赫尔槽测试中英对照版.docx

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赫尔槽测试中英对照版

TheHullCell（U.S.Patent#2,149,344）isaminiaturetestcell小型测试槽designedtoproduceaplateddeposit电镀层overarangeofcurrentdensities在一定电流密度范围内.Thedepositisdependentupontheconditionoftheplatingbath（i.e.concentrationofprimarycomponents,additionagentsandimpurities杂质）.TheHullCellisausefultoolforvarying不同的chemicalcomposition,determiningcoveringpower（thelowestcurrentdensityatwhichadepositisproduced产生）,measuringaveragecathodeefficiency,averagemetaldistributionorthrowingpower,andobservingtheeffectsofpH,temperatureanddecompositionproducts分解产物.AclearLuciteHullCell透明的合成树脂赫尔槽enablestheoperatortoobservetheplatingontheback背面ofthetestpaneltodeterminerelativethrowingpower相对均镀能力atverylowcurrentdensities.

赫尔槽（美国专利＃2149344）是一种被设计用来在一定电流密度范围内产生电镀层的小型测试槽。

电镀层的状况由电镀液的状况决定（主盐成分，添加剂和杂质）。

赫尔Cell是一种有用的工具，为不同的化学组成，确定覆盖能力（最低电流密度产生的镀层），测量平均电流效率，金属平均分配或分散能力，并观察pH值温度和分解产物的影响，。

一个透明的合成树脂赫尔槽能够让操作者通过观察试片背面的镀层，以确定在非常低的电流密度下的相对覆盖能力。

TheHullCellwasoriginallydevelopedbytheR.O.HullCompany,whichlaterbecametheROHCODivisionofMcGean-Rohco,andisnowpartofAtotech.TheHullCellhasbecomeanintegralpartofplatingoperationseverywhere.

赫尔槽最早由赫尔公司发明，该公司现在是安美特公司的一个部分，赫尔槽已经成为世界各地电镀操作的一个必须部分。

ADVANTAGES

TheHullCellenablesanexperienced有经验的operatortodeterminethefollowingfactsaboutaplatingsolution:

1.ApproximateBrightCurrentDensityRange.近似光亮电流密度的范围Thisisaccomplishedbycomparingthebrightplatedareas光亮镀层范围onthepanelwithcurrentdensitiesgiven给定的inachart.Ifthebrightoroperablerange光亮或可操作范围isbetween1-1/4”（3.2cm）and2-1/2“（6.4cm）fromtheleftsideofthepanel,andthetotalcurrentappliedis3Amps,thecorrespondingrespectivecurrentdensitiesfromaHullCellruler赫尔槽尺orchartliebetween75Amps/ft2（7.6Amps/dm2）and25Amps/ft2（2.7amps/dm2）.Sincethesevaluesrepresentextremelimits,itdoesnotfollowthateitherofthesecurrentdensitiescanbeusedinaplatingbathwithoutobtainingapoordeposit差的镀层.However,someintermediatecurrentdensity中间电流密度suchas50Amps/ft2（5.4Amps/dm2）shouldworkbest.

优点：

赫尔槽可以让有经验的操作者确定电镀液的以下状况：

1.近似光亮电流密度的范围。

这是通过用给定的电流密度下比较在试片上的光亮镀层范围来实现。

如果光亮或可操作的范围为从试片的左边算起1-1/4”（32厘米）和2-1/2”（6.4厘米），提供的总电流为3安培，从各自的相应赫尔槽尺或图表电流密度读出电镀范围为75Amps/ft2。

（7.6Amps/dm2）和25Amps/ft2（2.7amps/dm2）。

由于这些值代表了极限，但是这不表示这些电流密度可以在任一镀液中使用而不产生差的镀层。

所以，一些中间电流密度，如50Amps/ft2（5.4Amps/dm2）是最合适的。

2.Approximate大概ConcentrationsofPrimaryConstituents主要成分suchaszincmetalcontent,sodiumcyanidecontent,nickelmetalcontent,etc.Generally,thehigherthemetalcontentofabath,thehigher（butnotnecessarilywider）istheoperablebrightcurrentdensityrange.

3.AdditionAgentConcentration用量.Althoughafewadditionagentscanbedeterminedbyanalysis,theHullCelltestusuallyprovidestheonlysatisfactorymeansofcontrollingtheadditionofthesematerials,providedtheyexhibitavisibleeffectonthedeposit.

4.MetallicorOrganicImpuritiesinaplatingbathaffecttheappearanceoftheHullCelldeposit,andtheirpresenceorabsence是否存在canbeestablished.

2.主要成分的大概浓度。

如锌金属含量，氰化钠，镍金属含量等，一般来说镀液的金属含量越高可操作的光亮电流密度越高。

（但不一定是更宽的）

3.添加剂用量。

虽然有少数添加剂可以分析，赫尔槽试验通常提供了控制这些添加剂唯一令人满意的方法，只要添加剂在镀层上产生可见的效果。

4.镀液中的金属或有机杂质会影响试片的外观，因此可以判断这些杂质是否存在。

TESTMETHODS

Beforerunning进行aHullCellplatingtest,thefollowingstepsmustbetaken:

1.Bringthesolutiontobetestedtoitsnormaloperatinglevelintheplatingtank.

2.Eitherstirthebaththoroughlyoruseasamplingtube采样管extendingtothebottomofthetankandgooverthetankuniformlyfromoneendtotheother.

3.Thetemperatureofthebathsampleshouldbemaintainedattheproperoperatingtemperatureduringthetest.Thebestmethodfortestingsamplesathightemperatures在较高温度下isbyusingaModelHTHullCell,whichisequippedwithaheatingelementandthermostat可加热和控温的赫尔槽.

分析方法

在进行赫尔槽测试前，以下的步骤必须遵循

1使要进行测试的镀液操作条件和镀槽里的一样。

2要么彻底搅拌镀液或使用采样管延伸到镀槽底部从镀槽的一边转到另一边。

3.在测试时测试镀液的温度必修保持在一定的操作范围，一些要在较高温度下测试的镀液，最好采用可加热和控温的赫尔槽

4.UseacleanHullCellandcleanthecathodepanel试片.Ifmorethanonetypeofplatingsolutionistobetestedregularly,onecellshouldbeusedexclusivelyforeachtypetoavoidcrosscontamination交叉污染.

5.HullCellplatingtestsdonoteliminatetheneedforoccasionalchemicalanalysis.Suchanalysesshouldbemadebeforetheplatingtestsothatthebathsamplecanbeadjusted调整totheoptimumcompositioneitherpriortoorduringthesequenceofHullCelltests.

4使用清洁的赫尔槽和试片。

赫尔槽最好专用，避免不同镀液的交叉污染。

5赫尔槽测试不能取消代替必要的化学分析，在赫尔槽测试前应分析样品，以便镀液可以在赫尔槽测试时调整到最佳的范围。

6.Zinccoatedsteelcathodepanelsmustbestrippedofthezinc退掉锌层byimmersingthemintoa1:

1solutionofhydrochloricacidandwater,rinsedandthencleanedwithawet,cleanclothorwetpapertowel,justbeforeuse.SincetheHullCellisanactualplatingtank,improperlypreparedpanelswilln