版icfb的使用说明.docx

1、版icfb的使用说明icfb的使用说明实验室上机如果选择到微电子所开放实验室上机，用自己的用户名和密码进入Linux操作系统后，在桌面上点击鼠标右键，选择New Terminal启动一个命令行窗口，如图1所示。图1 1.1 远程登录如果选择远程登录方式，可以参考下面的步骤。1 安装远程登录软件例如Xmanager 1.3.9。2 配置远程登录软件在开始菜单中，运行Xmanager菜单中的Xconfig；设置Window模式为Multiple Window Mode，Background选则X window background(transparent), Window Manager选则Loc

2、al Only；设置XDM为 Do not Use XDM(Passive). 点击确定，如图2。3 运行远程登录软件在开始菜单中，运行Xmanager菜单中的Xstart；Name选择xterm，Host输入166.111.77.10，Protocol选择SSH，点击Run，即可用自己的用户名和密码登录服务器，登录成功后也会打开一个命令行窗口，如图3。图2 图3 1.2 文件上传或下载可以用自己的用户名和密码访问ftp:/166.111.77.10，用于上传或下载自己的数据和文档。注意，对于上传的网表（例如inv.sp）等文件，最好都运行一下dos2unix命令以确保文件转换为Unix格式，

3、方法是在命令行窗口中输入命令 dos2unix inv.sp ，如图4。图4 2 创建工作环境如果是第一次使用，需要按以下步骤创建工作环境。如果是继续以前的工作，则直接按2.2节的步骤进入工作目录，启动设计软件即可。2.1 创建工作目录创建工作目录：在命令行窗口中输入命令 mkdir project 。创建验证目录：在命令行窗口中输入命令 mkdir project/verify 。注意，所有设计工作、软件启动都在目录 /project下进行，所有版图验证工作都在目录 /project/verify下进行，不要在其它目录下进行。设置SMIC工艺库环境：输入命令 cp chby1/project

4、/cds.lib /project ，如图5。图5 2.2 启动设计软件进入工作目录：输入命令 cd project 。启动设计软件icfb：输入命令 icfb & ，弹出如图6所示的CIW窗口。点击菜单File Exit可以退出icfb软件。图6 2.3 创建设计库创建自己的设计库：在CIW窗口中点击菜单File New Library；在弹出的对话框中，Library Name输入库的名字（例如pa），Technology File选择Attach to an existing techfile，点击OK；在新弹出的对话框中，Technology Library选择工艺库smic18mm，

5、点击OK，如图7。图7 至此工作环境和设计库创建完毕，接下来可以在自己的库pa下面创建、编辑各个电路单元。注意，一个设计项目里的所有电路单元(cell)都在同一个库(library)下面创建，建议不要再创建其它的设计库。2.4 查看设计软件帮助查看Cadence的帮助文档可以输入命令 cdsdoc & ，弹出如图8所示的窗口。图8 3 设计流程实例本节结合一个反相器的实例来简单说明整个设计流程。如果电路设计与仿真采用Hspice软件，则可以跳过3.1和3.2节，但要注意在3.5节LVS设置中的差异。3.1 电路设计1 创建或打开电路原理图新建电路原理图(schematic)单元：在CIW窗口中

6、点击菜单File New Cellview；在弹出的对话框中，Library Name选择自己的设计库pa，Cell Name输入电路单元的名字（例如inv），Tool选择Composer-Schematic，点击OK，如图9。弹出如图11所示的编辑窗口。如果之前已经创建过，则直接打开电路原理图单元：点击菜单File Open；在弹出的对话框中，Library Name选择pa，Cell Names选中inv，View Name选择schematic，点击OK，如图10。点击菜单Window Close可以退出编辑窗口，如图11。图9 图10 2 编辑电路原理图调入单元：点击菜单Add Ins

7、tance；在弹出的对话框中点击Browse，在新弹出的小对话框中选择要添加的单元，点击Close；然后输入合适的器件参数，点击Hide，如图12。器件在工艺库smic18mm中；global电源/地、激励源、一些理想元件等在库analogLib中。添加互连线：点击菜单Add Wire(narrow)。添加端口：点击菜单Add Pin；在弹出的对话框中，Pin Name输入端口结点名（例如A），Direction选择合适的类型，点击Hide，如图12。在编辑过程中注意随时保存：点击菜单Design Check and Save。图11 图12 编辑完成后的电路原理图如图13所示。3 创建或打开

8、电路符号图创建电路符号图(symbol)单元：在编辑窗口中点击菜单Design Create Cellview From Cellview；在弹出的对话框中点击OK；在新弹出的对话框中选择各个端口的摆放位置（例如A在左、Y在右），点击OK，如图14。图13 图14 如果之前已经创建过，则可直接打开电路符号图单元：点击菜单Design Open，在弹出的对话框中，Library Name选择pa，Cell Names选中inv，View Name选择Symbol，点击OK，如图15。4 编辑电路符号图在弹出的编辑窗口中自动生成一个简单电路符号图，可以编辑修改它，如图16。在编辑过程中注意随时保存

9、，点击菜单Design Check and Save。注意，创建电路符号图之后，在编辑其它电路原理图单元时就可以调用该电路单元，如图18。图15 图16 3.2 电路仿真1 创建或打开仿真原理图新建或打开一个用作仿真平台(testbench)的电路原理图(schematic)单元，另取一个单元名字（例如inv_tb），方法同3.1节，如图17。图17 2 编辑仿真原理图调入要仿真的电路单元inv，添加激励及负载等外围元件，方法同3.1节，如图18，注意保存。编辑完成后如图20所示。图18 3 启动仿真软件在图20所示的编辑窗口中点击菜单Tools Analog Environment，启动电路

10、仿真软件Spectre。软件会自动创建一个目录simulation作为仿真目录。注意，所有电路仿真工作都在自动创建的目录 /simulation下进行，不要在其它目录下进行。点击菜单Session Quit可以退出Spectre软件，如图19。图19 图20 4 设置仿真条件如果之前已经设置并保存过仿真条件，可以直接调出：点击菜单Session Load State，选择合适的存档（例如state1），点击OK，如图21所示。然后可以在此基础上修改仿真条件。图21 如果是第一次仿真，或者要修改仿真条件，则按以下步骤进行。设置工艺库及工艺角：点击菜单Setup Model Libraries；在

11、弹出的对话框中点击Browse，在新弹出的对话框中选中工艺库文件ms018_v14p_spe.lib，点击OK；Section输入工艺角（例如tt），点击Add/Delete可以添加/移除工艺库，点击Enable/Disable可以启用/禁用已添加的各个工艺库（例如把ms018_rf_v1p1_spe.lib禁用掉），点击Change，最后点击OK，如图22。设置激励源：点击菜单Setup Stimuli；在弹出的对话框中，对Inputs及Global Sources中的每个激励源进行设置，每设置完一个激励源后选中Enabled并点击Change，最后点击OK，如图22。设置仿真类型：点击菜单

12、Analyses Choose；在弹出的对话框中，Analysis选择tran，Stop Time输入5n，选中Enabled，点击OK，如图22。设置输出变量：点击菜单Outputs To Be Plotted Select On Schematic；在弹出的编辑窗口中，点击要输出的结点或元件（例如结点in和out），如图23。图22 图23 可以保存仿真条件设置：点击菜单Session Save State；在弹出的对话框中，Save As输入名字（例如state1），点击OK，如图21所示，以便以后可以直接调出该设置。5 查看仿真结果点击菜单Simulation Netlist and

13、Run运行仿真，弹出仿真进度显示窗口，仿真结束后弹出如图24所示的结果查看窗口，可以查看仿真结果。点击菜单File Exit可以关闭结果查看窗口。图24 3.3 版图设计1 创建或打开版图新建版图(layout)单元：在CIW窗口中点击菜单File New Cellview；在弹出的对话框中，Library Name选择设计库pa，Cell Name输入版图单元的名字inv，Tool选择Virtuoso，点击OK，如图25。弹出如图26所示的编辑窗口和一个图层窗口。如果之前已经创建过，则直接打开版图单元：点击菜单File Open；在弹出的对话框中，Library Name选择pa，Cell

14、Names选中inv，View Name选择layout，点击OK，如图25。点击菜单Window Close可以退出编辑窗口。注意，图层窗口无法单独关闭，不必管它，在退出CIW窗口时它会自动关闭。图25 2 编辑版图设置显示：在编辑窗口中点击菜单Options Display；在弹出的对话框中，选中File输入文件名，点击Save To/Load From可以保存/调出显示设置；建议在X Snap Spacing和Y Snap Spacing输入0.01，Display Levels在Stop输入5，最后点击OK，如图27。在图层窗口中，点击AV/NV可以显示/隐藏所有图层，点击AS/NS可

15、以允许/禁止select所有图层，鼠标左键用于选中某一图层，鼠标中键用于显示/隐藏某一图层，鼠标右键用于允许/禁止select某一图层，如图26。图26 图27 调入单元：点击菜单Create Instance，在弹出的对话框中点击Browse，在新弹出的小对话框中选择要添加的单元，点击Close；然后输入合适的器件参数，点击Hide，方法与3.1节相同。所有Pcell单元都在工艺库smic18mm中。添加图形：选中相应的图层，点击菜单Create Rectangle或Path等。添加端口：选中相应的金属层，点击菜单Create Label；在弹出的对话框中，Pin Name输入端口结点名（例

16、如gndd!），Height输入合适的尺寸，点击Hide，如图27。在编辑过程中注意随时保存：点击菜单Design Save。编辑完成后的版图如图28所示。注意，创建一个版图之后，在编辑其它版图单元时就可以调用该版图单元。图28 3.4 版图DRC验证1 启动DRC软件在编辑窗口中点击菜单Calibre Run DRC，启动版图验证软件Calibre做DRC，如图28。假如菜单中没有Calibre，也可以在命令行窗口中输入命令 calibre -gui & ，启动Calibre软件，如图29，然后点击DRC。图29 弹出如图30所示的DRC窗口和一个调入规则设置存档的对话框。在DRC窗口中点击

17、File Exit可以退出Calibre软件。2 设置DRC规则如果之前已经设置并保存过DRC规则，可以直接调出：在图30的对话框中直接点击OK即可。然后可以在此基础上修改DRC规则设置。图30 如果是第一次做DRC，或者要修改DRC规则，则按以下步骤进行。设置DRC规则：在DRC窗口中点击Rules；在Calibre-DRC Run Directory输入验证目录verify，在Calibre-DRC Rules File点击，在弹出的对话框中找到目录 chby1/ /rules/drc/calibre，选中规则文件SmicDRL2TM5P_cal018_mixlog_p1mt6_Sali.

18、drc，点击Open，如图31。图31 点击Inputs；在Top Cell输入要做DRC的版图单元名字inv，选中Export from layout viewer，Files输入要导出的gds文件名，如图32。图32 可以保存DRC规则设置：点击菜单File Save Runset，在弹出的对话框中输入存档路径和文件名（例如drc_runset），点击OK，如图33。以便以后可以直接调出该设置，如图30。图33 3 查看DRC结果点击Run DRC运行DRC，弹出验证进度显示窗口，验证结束后弹出如图34所示的RVE窗口。在弹出的RVE窗口中，点击菜单View Show Empty Chec

19、ks，使这一项不要被选中，然后可以点击鼠标左键查看错误说明，或点击鼠标右键选择Highlight Result，在编辑窗口中会高亮显示错误区域，点击菜单Highlight Clear Highlights可以清除高亮显示，如图34。点击菜单File Exit可以关闭RVE窗口。图34 3.5 版图LVS验证1 启动LVS软件版图DRC通过之后，在图28的编辑窗口中点击菜单Calibre Run LVS，启动版图验证软件Calibre做LVS。或者在如图29中点击LVS。弹出如图35所示的LVS窗口和一个调入规则设置存档的对话框。在LVS窗口中点击File Exit可以退出Calibre软件。2

20、 设置LVS规则如果之前已经设置并保存过LVS规则，可以直接调出：在图35的对话框中直接点击OK即可。然后可以在此基础上修改LVS规则设置。如果是第一次做LVS，或者要修改LVS规则，则按以下步骤进行。设置LVS规则：在LVS窗口中点击Rules；在Calibre-LVS Run Directory输入验证目录verify，在Calibre-LVS Rules File点击，在弹出的对话框中找到目录 chby1/rules /lvs/calibre/SmicSP6_cal018_log_p1mtx_sali，选中规则文件SmicSP6.1P_cal018_log_p1mtx_sali.lvs，

21、点击Open，如图36。图35 图36 点击Inputs；Layout设置参见图32；Netlist设置如图37，在Top Cell输入要做LVS的电路单元名字inv，选中Export from layout viewer，Files输入要导出的spice网表文件名。注意，如果电路设计采用Hspice软件，则在Top Cell输入要做LVS的子电路(subckt)名字inv，不要选中Export from schematic viewer，Files输入自己编写的spice网表路径及文件名（例如inv.sp）。可以保存LVS规则设置：点击菜单File Save Runset，在弹出的对话框中输

22、入存档路径和文件名（例如lvs_runset），点击OK，如图38。以便以后可以直接调出该设置，如图35。图37 图38 3 查看LVS结果点击Run LVS运行LVS，弹出验证进度显示窗口，验证结束后弹出如图39所示的RVE窗口。在弹出的RVE窗口中，可以点击鼠标左键查看错误说明，或点击鼠标右键选择Highlight Result，在编辑窗口中会高亮显示错误区域，如果没有错误则显示绿色图标 ，点击Source Netlist可以弹出窗口查看电路的spice网表，如果在网表中点击结点或元件，编辑窗口中会出现相应的高亮显示，如图40，在编辑窗口中点击菜单Calibre Clear Highlig

23、hts可以清除所有高亮显示。点击菜单File Exit可以关闭RVE窗口。图39 图40 3.6 版图后仿真1 启动PEX软件版图LVS通过之后，在图28的编辑窗口中点击菜单Calibre Run PEX，启动版图验证软件Calibre做PEX提取版图的网表。或者在如图29中点击PEX。弹出如图41所示的PEX窗口和一个调入规则设置存档的对话框。在PEX窗口中点击File Exit可以退出Calibre软件。图41 2 设置PEX规则如果之前已经设置并保存过PEX规则，可以直接调出：在图41的对话框中直接点击OK即可。然后可以在此基础上修改PEX规则设置。如果是第一次做PEX，或者要修改PEX

24、规则，则按以下步骤进行。设置PEX规则：在PEX窗口中点击Rules；在Calibre-PEX Run Directory输入验证目录verify，在Calibre-PEX Rules File点击，在弹出的对话框中找到目录 chby1/rules /pex/calibre/，选中规则文件SmicSP5T_RF3T_cal018_mix_p1mt6_sali.lvs_XRC，点击Open，如图42。图42 点击Inputs； Netlist设置如图43，在Top Cell输入要做LVS的电路单元名字inv，选中Export from schematic viewer，Files输入要导出的sp

25、ice网表文件名。注意，如果电路设计采用Hspice软件，则在Top Cell输入要做PEX的子电路(subckt)名字inv，不要选中Export from schematic viewer，Files输入自己编写的spice网表路径及文件名（例如inv.sp）。点击Outputs；Netlist设置如图44，Format选择HSPICE，File输入导出的HSPICE网表的名称。可以保存PEX规则设置：点击菜单FileSave Runset，在弹出的对话框中输入存档路径和文件名（例如lvs_runset），点击OK，如图45。以便以后可以直接调出该设置。 图43 图44图45 3 查看PEX结果，进行后仿真点击Run PEX运行PEX，结束后弹出如图46所示的窗口，可以看到从版图生成的网表。点击菜单File Exit可以关闭窗口。图46 进入PEX运行目录下，将上述过程得到的基于版图的网表导出，共有三个文件，分别为：*list，*list.pex，*list.*.pxi，其中*list为顶层文件。在上述设计中“*”为“inv”， list为inv的子电路，如图46所示。使用chby1目录下的hspice文件夹中的SPICE模型对上述网表进行仿真，即可完成后仿真。