TFT工艺流程材料设备生产常用中英文标准名称2.docx

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TFT工艺流程材料设备生产常用中英文标准名称2

TFT工艺流程、材料、设备、生2

产常用中英文标准名称.

一.TFT工艺流程中英文标准名称

ArrayProcessFlow

阵列段工艺流程

Input投料

Unpacking

拆包装

Initialclean

预备清洗

Particlecount

尘埃粒子测试

Gate栅电极层

Cleanbeforedepo

成膜前清洗

Gate(Mo/Alalloy)Filmdepo

栅电极成膜

RSmeter

电阻测量

MacroInspection

宏观检查

CleanbeforePR

涂胶前清洗

Prebake

预烘

PRCoating

光刻胶涂布

PRvacuumdry(VCD)

光刻胶低压干燥

PRsoftbake

前烘

Expose

曝光

TitlerExpose/EdgeExpose

打标/边缘曝光

Develop

显影

PRhardbake

坚膜

ADI

显影后自动光学检查

Mic/MacInspection

宏微观检查

CDafterdevelop

显影后关键尺寸检查

Totalpitch

长寸测量

GateWetetch

栅电极湿刻

Contactangle

接触角测量

PRstrip

光刻胶剥离

CDafteretch

刻蚀后关键尺寸测量

AEI

刻蚀后自动光学检查

Micro/MacroInspection

宏微观检查

LaserRepair

激光修补

层Active

Cleanbeforedepo

成膜前清洗

Activefilmdepo

成膜Active

AOI

自动光学检查

MacroInspection

宏观检查

ThicknessMeasurement

厚度测量

CleanbeforePR

涂胶前清洗

Prebake

预烘

PRCoating

光刻胶涂布

PRvacuumdry

光刻胶低压干燥

PRsoftbake

前烘

Expose

曝光

Develop

显影.

PRhardbake

坚膜

ADI

显影后自动光学检查

Mic/MacInspection

宏微观检查

ActivefilmDryetch&Ashing

Active膜干刻与灰化

ThicknessMeasurement

厚度测量

PRstrip

光刻胶剥离

AEI

刻蚀后自动光学检查

Mic/MacroInspection

宏微观检查

S/D源/漏电极层

Cleanbeforedepo

成膜前清洗

S/DMofilmdepo

源/漏电极成膜

RSmeter

电阻测量

MACROInspection

宏观检查

CleanbeforePR

涂胶前清洗

Prebake

预烘

PRCoating

光刻胶涂布

PRvacuumdry

光刻胶低压干燥

PRsoftbake

前烘

Expose

曝光

Edgeexpose

边缘曝光

Develop

显影

PRhardbake

坚膜

ADI

显影后自动光学检查

MIC/MACInspection

宏微观检查

CDafterdevelop

显影后关键尺寸检查

Hardbakebyoven

烘炉坚膜

S/DMoWetetch

漏电极湿刻源电极/

n+a-SiDryetch

n+高掺杂膜干刻

PRstrip

光刻胶剥离

ThicknessMeasurement

厚度测量

CDafteretch

刻蚀后关键尺寸测量

AEI

刻蚀后自动光学检查

Micro/MacroInspection

宏微观检查

CleanbeforeO/Stest

开路测试前清洗短路/

Open/ShortTest

短路/开路测试

Passivation保护层

Cleanbeforedepo

成膜前清洗

Pass'nfilmdepo

保护膜成膜

AOI

自动光学检查

MACROInspection

宏观检查

ThicknessMeasurement

厚度测量

CleanbeforePR

涂胶前清洗

Prebake

预烘

PRCoating

光刻胶涂布.

PRvacuumdry

光刻胶低压干燥

PRsoftbake

前烘

Expose

曝光

Edgeexpose

边缘曝光

Develop

显影

PRhardbake

坚膜

ADI

显影后自动光学检查

Micro/MacroInspection

宏微观检查

SinXDryetch&ASHING

氮化硅干刻与灰化

PRstrip

光刻胶剥离

AEI

刻蚀后自动光学检查

Micro/MacroInspection

宏微观检查

ITOITO层

CleanbeforePR

成膜前清洗

a-ITOfilmdepo

ITO成膜

RSmeter

电阻测试

Anneal

煺火

MacroInspection

宏观检查

CleanbeforePR

涂胶前清洗

Prebake

预烘

PRCoating

光刻胶涂布

PRvacuumdry

光刻胶低压干燥

PRsoftbake

前烘

Expose

曝光

Develop

显影

PRhardbake

坚膜

ADI

显影后自动光学检查

Micro/MacroInspection

宏微观检查

ITOfilmetch

ITO膜湿刻

PRstrip

光刻胶剥离

AEI

刻蚀后自动光学检查

Micro/MacroInspection

宏微观检查

FinalE/T最终电测

Anneal

煺火

Arraytest

阵列测试

Arrayrepair

阵列修补

TEGtest

TEG测试

Sort

分级

CellProcessflow

制盒段工艺流程

CFInput彩膜投料

CFInitialClean

彩膜预备清洗

CFAOI

彩膜自动光学检查

CFSort

彩膜分级

PI配向膜

CleanbeforePI

配向膜涂布前清洗

PIPrint

配向膜涂布

Pre-cure

预固化

PIInspection

配向膜检查

PIThickness

配向膜厚度测量

Main-cure

固化

PIrework

配向膜返工

ODF

CF&TFTMatching

CF&TFT匹配

Rubbing

配向摩擦

RubbingInspection

摩擦检查

Loader&Unloader

/下料机上料机

Buffer

缓冲器

CSTBuffer

工装栏缓冲器

Rotation/CoolingUnit

冷却单元旋转/

TurnAlignUnit

对位单元旋转/

TurnOverUnit

翻转单元

AfterRubbingCleaner

摩擦后清洗

SpacerSpray

衬垫球散布

SpacerCounter

衬垫球计数

Spacerrework

衬垫球返工

SpacerCure

衬垫球附着固化

ShortDispense

导电胶涂布

SealantDispense

边框胶涂布

SealInspection

边框胶检查

LCDispense

液晶滴下

VacuumAssembly

真空贴合

UVCure

紫外线固化

Mis-alignmentcheck

错位检查

SealOven

边框胶热固化

EyeInspection

目视检查

CellgapMeasurement

盒厚测试

Cutting切割

1/4(1/6)SheetCutting,

1/4(1/6)切割

StickCutting,

切条

CellCutting

切粒

VisualTest

测试Visual

ECP

EdgeGrind

磨边

Dippingclean

浸泡式清洗

CleanbeforePol

贴片前清洗

PolAttach

贴片

PolInspection

贴片检查

Polrework

贴片返工.

AutoClave

AutoClave

消泡

Laser

LaserTrimmer

激光切线

TrimmerTest测试

GrossTest

终检

Repair

修补

Binsorter

分级

OQCTest

出货检查

Store

货栈

ModuleProcessFlow

模块段工艺流程

COG

Padcleaning

端子清洗

ICBonding

IC邦定

MicroscopeInspection

镜检

Adhesivetest

粘接力测试

FOG

ACFAttaching

ACF粘贴

FOGBonding

FOG邦定

MicroscopeInspection

镜检

Peelingstrengthtest

拉力测试

ETtest1

1电测

ICorFPCRepair

修补

UVgluesealing

封胶

FPCrei

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