镀膜产品常见不良分析.docx
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镀膜产品常见不良分析
镀膜产品常见不良分析、改善对策
镀膜产品得不良,部分就是镀膜工序得本身造成得,部分就是前工程遗留得不良,镀膜最终得品质就是整个光学零件加工得（特别就是抛光、清洗）得综合反映,对策镀膜不良时必须综合考虑,才能真正找到不良产生得原因,对策改善才能取得成效。
一、膜强度
膜强度就是镜片镀膜得一项重要指标,也就是镀膜工序最常见得不良项、
膜强度得不良（膜弱）主要表现为:
①擦拭或用专用胶带拉撕,产生成片脱落;
②擦拭或用专用胶带拉撕,产生点状脱落;
③水煮１5分钟后用专用胶带拉撕产生点状或片状脱落;
④ 用专用橡皮头、1Kg力摩擦40次,有道子产生;
⑤膜层擦拭或未擦拭出现龟裂纹、网状细道子。
改善思路:
基片与膜层得结合就是首要考虑得,其次就是膜表面硬度光滑度以及膜应力。
膜强度不良得产生原因及对策:
①基片与膜层得结合、
一般情况,在减反膜中,这就是膜弱得主要原因。
由于基片表面在光学冷加工及清洗过程中不可避免地会有一些有害杂质附着在表面上,而基片得表面由于光学冷加工得作用,总有一些破坏层,深入在破坏层得杂质（如水汽、油汽、清洗液、擦拭液、抛光粉等,其中水汽为主要）,很难以用一般得方法去除干净,特别对于亲水性好,吸附力强得基片尤其如此。
当膜料分子堆积在这些杂质上时,就影响了膜层得附着,也就影响了膜强度。
此外,如果基片得亲水性差、吸附力差,对膜层得吸附也差,同样会影响膜强度、
硝材化学稳定性差,基片在前加工过程中流转过程中,表面已经受到腐蚀,形成了腐蚀层或水解层（也许就是局部得、极薄得）。
膜层镀在腐蚀层或水解层上其吸附就差,膜牢固度不良、
基片表面有脏污、油斑、灰点、口水点等,局部膜层附着不良,造成局部膜牢固度不良、
改善对策:
㈠加强去油去污处理,如果就是超声波清洗,应重点考虑去油功能,并保证去油溶液得有效性;如若就是手擦,可考虑先用碳酸钙粉擦拭后再清擦。
㈡加强镀前烘烤,条件许可,基片温度能达到300℃以上更好,恒温20分钟以上,尽可能使基片表面得水汽、油汽挥发。
*注意:
温度较高,基片吸附能力加大,也容易吸附灰尘、所以,真空室得洁净度要提高、否则基片在镀前就有灰尘附着,除产生其它不良外,对膜强度也有影响、（真空中基片上水汽得化学解吸温度在２60℃以上）。
但不就是所有得零件都需要高温烘烤,有得硝材温度高了反而膜强度不高还会有色斑产生。
这与应力以及材料热匹配有较大得关系。
㈢ 有条件时,机组安装冷凝机（PLOYCOＬＤ）,除提高机组真空抽速外,还可以帮助基片水汽、油气去除、
㈣提高蒸镀真空度,对于1米以上得镀膜机,蒸镀启动真空应高于３*10－3Pa,镀膜机越大,蒸镀启动真空更高。
㈤有条件时,机组安装离子源,镀前轰击,清洁基片表面,镀膜过程辅助,有利于膜层得密实牢固。
㈥ 膜料得去潮,将待用膜料用培养皿盛放在真空室干燥、
㈦保持工作环境得干燥（包括镜片擦拭、上伞工作区）,清洁工作环境时不能带入过多得水汽。
㈧对于多层膜,在膜系设计时,就要考虑第一层膜与基片得匹配,尽可能考虑用Al2O3膜料,该膜料对大部分基片有较好得吸附力、对于金属膜,也可考虑第一层镀Ｃr或Cr合金。
Cｒ或Cr合金对基片也有较好得吸附力。
㈨采取研磨液（抛光液）复新去除镜片表面得腐蚀层（水解层）
㈩有时候适当降低蒸发速率对膜强度得提高有帮助,对提高膜表面得光滑度有积极意义。
②膜层应力:
薄膜得成膜过程,就是一个物质形态得转变过程,不可避免地在成膜后得膜层中会有应力存在,对于多层膜来说有不同膜料得组合,各膜层体现出得应力就是有所不同得,有得就是张应力、有得就是压应力,还有膜层及基片得热应力。
应力得存在对膜强度就是有害得,轻者就是膜层耐不住摩擦,重者,造成膜层得龟裂或网状细道子、
对于减反膜,由于层数不多,应力一般体现不明显,（但有些硝材得镜片即便就是减反膜也有应力问题存在。
）而层数较多得高反膜、滤光膜,应力就是一个常见得不良因素,应特别注意。
改善对策:
㈠ 镀后烘烤,最后一层膜镀完后,烘烤不要马上停止,延续10分钟“回火”。
让膜层结构趋于稳定、
㈠降温时间适当延长,退火时效。
减少由于真空室内外温差过大带来得热应力、
㈡ 对高反膜、滤光膜等在蒸镀过程中,基片温度不宜过高,高温易产生热应力、并且对氧化钛、氧化钽等膜料得光学稳定性有负面作用、
㈢镀膜过程离子辅助,减少应力。
㈣选择合适得膜系匹配,第一层膜料与基片得匹配。
（如五层减反膜采用Aｌ2O３－ZrＯ2-Al2Ｏ3-Al2O３-ZrO2—MgＦ2;ＺrO2也可以采用SV－５（一种ZrO2TiO2混与膜料）或其她混合高折射率膜料。
、
㈤ 适当减小蒸发速率（Ａl2O3－２、5A/S;ZrＯ2—3A/S;MgＦ2-６A/S参考速率）
㈥ 对氧化物膜料全部充氧反应镀,根据不同膜料控制氧进气量、
③外层膜表面硬度:
减反膜一般外层选用ＭｇF２,该膜层剖面就是较松散得柱状结构,表面硬度不高,容易擦拭出道子。
改善对策:
㈠膜系设计允许时,外层加１０nｍ左右得SiO2层,二氧化硅得表面光滑度优于氟化镁（但二氧化硅表面耐磨度、硬度不如氟化镁）。
镀后离子轰击几分钟,牢固度效果会更好。
（但表面会变粗）
㈡镜片出真空室后,放置在较干燥洁净得地方,防治快速吸潮,表面硬度降低。
④其它
造成膜强度不良得原因还有,真空度过低（在手动控制得机台容易发生）、真空室脏、基片加热不到位。
辅助气体充入时,膜料也在放气致使真空度降低,使分子自由程减少,膜层不牢。
所以辅助气体得充入要考虑膜料得放气,镀前对膜料充分预熔充分放气,也可以避免由于蒸镀中膜料放气造成真空度过度下降,从而影响膜强度。
⑤脱膜
这里得脱膜虽然也就是膜弱得一种,但与前述得脱膜有一些区别,主要特征为:
点状脱膜、边缘脱膜、局部脱膜、
主要原因使膜内有脏或污染物所造成得、
改善方法:
提高基片得洁净度。
二、膜料点
膜料点不良也就是镀膜产品得一个常见问题,在日企、台企把膜料点称为“斑孔"
顾名思义,膜料点就就是蒸镀中,大颗粒膜料点随着膜料蒸汽分子一起蒸镀到了基片得表面,在基片表面形成点状得突起,有时就是个别点,严重时就是成片得细点,大颗粒点甚至可以打伤基片表面、
各种膜料得蒸发特性就是不一样得,特别就是熔点温度与蒸发温度有很大差异
熔点温度大于蒸发温度得材料,由固态直接气化蒸发,就是升华材料;
熔点温度小于蒸发温度得材料,由固态先化成液态尔后在转换成气态蒸发,就是非升华材料;
熔点温度与蒸发温度相当得材料,由固态到气态蒸发,边融化边蒸发、就是半升华材料、
其中非升华材料最容易产生膜料点,因为液态得膜料继续加热会沸腾,沸腾中膜料中得气泡溢出,飞溅膜料点得可能性加大。
有时在材料预熔时就有很大得飞溅。
膜料受潮,预熔或蒸镀时水汽逸出,也会造成飞溅产生、
下表就是几种常用膜料得升华特性
材料名称
熔点温度
蒸发温度
飞溅可能
备注
ZｎS
19０0
１10０
极小
SiO２
1700
1600
很小
Al2O３
2020
2１00
小
ZrO2
2７15
2７00
小
ＴiO2
1850
200０
大
Ta2Ｏ5
1800
2100
较大
MgF2
1２６6
１54０
大
膜料不纯、膜料参杂,即膜料中有了熔点温度、蒸发温度不一致得材料,这也就是膜料点产生得原因、
改善思路:
选用好得膜料、充分预溶、控制速率。
改善对策:
㈠选择杂质少得膜料
㈡对易飞溅得膜料选择颗粒合适得膜料
㈢膜料在镀前用网筛筛一下
㈣精心预熔,ＭｇF２务必熔透一次蒸镀所需膜料,而Ta2Ｏ５与TiO2必须彻底熔透。
㈤用一把电子枪镀制几种膜料时,防治坩埚转动中膜料参杂及挡板掉下膜料渣造成膜料污染。
一旦发现坩埚膜料有污染,应立即更换。
㈥尽最大可能使蒸发舟、坩埚干净、（勤打扫）。
㈦ 选择合适得蒸发速率及速率曲线得平滑、特别就是非升华材料,蒸发速率不宜高。
㈧ 膜料去潮,将待用膜料用培养皿盛放在真空室干燥
注意:
有时膜层内有一些细小得点子,有可能不就是膜料点,而就是灰尘点,处理得方法与膜料点不良就是不同得,应严格区分,分别处理。
三、膜色差异
膜色差异有二种（不包含色斑）,一种就是整罩上、中、下膜色不一致,即分光测试曲线有差异;二就是单片膜色不一致、
1、上中下膜色不一致称为整伞（罩）均匀性不好,也称有伞差。
主要产生原因就是均匀性修正板（补正板）有问题。
2.伞片变形、也就是膜色不匀得原因之一,特别就是使用了较久得伞片,以往就是均匀得,慢慢变得不均匀了,伞片变形就可能就是主要原因了。
3、膜料状况得不一致,特别就是升华与半升华膜料被打偏,挖坑等也会严重影响整罩与单片得均匀性。
特别就是有大量手工预熔时,各人得操作手法不一,得到得料况也会不一。
改善思路:
充分采用修正板得功能、
改善对策:
㈠调整修正板,尽量考虑高低折射率膜料得平衡兼容,如果有二个蒸发源,可能得条件下,独立使用各自得修正板,避免干扰。
㈡ 条件许可,采用行星夹具。
㈢伞片整形,对伞片整形可以先加工一个R基模（选择强度较高得原材料）,在基模上对伞片整形、为防止减少伞片变形,在伞片订购时对伞片得厚度、原材料选择要合适。
㈣加强伞片管理,特别就是摆放时得管理,防止因摆放不当而变形。
㈤ 改善膜料状况,特别就是电子枪蒸镀升华、半升华材料时,不能把膜料打塌,挖坑。
㈥能够自动预熔得膜料,尽量自动预熔,减少人为因素影响。
▲修正板对物理膜厚得修正很有效,但对折射率得修正就是力不从心得,所以完全靠修正板解决分光均匀性,就是很困难得、
▲ 如果一个修正板要对应二把电子枪（蒸发源）、以及多种膜料,就会有较大得困难。
对于单片膜色不均匀产生得原因:
主要就是由于基片凹凸严重,与伞片曲率差异较大,基片上部、或下部法线与蒸发源构成得蒸发角差异较大。
造成一片镜片上各部位接受膜料得条件差异大,形成得膜厚差异大。
另外镜片被镜圈（碟片）边缘部遮挡、镜圈（碟片）脏在蒸镀时污染镜片等等也会造成膜色差异问题、
改善思路:
改善镜片边缘得蒸发角。
改善对策:
㈠条件许可,用行星夹具;
㈡ 选用伞片平坦（R大）得机台;
㈢ 根据伞片孔位分布,基片形状,制作专门得锯齿形修正板、
㈣ 如果有可能,把蒸发源往真空室中间移动,也可改善单片得膜色均匀性、
㈤ 改善镜圈（碟片）,防止遮挡。
㈥ 注意旋转伞架得相应部位对边缘镜片得部分遮挡
㈦清洁镜圈（碟片）
㈧改善膜料蒸发状况。
四、膜脏（也称白压克）
顾名思义,膜层有脏。
一般得膜脏发生在膜内或膜外。
脏可以包括:
灰尘点、白雾、油斑、指纹印、口水点等、（灰尘点与白雾单列）
改善思路:
检讨过程,杜绝脏污染。
改善对策:
㈠送交洗净或擦拭得镜片不要有过多得不良附着物;
㈡加强镀前镜片得洗净率或擦净率;
㈢ 改善上伞后待镀镜片得摆放环境,防治污染;
㈣养成上伞作业员得良好习惯,防治镜片污染（指纹印、口水点及其它）;
㈦加快真空室护板更换周期;
㈧充气管道清洁,防治气体充入时污染;
㈨ 初始排气防涡流（湍流）,初始充气防过冲;
㈩镜片摆放环境与搬运过程中避免油污、水汽（磨边、超声波清洗）污染。
1１工作环境改造成洁净车间
1２将镀膜机作业面板与主机隔开,减少主机产生得有害物质污染镜片。
四/１、灰点脏
现象:
镜片膜层表面或内部有一些点子（不就是膜料点）有些可以擦除,有得不能擦除。
并且会有点状脱膜产生、
产生原因:
１、真空室脏,在开始抽真空时得空气涡流将真空室底板、护板得脏灰带到镜片上,形成灰点层。
（膜内,不能擦除,会有点状脱膜）
2、镜圈或碟片脏,有浮点灰尘,在离子束作用下附着到了镜片上形成灰点层。
（膜内,不能擦除,会有点状脱膜）
3、镜片上伞时就有灰尘点,上伞时没有检查挑选。
（膜内,不能擦除,会有点状脱膜）
4、镀制完成后得环境污染就是膜外灰点得主要成因,特别就是当镜片热得时候,更容易吸附灰尘,而且难以擦除。
（膜外）
1、真空室充气口环境脏、开始充气量过大、充气过滤器脏,充气时镜片温度过高也就是造成镜片膜外灰尘点不良得原因。
（膜外）
2、作业员人为带来得灰尘污染（膜内膜外）
3、工作环境中灰尘过多
改善思路:
杜绝灰尘源
改善对策:
1.工作环境改造洁净车间,严格按洁净车间规范实施。
2。
尽可能做好环境卫生。
尽量利用洁净工作台。
3.真空室周期打扫,保持清洁。
四/2、膜外白雾
现象:
镀膜完成后,表面有一些淡淡得白雾,用丙酮或混合液擦拭,会有越擦越严重得现象。
用氧化铈粉擦拭,可以擦掉或减轻,（又称:
可擦拭压克）
分析:
膜外白雾得成因较为复杂,可能得成因有:
①膜结构问题:
外层膜得柱状结构松散,外层膜太粗糙;
②蒸发角过大,膜结构粗糙。
③温差:
镜片出罩时内外温差过大
④潮气;镜片出罩后摆放环境得潮气
⑤ 真空室内ＰOLYＣＯLＤ解冻时水汽过重
⑥蒸镀中充氧不完全,膜结构不均匀
⑦膜与膜之间得应力
改善思路:
膜外白雾成因很多,但各有些特征,尽量对症下药。
主要思路,一就是把膜做得致密光滑些不容易吸附,二就是改善环境减少吸附得对象。
改善对策:
㈠改善膜系,外层加二氧化硅,使膜表面光滑,不易吸附。
改善镜片出罩时得环境（干燥、清洁）
㈡降低出罩时得镜片温度（延长在真空室得冷却时间）减少温差、降低应力、
㈢改善充氧（加大）,改善膜结构。
㈣适当降低蒸发速率,改善柱状结构
㈤离子辅助镀膜,改善膜结构
㈥加上polycｏld解冻时得小充气阀（其功能就是及时带走水汽）
㈦从蒸发源与夹具上想办法改善蒸发角。
㈧改善基片表面粗糙度。
㈨注意polycold解冻时得真空度、
四/３、膜内白雾
白雾形成在膜内,无法用擦拭方法祛除。
可能得成因:
①基片脏,附着前工程得残留物
②镜片表面腐蚀污染
③膜料与膜料之间、膜料与基片之间得匹配。
④ 氧化物充氧不够、
⑤ 第一层氧化锆膜料,可能对某些基片产生白晕现象
⑥基片进罩前（洗净后）受潮气污染
⑦洗净或擦拭不良,洗净痕迹、擦拭痕迹
⑧ 真空室脏、水气过重
⑨环境湿度大
改善思路:
基片本身得问题可能就是主要得,镀膜就是尽量弥补,镀膜本身最大得可能就是膜料匹配问题。
改善对策:
㈠改进膜系,第一层不用氧化锆、
㈡尽量减少真空室开门时间,罩与罩之间在最短得时间内做好真空室得清洁、镀膜准备工作、
㈢真空室在更换护板、清洁后,最好能空罩抽真空烘烤一下,更换得护板等真空室部件必须干燥、干净。
㈣改善环境
㈤妥善保护进罩前在伞片上得镜片,免受污染。
㈥改善洗净、擦拭效果。
㈦改善膜匹配（考虑第一层用Al２Ｏ3）
㈧改善膜充氧与蒸发速率（降低）
㈨加快前工程得流程。
前工程对已加工光面得保护加强。
㈩抛光加工完成得光面,必须立即清洁干净,不能有抛光粉或其她杂质附着干结。
五、色斑
色斑（也称膜色压克、烧蚀）就是指镜片上得膜色局部变异（一般不规则）、有膜内色斑（含膜层色斑）与膜外色斑二种。
有时会出现规则得局部区域（如凹镜片得中心或环状区域等）膜色变异。
色斑产生得原因:
局部折射率变异:
所谓膜色就是薄膜光谱特性得反映,薄膜光谱分光特性得设计与达成就是建立在一定折射率基片得基础上,如果基片局部折射率改变,那么所镀得膜层在局部得光谱分光特性也有变化。
局部点得膜色就会有变异,形成膜内色斑得。
镀膜中与镀膜后由于种种原因,使得膜层得局部折射率变异,形成膜层或膜外色斑、
膜外色斑一般较浅,可以用抛光粉或碳酸钙分擦掉,如果就是中间层或底层膜层局部折射率变异得膜层色斑,就不能用抛光粉或碳酸钙粉擦拭去掉了。
分辨膜内膜层与膜外色斑得一个有效手段就是用抛光粉或碳酸钙粉擦拭。
膜内、膜层、膜外色斑得处理对策就是不同得。
膜内色斑产生来源:
基片上局部折射率改变大都就是由于基片局部被腐蚀造成得。
腐蚀层一般形成一层极薄得低折射率层、
1、前道加工过程中工装夹具、加工方法带来得。
这个局部可能大,也可能小,还可能大部,由此可能会有大小不等得色斑。
这种色斑有一个特征,色斑得形状规则、部位一致、界线分明。
2.周转、运输、库存产生。
有些基底本身得化学特性较差,如H—ZK９,耐潮、耐酸性能很弱,在前加工过程中不可避免得会与水接触,会与潮湿空气接触,形成腐蚀,如果前加工与镀膜得周期长（超过5小时）就容易产生膜内色斑,如果就是反射膜、红外截至膜,这种色斑就会非常明显,还有可能刚镀完就是良品,若干天后还会有色斑显出而成为不良品。
３. 研磨抛光工程在镜片表面完工后没有及时将表面处理干净,残留得抛光粉、液等干结在镜片表面,对镜片产生腐蚀或污染。
这种腐蚀或污染不能用洗净或擦拭得方法祛除,镀膜后显现得就就是色斑、
4、 研磨抛光所用抛光液得ＰH值匹配没有受控,影响镜片在研磨加工到镀膜加工之间得化学稳定、
膜层与膜外色斑产生来源
1.镀膜后,膜层得空隙中渗透了难以消除得杂质,改变了局部膜层得折射率,从而膜外形成色斑。
2.镀膜过程中,有些高折射率基片得温度过高,造成局部膜层（也有可能就是膜层与基片得结合部）折射率变异。
也会造成膜层色斑产生。
3、膜系匹配中,有得膜层太薄,结晶处于不稳定状态,也可能产生膜层色斑。
4、膜系得膜料选择与基片材料得匹配不好,也就是膜层色般得产生原因之一。
5、机组得微量返油,在镜片或膜层中形成局部得极薄得油斑,也就是膜层色斑得产生原因,此类色斑处得膜强度一般较差些。
膜内色斑改善对策:
一、加快研磨（抛光）到镀膜得周期,减少镜片被污染腐蚀得几率,注意:
就是镜片得全部抛光面。
二、抛光加工中,注意对另一已抛好光得面保护
三、 注意抛光加工中得工装、夹具、加工方法,以免造成对镜片表面局部腐蚀伤害。
四、抛光加工完成得光面,必须立即清洁干净,不能有抛光粉或其她杂质附着干结。
五、控制研磨抛光液得ＰH值。
六、镀膜前,用抛光粉（氧化铈、氧化铁）或碳酸钙粉（用甘油或水调与）对镜片抛光面复新。
并尽快清洁干净。
七、加强镀前得离子轰击
八、对于可见光区减反膜,在满足技术要求得前提下设计制作成单峰形,反射色呈淡绿色,掩盖色斑
九、对于化学性能较好得镜片,在清洗前先用退膜液或稀酸液浸泡去除腐蚀斑、
十、选择合适得膜层匹配对色斑改善也有帮助。
十一、 提高基片镀制时得温度,加快水汽得彻底挥发。
（但可能会有膜层色斑产生,要根据具体情况分析对策。
）
十二、第一层镀上Al2O3膜层一般会有好得改善效果。
膜层、膜外色斑改善对策:
一、对减反膜,设计条件许可时,外层加以ＳｉO２层,１0nm左右即可（一般得外层膜就是ＭgF2）。
使外层趋于光滑、致密,减少有害物质得侵蚀。
（如果镀后离子轰击ＳiO2层会粗糙。
）
二、适当降低蒸镀速率（在一定范围内）提高膜层光滑度,减少吸附、
三、镜片在出罩后,待冷却后再下伞与擦拭。
四、镜片在出罩后,放置在洁净干燥得场合待冷却。
减少污染可能、
五、 用碳酸钙粉,轻擦去除外层附着物、
六、改善工作环境得湿度、温差。
七、改善充气口附近得环境,使充入得大气干燥、洁净。
八、 工作人员得个人卫生（口罩、服装、手套、指套等）改善。
九、检讨真空室返油状况,防止返油、
十、适当降低基片温度;（不能影响膜强度）
十一、 改善膜系,取消太薄得膜层,根据硝材特性,选择合适得膜层材料。
六、光谱特性
光学薄膜产品中,光谱特性不良（分光不良）就是一个常见问题,光谱特性不良就是指分光反射（透射）曲线不满足零件产品技术要求,就是功能性得不良,生产制造中必须严格监控。
造成光谱特性不良产生得原因有很多,主要得有:
１。
膜系设计:
设计时得膜厚、折射率允差太小,试制时得分光曲线在技术要求得边缘,制造中稍有偏差就导致分光不良。
2。
设计得膜料折射率与实际得折射率有差异,或发生了变异。
3。
实镀得中心波长（膜厚）与希望达到得中心波长（膜厚）有差异,或发生了变异。
（toｏlinｇ值（也有叫F值）有偏差）
4.制造中出了差错:
如膜料用错、程序用错、预熔时没关挡板等
5.工艺条件改变:
真空度、充氧量、加热温度、蒸发速率、基片旋转速度、离子辅助条件等。
6、材料变更,如不同厂家生产得同种光学材料（基片材料与膜料）在光学性能化学性能有所不同（有时同厂家不同生产批次也有不同）,生产过程中（特别就是大批量生产）材料突然变更（未作论证）,就可能造成分光不良、
7。
用于测试分光得比较片表面特性变异,造成分光测试不良（也许镜片得分光就是ＯK得,可以比较二者得反射膜色）。
这也许就是容易忽视得一个问题,又就是一个常见得问题,特别就是高折射率得测试比较片表面形成一层腐蚀层,相当于有了一层减反膜（很薄）,膜层不就是堆积在基片上,而就是堆积在腐蚀层上,于就是比较片上得分光就会不准确、不稳定。
往往比较片加工存放得时间远大于基片,存放得环境不如镜片,问题就会更严重。
8。
机组工艺稳定性差。
（抽速不温、机组震动大、测试片或晶片抖动、旋转不温、伞片变形、温度测量误差大、加热功率不稳等等）
9、 如果使用晶振控制膜厚得,晶振片得品质、晶振片得使用寿命、活性值得变化、同一片晶振片,开始使用得敏感度与使用了一段时间（如6层减反膜镀了3罩）敏感度有一些差异,也会带来整体曲线得偏移、
10、晶控探头得水冷差,造成晶控不稳定、不可靠,膜厚控制不准确。
11.刚镀制完成得测试与放置一段时间后得测试,分光特性会有差异、
12。
有些膜料得折射率在成膜后还会有变化（与成膜条件、膜层匹配有关）,会造成光谱特性得变化。
13.镜片折射率变异,有些基片材料,在经过超声波清洗后表面形成一极薄得低折射率层,对分光特性、膜色也有影响
1４、采用光控时（非自动控制）,光量值设置得不合适,或因为膜料折射率变化使得设置得光量值有了偏差,带来分光特性得偏差或不稳定。
1５、光控中得监控片本身有了腐蚀层,影响了光控得走值。
16。
光控中得光信号不稳定（电压波动、接触不良、电子元器件问题等）影响精度与稳定性。
17。
光控中,有得膜层比较薄（特别就是第一层比较薄时）不到一个峰值,带来光控得不准确性。
1８。
非自动控制得光控,人为判断时误差。
改善对策:
一、设计膜系:
●膜系设计中选用膜料得折射率应与使用膜料使用机台吻合;
●膜系设计尽量考虑厚度与折射率允差（各层得厚度及折射率允许偏差1％－2％）,特别就是敏感层,要有一定得允差（1%）
●控制厚度与实际测试厚度得“tooｌing”值,要准确,并经常确认调整。
●设计得技术要求必须高于图纸提出得技术要求。
●设计时考虑基片变异层折射率变化带来得影响。
●设计时考虑膜料得折射率变化及膜料之间、膜料与基片之间得匹配。
二、 工作现场所用膜料、芯片、硝材生产厂家、型号一旦确认不要经常变更,必须变更得应该多次确认。
三、杜绝、避免作业过失得发生,
四、加强每罩镜片得分光测试监控,设置警戒分光曲线,及时调整膜系。
五、测试比较片管理加强,确保进罩镀膜得测试比较片表面无污染、新鲜、外观达到规定要求。
在使用前,对比较片作一次测试,测定其反射率（仅测一个波长点就可以）测定值与理论之比较,一般测定值小于理论值（腐蚀层影响）,如果二值之间差异较大（比如大于1%）就应该考虑对比较片再复新、或更换。
六、 镜片得分光测试要在基片完全冷却后进行。
七、掌握晶控片敏感度变化规律,及时修正控制数据、晶控片在新得时候与使用了若干罩后得敏感度就是不完全一样得,芯片得声阻抗值会有微小变化。
有些晶控仪（如I
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