第七章扩散与固相反应Word文档格式.docx

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D体心16(a2)2

a224

7-2设有一种由等直径的A、B原子组成的置换型固溶体。

该固溶体具有简单立方的晶体结构,点阵

常数a=0.3nm,且A原子在固溶体中分布成直线变化,在0.12mm距离内原子百分数由0.15增至0.63。

又设A原子跃迁频率r=10-6s-1,试求每秒内通过单位截面的A原子数?

已知1106s1,16;

ra0.3nm;

求扩散通量J。

Dr216(0.3107)31061.51022cm2s

每cm3固溶体内所含原子数为

1(0.3107)33.71022个cm3

r0.150・632224

dcdx3.710221.4810

0.012

JDdcdx1.510221.4810242.2102s1cm2

7-3制造晶体管的方法之一是将杂质原子扩散进入半导体材料如硅中。

假如硅片厚度是0.1cm,在其

中每107个硅原子中含有一个磷原子,而在表面上是涂有每107个硅原子中有400个磷原子,计算浓度梯

度(a)每cm上原子百分数,(b)每cm上单位体积的原子百分数。

硅晶格常数为0.5431nm。

由菲克第一定律计算在内部和表面上的原子的百分组成,Ci和Cs分别为内部和表面磷浓度。

 

硅晶体单位晶胞体积

Ci1107100105%

Cs4001071004103%

53

110410

0.1

0.0399%

107)31.61022硅晶体是立方金刚石结构,单位晶胞有

107

8

V(0.5431

8个Si原子,

3

cm

107个Si占体积为:

每cm3中原子含量:

(1.61022)

210

16

cm3

Cs

Ci2

1

10

0.005

1018

400

0.00510182

7-4已知MgO多晶材料中Mg2+离子本征扩散系数

1.995

19

Din

Dex

4cm

Din)和非本征扩散系数(Dex)由下式给出

486000

0.249exp()

RT

…“5/2545002/

1.210exp()cm.s

1000c时,Mg2+的(Din)和(Dex)。

cmls

(a)分别求出25C和

(b)试求在Mg2+的lnD〜1/T图中,由非本征扩散转变为本征扩散的转折点温度?

解:

(a)

25C

1000c

0.249exp()1.6010

8.314298

5254500

1.2105exp()2.94

0.249exp()2.8410

8.3141273

1.210exp()4.33

86

50

cm2/s

21

(b)非本征扩散与本征扩散转折点温度即为Din=Dex时的温度

0.249exp(

486000)

RT)

254500

1.2105exp(空竺)

cmIs

16cm

2;

s

T486000254500

9.9448.314

ln1.2109.944

0.249

2800K

计算中假设MgO是纯净的多晶体,若有微量杂质引入,转折点温度将高于

(2527C)。

7-5从7-4题所给出的Din和Dex式中求MgO晶体的肖特基缺陷形成焓。

若欲使Mg2+在MgO中的扩散直至MgO熔点2800C时仍是非本征扩散,试求三价杂质离子应有什么样的浓度?

从7-4题Din和Dex式中可知,发生本征扩散激活能Qi=486kJ/mol,发生非本征扩散激活能Q2

=254.50kJ/mol。

Q2=Hm

△Hf为Schottky缺陷形成焓;

△Hm是Mg2+离子迁移焓。

△Hf/2+254.50=486.00

△Hf=(486.00-254.50)X2=463.00kJ/mol

Mg2+离子在MgO晶体中以空位机构扩散。

在MgO中若掺有M3+,则“吨]来自两个方面。

[VMg][VMg]杂[VMg]肖

即由掺杂M3+引起的[VMg]杂和由本征热缺陷一肖特基缺陷引起的[VMg]肖。

Mg2+通过前一种空位的扩

散为非本征扩散,通过后一种空位的扩散为本征扩散。

掺杂M3+引起V|Mg的缺陷反应如下:

M2O3MgO2M?

MgVMg3Oo

由上述反应产生的VMg即为[VMg]杂。

当MgO在熔点时,晶体内Schottky缺陷浓度为:

所以欲使MgO晶体中直至3073K仍为非本征扩散。

在(7-14)方程中[MMg]2[VMg]杂,

M3+浓度为

2[VMg]杂[VMg]肖

44

1.16102.3210

3?

[M][MMg]

3+

即[M]2

若认为晶界的扩散通道宽度一般为0.5nm,试证明原子通过晶界扩散和晶格扩散的质量之比为

由此可见,在MgO晶体中只需混入万分之一杂质,在熔点时发生的是非本征扩散而不是本征扩散。

这也是AI2O3、MgO、CaO等高熔点氧化物不易测到本征扩散的原因。

7-6

(牛)

D。

其中d为晶粒平均直径;

Dgb、Dv分别为晶界扩散系数和晶格扩散系数。

设晶粒是直径为d的圆球,每个晶粒周围的晶界扩散通道面积为0.5X10-9nd(m2),其中只有

呼)

d

半属于该晶体本身,其余一半属于周围的晶粒,因而一个晶粒的晶界通道截面积为:

晶粒横截面积

设Mgb、MV分别代表扩散原子通过晶界扩散及晶粒内扩散的数量,则:

9

de

Mgb

AgbJgb

0.510

dD临

2de

Mv

AvJv

Dv-

4

dx

所以

iDv

移项得:

则当T<

T0时以晶界扩散为主,Dgb>

Dv;

当T>

T0时以体积扩散为主,即Dv>

Dgb。

如图7-1所示。

7-7设体积扩散与晶界扩散活化能间关系为Qgb2Qv(Qgb.Qv分别为晶界扩散与体积扩散激活能)

试画出lnD〜1/T曲线,并分析在哪个温度范围内,晶界扩散超过体积扩散

DD0exp(QRT)或InDIn

晶界扩散有

InDgbInD°

bQ-RT

体积扩散有

InDvInD0Qv.'

欲使

DgbDv

InD0bQgjRTlnD:

Qv;

RT

Dgb

图7-1例题7-7附图

7-8在一种柯肯达尔扩散中,假定(a)晶体为简单立方结构;

(b)单位体积内原子数为一常数1023;

(c)A原子的跃迁频率为

10个/cm;

(f)截面面积为

1O10s-1,B原子跃迁频率为109s-1;

(d)点阵常数a=0.25nm;

(e)浓度梯度为

0.25cm2。

试求A、B原子通过标志界面的扩散通量以及标志界面移动速度。

Da

r2

17210

(0.25107)21010

1.04

106

cm2,s

解:

6

Db

2172

r2(0.2510)

109

107cm

dcdx101023

24

JaA

624

1.0410100.25

2.6

17

个s

724

Jb-a1.0410100.25

1016

令界面移动速度为

V,n

为单位体积中原子数

nRJaJb

V一(JA

Jb)

11716、

23(1010)1.04

9.36

107

cms

n

7-9纯固相反应在热力学上有何特点?

为什么固相反应有气体或液体参加时,范特荷夫规则就不适用

了?

一切实际可以进行的纯固相反应,其反应几乎总是放热的,这一规律性的现象称为范特荷夫规则。

此规则的热力学基础是因为对固相反应而言,反应的熵变AS往往很小以致趋于零。

所以反应自由焓变化

GH。

而纯固相反应发生的热力学必要条件是△Gv。

,这样△H<

0(即放热)的反应才能发生。

对于有液相或气相参与的固相反应,△S可以变得很大,因此范特荷夫规则不再适用。

7-10假定从氧化铝和二氧化硅粉料形成莫来石为扩散控制过程,如何证明这一点?

又假如激活能为210kJ/mol,并在1400C下1h(小时)内反应过程完成10%,问在1500C下1h内反应会进行到什么程度?

在1500C下4h又会如何?

Gexp(Q2RT)

如果用Jander方程描述氧化铝和二氧化硅反应生成莫来石,经计算得到合理的结果,可以认为

此反应是扩散控制的反应过程。

Jander方程

[1

(1

G)3]2

Kt

当G较小时

G

、Kt

式中反应速率常数

K

A

-exp(

QRT)

当t不变时,则有

G2exP[Q(T2Tl)]

Gi2RT1T2

已知:

Q=210kJ/mol

G21.529Gi1.52910%15.29%

同理

7-11在SiC上形成一层非晶态SiO2薄膜,限制了进一步氧化。

完成氧化的分数是用测定增重的方法确定的,并发现是遵守抛物线氧化规律。

对特定颗粒尺寸的SiC和纯氧。

2,得到如下表所示实验数据,试确

定表现激活能并说明这是一个扩散控制的反应。

温度(C)

已反应的分数

时间(h)

903

2.55X10-

100

1135

1.47X10-

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