镀膜机操作及镀膜工艺指导书.doc
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高理光学质量体系文件
镀膜机操作及镀膜工艺指导书
受控状态及编号
文件编号
GL/WI-RD-03-25
页码
Page1of30
部门
技术部
发布日期
2013年12月9日
拟制
徐威
审核
批准
变更履历
1
2007-05-28
文件整合
将老版文件改为新版的格式
聂旭光
2
2007-08-15
内容新增
1、增加产品镀膜前烘烤要求Page15
周霞
2、增加表单Page20
周霞
3
2007-10-09
客户审核要求
1、增加变更履历Page1
杨莎
2、去掉产品镀膜前烘烤要求Page15
周霞
3、5#镀膜机增加光栅增透Page15
聂旭光
4
2008-04-29
内容新增
新增镀膜应急情况处理办法Page7.8
冯浩
5
2008-09-09
内容新增
Page12
冯浩
6
2009-04-13
内容变更
更新3#镀膜机作业流程Page9-14
何健
7
2009-04-24
内容新增
新增4#镀膜机作业流程Page19-21
何健
8
2009-05-18
客户审核要求
新增镀膜产品切换要求Page21
何健
9
2009-08-05
文件整合
全部更新全文
冯浩
10
2010-01-15
内容变更
1.变更4#5#6#机台清洗周期2变更4#工艺参数
冯浩
11
2010-04-7
内容新增
1.新增7.95um/10.8um光栅镀膜工艺page9-14
2.增加405nm增透工艺page20
徐威
12
2010-7-28
内容变更
1.变更3#镀膜机保养规范Page13
2.变更4#镀膜机工艺参数Page18-22
3.变更5#镀膜机工艺参数Page25-26
4.变更6#镀膜机工艺参数Page30
徐威
袁超
13
2010-9-13
内容新增
新增《镀膜工艺卡片》Page18，32
叶小兵
14
2010-9-20
内容新增
新增3#，4#镀膜机烘烤温度点检要求
冯浩
15
2011-4-18
内容新增
新增镀膜工艺卡片三洋BD414蓝光偏小AR、正常AR、偏大AR
徐威
16
2011-11-21
文件整合
全部更新全文
靖泽兵
17
2011-12-30
内容变更
部分内容调整Page3.4.7
靖泽兵
18
2012-2-8
内容变更
表单变更Page28
靖泽兵
19
2012-3-12
内容变更
表单变更Page28
靖泽兵
20
2012-5-21
内容新增
1.增加测温时机，时机为停机大于等于24小时后测温。
2.明确8.2.4中C条处理办法
靖泽兵
21
2012-12-26
内容变更
表单变更Page28
靖泽兵
22
2013-1-5
内容新增
新增阳极筒更换注意事项Page16
徐威
23
2013-1-14
内容新增
1.新增清扫注意事项及膜料存放要求Page3、4
2.新增下伞条件Page8
3.新增离子源存放要求Page16
4.变更设备清洗流程Page13、15、20、22
5.变更配件更换要求Page14、21
徐威
24
2013-12-9
应客户要求
增加《产品面别一览表》Page29-30
杨莎
25
2014-4-23
内容变更
Sio2加料变更Page4
徐威
镀膜机操作及镀膜工艺指导书Page0
一、目的
为了规范镀膜作业员镀膜操作，特制定该文件。
二、适用范围
本文件适用于参与镀膜操作的全体人员。
三、设备及辅助材料
3.11#：
昭和真空镀膜机；
3.22#：
昭和真空镀膜机；
3.33#：
莱宝真空镀膜机；
3.44#：
韩一真空镀膜机；
3.55#：
现代南光ZZS1100真空镀膜机；
3.66#：
现代南光ZZS1100真空镀膜机；
3.7其它设备及辅助材料：
镀膜材料、吸尘器、铜刷、锤子、镊子、丙酮、口罩、手套。
四、镀膜机制作产品范围
编号
名称
适用产品
4.1
1#昭和镀膜机作业流程
全反、增透膜等
4.2
2#昭和镀膜机作业流程
全反、增透膜等
4.3
3#莱宝镀膜机作业流程
光栅、滤光片、分光、全反、增透膜等
4.4
4#韩一镀膜机作业流程
滤光片、分光、全反、增透膜等
4.5
5#南光镀膜机作业流程
分光、增透膜等
4.6
6#南光镀膜机作业流程
增透膜等
4.7
镀膜产品切换要求
生产中减少产品切换频率
镀膜机操作及镀膜工艺指导书Page6
五、镀膜作业内容
后留下一工序
5.1镀膜流程图
OK
NG
报废
产品性能检查
光控、晶控确认
添料
清扫
开机
关机
下伞
进气
镀膜
排气
（抽真空）
上伞
5.2镀膜操作说明
昭和
莱宝
韩一
南光
开机
参考设备部文件
参考设备部文件
参考设备部文件
参考设备部文件
清扫
清扫完毕
清扫电子枪周边防护板
清扫遮料板
清扫洁坩埚周边
清扫支架
清扫镀膜机四周防护板
盖住坩埚
1、使用工具：
铜刷和吸尘器
2、清扫流程：
※注意事项：
⑴整个清洁过程中操作人员必须戴口罩、手套；
⑵遮料板每罩清扫，每3罩反射镜更换1次，并拆网喷砂处理。
（3）用铝纸包的护板每5罩反射镜（35罩AR）须更换。
添料
1、添加SiO2时，先将坩埚周围卫生清洁再将烧结成块的SiO2取出，然后加入新的SiO2膜料。
添加时，用添料勺一边添加一边压紧，最终添加到膜料与坩埚上边沿齐平即可。
2、添加TiO2时，需将前一次熔出的坑填平。
※添加膜料注意相对应坩埚序号，及所需添加的材料名称；
※膜料添加完毕后，需将坩埚周边的多余膜料清除干净。
膜料的存放要求：
1、不使用的已熔膜料需放入干燥塔内保存
2、已开启的膜料，0.5KG以内的放1包干燥剂，0.5KG以上的放2包干燥剂。
SiO2添加图
SiO2添加后图：
TiO2添加后图：
1、添加SiO2时，先将烧结成块的SiO2取出，然后加入新的SiO2膜料，添加时，用专用治具一边添加一边压紧（见图示），最终添加到膜料与坩埚上边沿齐平即可。
2、添加Ti3O5时，将前一次熔出的坑填平即可。
3、添加ZrO2时，只需将前次使用的膜料取出，更换成新膜料即可，膜料必须放置到坩埚中心位置。
※添加膜料注意相对应坩埚序号，及所需添加的材料名称；
※膜料添加完毕后，需将坩埚周边的多余膜料清除干净。
膜料的存放要求：
1、不使用的已熔膜料需放入干燥塔内保存
2、已开启的膜料，0.5KG以内的放1包干燥剂，0.5KG以上的放2包干燥剂。
SiO2添加图
SiO2添加后图
SiO2添加后图：
TiO2添加后图：
1、添加SiO2时，先将坩埚周围卫生清洁再将烧结成块的SiO2取出，然后加入新的SiO2膜料，添加时，用添料勺一边添加一边压紧（见图示），最终添加到膜料与坩埚上边沿齐平即可。
2、添加TiO2时，将前一次熔出的坑填平即可。
3、添加Si时，添加的膜料需低于坩埚边缘2mm～3mm。
※添加膜料注意相对应坩埚序号，及所需添加的材料名称；
※膜料添加完毕后，需将坩埚周边的多余膜料清除干净。
膜料的存放要求：
1、不使用的已熔膜料需放入干燥塔内保存
2、已开启的膜料，0.5KG以内的放1包干燥剂，0.5KG以上的放2包干燥剂。
SiO2添加图
SiO2添加后图：
TiO2添加后图：
1、添加SiO2时，先将坩埚周围卫生清洁再将烧结成块的SiO2取出，然后加入新的SiO2膜料，添加时，用专用治具一边添加一边压紧（见图示），最终添加到膜料与坩埚上边沿齐平即可。
2、添加TiO2时，需将前一次熔出的坑填平即可。
3、添加Si时，添加的膜料需低于坩埚边缘2mm～3mm。
※添加膜料注意相对应坩埚序号，及所需添加的材料名称；
※膜料添加完毕后，需将坩埚周边的多余膜料清除干净。
膜料的存放要求：
1、不使用的已熔膜料需放入干燥塔内保存
2、已开启的膜料，0.5KG以内的放1包干燥剂，0.5KG以上的放2包干燥剂。
SiO2添加图
SiO2添加后图：
TiO2添加后图：
光控、晶控确认
每罩均需更换光控片
1、镀FM时更换20个光控片；
2、镀AR时更换4个光控片。
※更换过程中注意保持光控片表面洁净。
※更换后需在《镀膜原始数据记录表》中做好更换记录。
使用光控时：
每罩均需更换光控片，同时检查晶振寿命值，寿命值＞10时必须更换晶振片；
单独使用晶控时，每罩检查晶振寿命值：
1、镀GT产品时，晶振寿命值＞3时必须更换晶振片；每更换阳极筒时也必须更换晶振片
2、镀除GT以外其它产品时，晶振寿命值＞8时必须更换晶振片；
3、晶振片更换好后，需检查晶振频率是否正常显示，寿命值是否为0，若不是，则需重新更换。
※更换过程中注意保持光控/晶控片表面洁净；
※※更换后需在《镀膜原始数据记录表》中做好更换记录。
使用光控时：
每罩镀膜前需检查光控片使用状况，并根据下罩镀膜产品决定是否需要更换光控片（例：
光控共40个点，若已用28个点，而下一罩需要用16个点，则28+16=44＞40，故在镀下一罩之前需更换光控片），同时检查晶振寿命值，寿命值＞16时必须更换晶振片；
单独使用晶控时：
检查晶振寿命值，寿命值＞10时必须更换晶振片；
晶振片更换好后，需检查晶振频率是否正常显示，寿命值是否为0，若不是，则需重新更换。
※更换过程中注意
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