨基甲酸乙酯为最佳

•

（2）使用3TPALLET,R值小时,使用DIA

•（3）使用PU皿3TPALLET

•（4）使用HOLDER用POLY0.5-0.8T

•4）设定TOOL曲率（例:

U,R30）

•

（1）定位皿:

⊥U30R

•

（2）氨基甲酸乙酯皿:

29.5R

•（3）PALLET皿:

⊥27R

•（4）修正氨基甲酸乙酯皿:

U29.5R

•（5）PU皿:

U33.R

•*参考:

R值为凸时,相反设计