版icfb的使用说明.docx

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版icfb的使用说明

icfb的使用说明

实验室上机

如果选择到微电子所开放实验室上机，用自己的用户名和密码进入Linux操作系统后，在桌面上点击鼠标右键，选择NewTerminal启动一个命令行窗口，如图1所示。

图1

1.1远程登录

如果选择远程登录方式，可以参考下面的步骤。

1安装远程登录软件

例如Xmanager1.3.9。

2配置远程登录软件

在[开始]菜单中，运行Xmanager菜单中的Xconfig；设置Window模式为MultipleWindowMode，Background选则Xwindowbackground（transparent）,WindowManager选则LocalOnly；设置XDM为DonotUseXDM（Passive）.点击[确定]，如图2。

3运行远程登录软件

在[开始]菜单中，运行Xmanager菜单中的Xstart；Name选择xterm，Host输入166.111.77.10，Protocol选择SSH，点击Run，即可用自己的用户名和密码登录服务器，登录成功后也会打开一个命令行窗口，如图3。

图2

图3

1.2文件上传或下载

可以用自己的用户名和密码访问ftp:

//166.111.77.10，用于上传或下载自己的数据和文档。

注意，对于上传的网表（例如inv.sp）等文件，最好都运行一下dos2unix命令以确保文件转换为Unix格式，方法是在命令行窗口中输入命令dos2unixinv.sp，如图4。

图4

2创建工作环境

如果是第一次使用，需要按以下步骤创建工作环境。

如果是继续以前的工作，则直接按2.2节的步骤进入工作目录，启动设计软件即可。

2.1创建工作目录

创建工作目录：

在命令行窗口中输入命令mkdirproject。

创建验证目录：

在命令行窗口中输入命令mkdirproject/verify。

注意，所有设计工作、软件启动都在目录~/project下进行，所有版图验证工作都在目录~/project/verify下进行，不要在其它目录下进行。

设置SMIC工艺库环境：

输入命令cp~chby1/project/cds.lib~/project，如图5。

图5

2.2启动设计软件

进入工作目录：

输入命令cdproject。

启动设计软件icfb：

输入命令icfb&，弹出如图6所示的CIW窗口。

点击菜单FileExit可以退出icfb软件。

图6

2.3创建设计库

创建自己的设计库：

在CIW窗口中点击菜单FileNewLibrary；在弹出的对话框中，LibraryName输入库的名字（例如pa），TechnologyFile选择Attachtoanexistingtechfile，点击OK；在新弹出的对话框中，TechnologyLibrary选择工艺库smic18mm，点击OK，如图7。

图7

至此工作环境和设计库创建完毕，接下来可以在自己的库pa下面创建、编辑各个电路单元。

注意，一个设计项目里的所有电路单元（cell）都在同一个库（library）下面创建，建议不要再创建其它的设计库。

2.4查看设计软件帮助

查看Cadence的帮助文档可以输入命令cdsdoc&，弹出如图8所示的窗口。

图8

3设计流程实例

本节结合一个反相器的实例来简单说明整个设计流程。

如果电路设计与仿真采用Hspice软件，则可以跳过3.1和3.2节，但要注意在3.5节LVS设置中的差异。

3.1电路设计

1创建或打开电路原理图

新建电路原理图（schematic）单元：

在CIW窗口中点击菜单FileNewCellview；在弹出的对话框中，LibraryName选择自己的设计库pa，CellName输入电路单元的名字（例如inv），Tool选择Composer-Schematic，点击OK，如图9。

弹出如图11所示的编辑窗口。

如果之前已经创建过，则直接打开电路原理图单元：

点击菜单FileOpen；在弹出的对话框中，LibraryName选择pa，CellNames选中inv，ViewName选择schematic，点击OK，如图10。

点击菜单WindowClose可以退出编辑窗口，如图11。

图9

图10

2编辑电路原理图

调入单元：

点击菜单AddInstance；在弹出的对话框中点击Browse，在新弹出的小对话框中选择要添加的单元，点击Close；然后输入合适的器件参数，点击Hide，如图12。

器件在工艺库smic18mm中；global电源/地、激励源、一些理想元件等在库analogLib中。

添加互连线：

点击菜单AddWire（narrow）。

添加端口：

点击菜单AddPin；在弹出的对话框中，PinName输入端口结点名（例如A），Direction选择合适的类型，点击Hide，如图12。

在编辑过程中注意随时保存：

点击菜单DesignCheckandSave。

图11

图12

编辑完成后的电路原理图如图13所示。

3创建或打开电路符号图

创建电路符号图（symbol）单元：

在编辑窗口中点击菜单DesignCreateCellviewFromCellview；在弹出的对话框中点击OK；在新弹出的对话框中选择各个端口的摆放位置（例如A在左、Y在右），点击OK，如图14。

图13

图14

如果之前已经创建过，则可直接打开电路符号图单元：

点击菜单DesignOpen，在弹出的对话框中，LibraryName选择pa，CellNames选中inv，ViewName选择Symbol，点击OK，如图15。

4编辑电路符号图

在弹出的编辑窗口中自动生成一个简单电路符号图，可以编辑修改它，如图16。

在编辑过程中注意随时保存，点击菜单DesignCheckandSave。

注意，创建电路符号图之后，在编辑其它电路原理图单元时就可以调用该电路单元，如图18。

图15

图16

3.2电路仿真

1创建或打开仿真原理图

新建或打开一个用作仿真平台（testbench）的电路原理图（schematic）单元，另取一个单元名字（例如inv_tb），方法同3.1节，如图17。

图17

2编辑仿真原理图

调入要仿真的电路单元inv，添加激励及负载等外围元件，方法同3.1节，如图18，注意保存。

编辑完成后如图20所示。

图18

3启动仿真软件

在图20所示的编辑窗口中点击菜单ToolsAnalogEnvironment，启动电路仿真软件Spectre。

软件会自动创建一个目录simulation作为仿真目录。

注意，所有电路仿真工作都在自动创建的目录~/simulation下进行，不要在其它目录下进行。

点击菜单SessionQuit可以退出Spectre软件，如图19。

图19

图20

4设置仿真条件

如果之前已经设置并保存过仿真条件，可以直接调出：

点击菜单SessionLoadState，选择合适的存档（例如state1），点击OK，如图21所示。

然后可以在此基础上修改仿真条件。

图21

如果是第一次仿真，或者要修改仿真条件，则按以下步骤进行。

设置工艺库及工艺角：

点击菜单SetupModelLibraries；在弹出的对话框中点击Browse，在新弹出的对话框中选中工艺库文件ms018_v14p_spe.lib，点击OK；Section输入工艺角（例如tt），点击Add/Delete可以添加/移除工艺库，点击Enable/Disable可以启用/禁用已添加的各个工艺库（例如把ms018_rf_v1p1_spe.lib禁用掉），点击Change，最后点击OK，如图22。

设置激励源：

点击菜单SetupStimuli；在弹出的对话框中，对Inputs及GlobalSources中的每个激励源进行设置，每设置完一个激励源后选中Enabled并点击Change，最后点击OK，如图22。

设置仿真类型：

点击菜单AnalysesChoose；在弹出的对话框中，Analysis选择tran，StopTime输入5n，选中Enabled，点击OK，如图22。

设置输出变量：

点击菜单OutputsToBePlottedSelectOnSchematic；在弹出的编辑窗口中，点击要输出的结点或元件（例如结点in和out），如图23。

图22

图23

可以保存仿真条件设置：

点击菜单SessionSaveState；在弹出的对话框中，SaveAs输入名字（例如state1），点击OK，如图21所示，以便以后可以直接调出该设置。

5查看仿真结果

点击菜单SimulationNetlistandRun运行仿真，弹出仿真进度显示窗口，仿真结束后弹出如图24所示的结果查看窗口，可以查看仿真结果。

点击菜单FileExit可以关闭结果查看窗口。

图24

3.3版图设计

1创建或打开版图

新建版图（layout）单元：

在CIW窗口中点击菜单FileNewCellview；在弹出的对话框中，LibraryName选择设计库pa，CellName输入版图单元的名字inv，Tool选择Virtuoso，点击OK，如图25。

弹出如图26所示的编辑窗口和一个图层窗口。

如果之前已经创建过，则直接打开版图单元：

点击菜单FileOpen；在弹出的对话框中，LibraryName选择pa，CellNames选中inv，ViewName选择layout，点击OK，如图25。

点击菜单WindowClose可以退出编辑窗口。

注意，图层窗口无法单独关闭，不必管它，在退出CIW窗口时它会自动关闭。

图25

2编辑版图

设置显示：

在编辑窗口中点击菜单OptionsDisplay；在弹出的对话框中，选中File输入文件名，点击SaveTo/LoadFrom可以保存/调出显示设置；建议在XSnapSpacing和YSnapSpacing输入0.01，DisplayLevels在Stop输入5，最后点击OK，如图27。

在图层窗口中，点击AV/NV可以显示/隐藏所有图层，点击AS/NS可以允许/禁止select所有图层，鼠标左键用于选中某一图层，鼠标中键用于显示/隐藏某一图层，鼠标右键用于允许/禁止select某一图层，如图26。

图26

图27

调入单元：

点击菜单CreateInstance，在弹出的对话框中点击Browse，在新弹出的小对话框中选择要添加的单元，点击Close；然后输入合适的器件参数，点击Hide，方法与3.1节相同。

所有Pcell单元都在工艺库smic18mm中。

添加图形：

选中相应的图层，点击菜单CreateRectangle或Path等。

添加端口：

选中相应的金属层，点击菜单CreateLabel；在弹出的对话框中，PinName输入端口结点名（例如gndd!

），Height输入合适的尺寸，点击Hide，如图27。

在编辑过程中注意随时保存：

点击菜单DesignSave。

编辑完成后的版图如图28所示。

注意，创建一个版图之后，在编辑其它版图单元时就可以调用该版图单元。

图28

3.4版图DRC验证

1启动DRC软件

在编辑窗口中点击菜单CalibreRunDRC，启动版图验证软件Calibre做DRC，如图28。

假如菜单中没有Calibre，也可以在命令行窗口中输入命令calibre-gui&，启动Calibre软件，如图29，然后点击DRC。

图29

弹出如图30所示的DRC窗口和一个调入规则设置存档的对话框。

在DRC窗口中点击FileExit可以退出Calibre软件。

2设置DRC规则

如果之前已经设置并保存过DRC规则，可以直接调出：

在图30的对话框中直接点击OK即可。

然后可以在此基础上修改DRC规则设置。

图30

如果是第一次做DRC，或者要修改DRC规则，则按以下步骤进行。

设置DRC规则：

在DRC窗口中点击Rules；在Calibre-DRCRunDirectory输入验证目录verify，在Calibre-DRCRulesFile点击[…]，在弹出的对话框中找到目录~chby1//rules/drc/calibre，选中规则文件SmicDRL2TM5P_cal018_mixlog_p1mt6_Sali.drc，点击Open，如图31。

图31

点击Inputs；在TopCell输入要做DRC的版图单元名字inv，选中Exportfromlayoutviewer，Files输入要导出的gds文件名，如图32。

图32

可以保存DRC规则设置：

点击菜单FileSaveRunset，在弹出的对话框中输入存档路径和文件名（例如drc_runset），点击OK，如图33。

以便以后可以直接调出该设置，如图30。

图33

3查看DRC结果

点击RunDRC运行DRC，弹出验证进度显示窗口，验证结束后弹出如图34所示的RVE窗口。

在弹出的RVE窗口中，点击菜单ViewShowEmptyChecks，使这一项不要被选中，然后可以点击鼠标左键查看错误说明，或点击鼠标右键选择HighlightResult，在编辑窗口中会高亮显示错误区域，点击菜单HighlightClearHighlights可以清除高亮显示，如图34。

点击菜单FileExit可以关闭RVE窗口。

图34

3.5版图LVS验证

1启动LVS软件

版图DRC通过之后，在图28的编辑窗口中点击菜单CalibreRunLVS，启动版图验证软件Calibre做LVS。

或者在如图29中点击LVS。

弹出如图35所示的LVS窗口和一个调入规则设置存档的对话框。

在LVS窗口中点击FileExit可以退出Calibre软件。

2设置LVS规则

如果之前已经设置并保存过LVS规则，可以直接调出：

在图35的对话框中直接点击OK即可。

然后可以在此基础上修改LVS规则设置。

如果是第一次做LVS，或者要修改LVS规则，则按以下步骤进行。

设置LVS规则：

在LVS窗口中点击Rules；在Calibre-LVSRunDirectory输入验证目录verify，在Calibre-LVSRulesFile点击[…]，在弹出的对话框中找到目录~chby1/rules/lvs/calibre/SmicSP6_cal018_log_p1mtx_sali，选中规则文件SmicSP6.1P_cal018_log_p1mtx_sali.lvs，点击Open，如图36。

图35

图36

点击Inputs；Layout设置参见图32；Netlist设置如图37，在TopCell输入要做LVS的电路单元名字inv，选中Exportfromlayoutviewer，Files输入要导出的spice网表文件名。

注意，如果电路设计采用Hspice软件，则在TopCell输入要做LVS的子电路（subckt）名字inv，不要选中Exportfromschematicviewer，Files输入自己编写的spice网表路径及文件名（例如inv.sp）。

可以保存LVS规则设置：

点击菜单FileSaveRunset，在弹出的对话框中输入存档路径和文件名（例如lvs_runset），点击OK，如图38。

以便以后可以直接调出该设置，如图35。

图37

图38

3查看LVS结果

点击RunLVS运行LVS，弹出验证进度显示窗口，验证结束后弹出如图39所示的RVE窗口。

在弹出的RVE窗口中，可以点击鼠标左键查看错误说明，或点击鼠标右键选择HighlightResult，在编辑窗口中会高亮显示错误区域，如果没有错误则显示绿色图标，点击SourceNetlist可以弹出窗口查看电路的spice网表，如果在网表中点击结点或元件，编辑窗口中会出现相应的高亮显示，如图40，在编辑窗口中点击菜单CalibreClearHighlights可以清除所有高亮显示。

点击菜单FileExit可以关闭RVE窗口。

图39

图40

3.6版图后仿真

1启动PEX软件

版图LVS通过之后，在图28的编辑窗口中点击菜单CalibreRunPEX，启动版图验证软件Calibre做PEX提取版图的网表。

或者在如图29中点击PEX。

弹出如图41所示的PEX窗口和一个调入规则设置存档的对话框。

在PEX窗口中点击FileExit可以退出Calibre软件。

图41

2设置PEX规则

如果之前已经设置并保存过PEX规则，可以直接调出：

在图41的对话框中直接点击OK即可。

然后可以在此基础上修改PEX规则设置。

如果是第一次做PEX，或者要修改PEX规则，则按以下步骤进行。

设置PEX规则：

在PEX窗口中点击Rules；在Calibre-PEXRunDirectory输入验证目录verify，在Calibre-PEXRulesFile点击[…]，在弹出的对话框中找到目录~chby1/rules/pex/calibre/，选中规则文件SmicSP5T_RF3T_cal018_mix_p1mt6_sali.lvs_XRC，点击Open，如图42。

图42

点击Inputs；Netlist设置如图43，在TopCell输入要做LVS的电路单元名字inv，选中Exportfromschematicviewer，Files输入要导出的spice网表文件名。

注意，如果电路设计采用Hspice软件，则在TopCell输入要做PEX的子电路（subckt）名字inv，不要选中Exportfromschematicviewer，Files输入自己编写的spice网表路径及文件名（例如inv.sp）。

点击Outputs；Netlist设置如图44，Format选择HSPICE，File输入导出的HSPICE网表的名称。

可以保存PEX规则设置：

点击菜单FileàSaveRunset，在弹出的对话框中输入存档路径和文件名（例如lvs_runset），点击OK，如图45。

以便以后可以直接调出该设置。

图43

图44

图45

3查看PEX结果，进行后仿真

点击RunPEX运行PEX，结束后弹出如图46所示的窗口，可以看到从版图生成的网表。

点击菜单FileExit可以关闭窗口。

图46

进入PEX运行目录下，将上述过程得到的基于版图的网表导出，共有三个文件，分别为：

*list，*list.pex，*list.*.pxi，其中*list为顶层文件。

在上述设计中“*”为“inv”，list为inv的子电路，如图46所示。

使用~chby1目录下的hspice文件夹中的SPICE模型对上述网表进行仿真，即可完成后仿真。