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存储器及其接口

一、分类

按元件组成:

半导体M,磁性材料存储器(磁芯),

激光存储器

按工作性质:

内存储器:

速度快,容量小(64K〜8Gbyte)

外存储器:

速度慢,容量大(20MB〜640GB)

二、半导体存储分类

RAM

SRAM静态

DRAM动态

IRAM集成动态

ROM

掩膜ROM

PROM可编程

EPROM可改写

EPROM可电擦除

三、内存储器性能指标

1.容量M可容纳的二进制信息量,总位数。

总位数=字数×字长bit,byte,word

2.存取速度

内存储器从接受地址码,寻找内存单元开始,到它

取出或存入数据为止所需的时间,TA。

TA越小,计算机内存工作速度愈高,半导体M存储

时间为几十ns〜几百nsns=mus

3.功耗

维持功耗操作功耗

CMOSNMOSTTLECL

(低功耗.集成度高)(高速.昂贵.功耗高)

4、可靠性

平均故障间隔时间

MTBF(MeanTimeBetweenFailures)

越长,可靠性越高.跟抗电磁场和温度变化的能力有关.

5、集成度

位/片1K位/片〜1M位/片

在一块芯片上能集成多少个基本存储电路

(即一个二进制位)

四、存储器的基本结构

随机存储器RAM或读写存储器

一、基本组成结构

存储矩阵

寄存二进制信息的基本存储单元的集合体,为便于读写,基本存储单元都排列成一定的阵列,且进行编址。

N×1—位结构:

常用于较大容量的SRAM,DRAM

N×4

N×8—字结构常用于较小容量的静态SRAM

2、地址译码器

它接收来自CPU的地址信号,产生地址译码信号。

选中

存储矩阵中某一个或几个基本存储单元进行读/写操作

两种编址方式:

单译码编址方式.双译码编址方式

(字结构M)(复合译码)

存储容量

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