（3）如何设置一个合理的灯电流呢？
一是依靠经验、二是通过现场的数据；在经验方面Pb灯电流设定在6mA;Cd灯电流设定在4mA较为合适；由于灯的质量和性能有差异，在仪器条件确立后，通过【谱线轮廓】功能观察发射谱线有无饱和平顶、凹陷、毛刺现象。
总的来说发射谱线在紫外区域的阴极灯的电流设定的小一些为好；但有一些发射谱线在紫外区的元素灯需要大电流才能有效激发出能量，否则信噪比不良，如Fe、Bi灯（14mA）
为了兼顾信噪比和有效强度，可以通过减少小狭缝宽度来解决。
需要补充的是Z2000仪器给出的灯电流总体偏大，提请用户注意！
时间常数的设定方法
（1）在仪器设定条件中有一项内容是时间常数【TimeConstant】的设定；它的设定正确与否对测试结果影响较大。
（2）时间常数的本质是：
将一定数量的采样数据求和平均后得出光谱图和平均吸光度值；时间常数最小单位是20ms，即每隔20ms采集一次数据，在这种情况下得出的数据和图谱非常真实；但遗憾的是，这个数据重现性不好。
为了获得较好的重现数据我们一般将这个常数设得大一些；例如0.2ms，此时
0.2÷0.02=10,意味采集十次数据平均一次，且为滑动平均法；这就保证了结果的连续性。
（3）设定原则：
a）火焰法－时间常数得设定要小于计算时间即可，一般是1－2秒；
b）石墨炉法－由于原子化信号出峰较快，如果采用较长的常数会使出峰值大大降低，降低了灵敏度；同时信号峰会拖尾后移。
燃烧头的清洗方法
（1）正常的火焰形状在上部（即尾焰部）是月牙形，无断焰或跳焰，颜色呈天蓝色。
（2）当燃烧缝被堵塞或污染时，火焰形状会发生改变，如断焰、跳焰、锯齿焰、山峰焰等，同时颜色会发生改变（乙炔不纯除外），这就影响了测量结果的重现性；根据朗伯比尔定律：
ABS＝Log1/T×K×C×L
可以看出当燃烧缝两端被堵塞致使有效光程L变短，使吸光值大大下降，影响了灵敏度。
（3）清洗方法：
a）当轻微堵塞时，用皱纹名片纸擦拭即可；千万不能用滤纸，因为滤纸沾水后易破损使堵塞更加剧，加之缝隙处火焰温度低，残留的滤纸不能被烧尽，效果反而适得其反。
这是许多用户操作的误区。
b）当严重堵塞时，将燃烧头取下分解后把上盖部分翻转朝下放在搪瓷盘子中，用1：
1的盐酸浸泡（酸面只要浸到燃烧缝突起部即可）或用沾有盐酸的脱脂棉擦拭，注意：
此方法操作时间要短、否则破坏燃烧头的光洁性；清洗后要用蒸馏水充分冲洗不留余酸，以免腐蚀部件。
c）当上述方法无效时，用背部经砂轮打磨出锯齿的小号壁纸刀片轻轻拉通，千万不能用锋利的刀片粗鲁地刮刨，否则会使材质柔软的不锈钢燃烧峰被刮出锯齿，使火焰产生断焰。
雾化器的清洗方法
（1）雾化器严格的说是由两个器件组成；一个是在说明书中称为原子化器，俗称“喷嘴”的器件；另一个是撞击球器件；雾化器工作状态的好坏直接决定了样品的提升量及雾化效率，从而影响了灵敏度的高低。
（2）原子化器（喷嘴）的原理与清洗：
a）喷嘴的构造基本是由一个聚四氟乙烯腔体和一根铂金管组成；铂金管安装在腔体正中央，它的出口与腔体出口形成两个同心圆，管子的内管流通样品溶液；管子外壁与腔体出口形成的环状缝隙流通空气（也称原子化气）。
当原子化气供给时，在铂金管口形成一个很强的负压，于是溶液在外部大气压的作用下产生虹吸现象被强行提升到铂金管中并形成一股强大的水雾喷射出。
水雾的强弱对雾化效率的影响比重很大，可以说是决定性的。
b）由于样品前处理及过滤不彻底，物理颗粒和试剂成分往往将铂金管腔堵塞，直接影响到样品的提升量减少甚至不吸样，此现象通过进样毛细管可以观察到。
使用仪器附带的通丝即可解决。
使用通丝时一定注意从入口一次性穿入清通，不能往返拉锯式清通，否则会将铂金口拉豁形成梅花状使水雾偏离轴心，降低雾化效率，这种故障发生率较高，是用户误操作所致。
c）另有一种隐性堵塞故障不易被发现；当发生堵塞后用通丝清通无效时，用户往往束手无策。
其实质是空气中的油污将环状缝隙部分或全部堵塞，造成不能产生虹吸现象。
判断方法是:
将仪器条件的火焰方式改为“仅用空气”按下点火钮后（此时确保无火焰点燃）取出喷嘴，将毛细管插入水中观察水雾喷射有无或状态。
解决方法是：
将喷嘴移到水池边，用吸耳球吸满10％的硝酸并从喷嘴空气入口注入，反复几次后再用蒸馏水充分冲洗。
（3）撞击球的原理与清洗：
a）从喷嘴射出的水雾打到球面上进一步形成更细的水雾以利提高雾化效率。
影响雾化效率的原因有，一是撞击球破碎（不易被发现）；二是球表面被样品污染或酸腐蚀导致不光洁使雾化效率下降。
b）取出撞击球（取时要小心、注意钢卡不要弹到球颈处）放入烧杯中，用1：
1的盐酸浸泡直至干净为止。
燃烧头高度的设定方法
（1）燃烧头高度在仪器条件中已给出参考值，一般比较适宜；但在测量低含量及稳定性较差的样品时，通过模拟监视画面来调节，会使测量结果更加完美，此步骤往往被使用者忽略。
（2）测量火焰按照高度基本分为三个能层：
靠近燃烧缝部分成为底焰层；中间部分称为中间焰层；火焰的最上部称为尾焰层；其温度分布底焰层相对较低、尾焰层相对最高。
众所周知、被雾化后的样品在载气（空气）的作用下，快速通过火焰而被原子化，也就是说处于激发态的原子在火焰中停留的时间较短，这就是为何火焰分析法较石墨炉法灵敏度低的原因之一。
而且不同元素的基态原子密度在火焰能层中分布也是不均匀的；因此、为了使尽量多的基态原子被阴极灯所发射的谱线吸收，也就是提高吸光度值，过细地调整燃烧头的高度这一工作是必要的。
（3）调节方法：
仪器所有条件设定完毕并被确认后点火、取一浓度适中的标准样品并被吸入到燃烧器中；此时不必点击测量框，仅从模拟监测画面中观察样品信号线（红色）和背景信号线（蓝色）即可；当样品被原子化后，样品信号和背景信号均出现，此时上下微调燃烧头高度旋钮，使红色信号线朝增大方向变化，而背景信号不变化或朝减少方向变化为最佳燃烧头高度位置。
如果调节的结果是两个信号强度均增加是没有意义的，反而会使信号噪声加大。
火焰用磁钢的清洗方法
（1）磁钢是产生塞曼效应的关键部件；它的磁场强度决定元素发射谱线±Kδ和Kπ两个组分的分裂距离，如磁场强度下降，±Kδ与Kπ分裂距离短，即±Kδ组分过于靠近Kπ组分，在背景校正时将会发生校正过度现象；
正常背景校正后的吸光值是：
A＝（A+B）-B；
过度背景校正后的吸光值是：
Á＝（A+B）-（B+a）；Á＜A；
综上所述、保证磁钢的强度不下降是非常重要的。
（2）日立仪器火焰用磁钢强度是9000高斯单位；可以造成磁场强度下降的因素一般有三个：
1）热致效应；2）场致效应；3）撞击效应；由于现磁钢的极靴靠近火焰并长期被火焰烧烤，极易因热致效应造成场强下降，为此在仪器的设计上磁钢必须使用冷却循环水系统。
为了监视磁钢的温度变化，在两个极靴上贴有红色温度指示色带（有的用户不知其作用已将此带撕去），当温度超过75/℃时色带变黑。
既然有冷却循环水为何还会使磁钢因受热从而造成场强下降呢？
主要是极靴腔体内部长期被水垢附着后导热性能变差，尤其是使用自来水做为冷却水的用户更加危险。
另外极靴靠近火焰的一面极易受到样品的污染和腐蚀，在测量中容易产生干扰（例如测量铁元素尤为明显），为此日立公司在Z2000火焰用磁钢上使用了一种陶瓷与不锈钢相结合的专利技术。
（3）清洗方法：
a）极靴内部的清洗；首先将磁钢取下后倒置放在非金属容器（如塑料盆或搪瓷水池）中，将极靴两端的全部塑料软管拆下（此时四个螺纹接口全部朝上），用滴管将1：
1的盐酸从螺纹接口处徐徐滴入，注意不要注入太满，以不会腐蚀螺纹口为准；此时如反应剧烈说明极靴内部水垢过多，如盐酸溢出管口外及时用水冲洗以免腐蚀其他部件；清洗程度以再加酸而不反应为止，最后极靴内外用水反复清洗冲净擦干，固定用钢珠涂抹黄油。
b）极靴表面陶瓷的清洗；千万不能用锐利的器物刮刨表面否则陶瓷极易脱落，正确的方法是使用竹夹或竹筷夹持沾有盐酸的脱脂棉擦拭，待到污垢全部洗脱后用清水彻底洗净擦干。
石墨管、石墨环更换原则
（1）日立Z2000石墨管分为普通型（7J0－8885）、热解A型（7J0－8880）、杯型（7J0－8890）、热解平台型（7J0-8895）四种；常用的是热解型和普通型两种。
普通型使用寿命大约为120次，热解型使用寿命大约是500次。
石墨管的质量好坏在石墨炉分析法中起着举足轻重的作用。
（2）每次在进行石墨炉分析时，首先要检查石墨管的空白值情况；这里所说的空白值不是指样品空白的测定值，而是指管内无任何物质，仅仅是石墨管固有的吸光度值；一般正常情况下这个值要<0.008ABS，如果此值过大或变化大，就会使得测量值的重现性变差。
（3）当石墨管的空白值较大时，首先要判断是石墨管的原因还是石墨环的原因；简单的判断方法是：
换上一只新石墨管后再观察空白值情况，如有好转说明是管子有问题，反之是石墨环的问题；石墨环的原因是：
样品及试剂的残留物长期溅射到石墨环内壁产生了记忆效应，尽管石墨管可以做空烧处理但石墨环一是本身电阻小，工作电流在其上做功很小即产生的温度很低不足以将残留物烧尽，另一方面环外围有水冷循环装置其温度也升不上去，此时就要更换石墨环了。
（4）当测量结果重现性较差时首先观察石墨管在原子化开始瞬间发光状态；正常状态是：
石墨管由灰化阶段转为原子化阶段的瞬间，石墨管由中间迅速向两边延伸发光；如果是从两边向中间聚合发光则是石墨管与石墨环接触不良引起，此状态造成石墨管温度不稳定从而使测量值重现性不良。
根据经验此故障多由石墨环引起。
另外一种情况是石墨管产生了记忆效应，这可以通过更换新石墨管来判断；值得一提的是产生记忆效应的石墨管不要随便丢弃，它可能对其他元素的测量不产生记忆效应。
（5）当用同一样品做再现性对比时发现测量值逐渐变大，这反映石墨管的寿命将要终结；其原因是管壁越烧越薄，管子总体电阻变大，在恒流源的作用下，原子化温度逐渐提高，测量值随之变大，遇到这种情况就要更换新石墨管了。
造成重现性不良的另一种隐性故障是，热解管内壁涂层爆皮，它的摆动（载气引起）干扰了吸光值的真实性和重现性，此种故障较难发现。
石墨电极的清理方法
（1）石墨炉基本是由变压器次级绕组、石墨电极、石墨环和石墨管组成的一个闭环回路；
（2）石墨炉电源是一个恒流源，恒流源意味着只要温度确定下来，它提供的升温电流就不会改变；石墨管的阻值一般在0.01-0.03欧姆之间，这个阻值是很小的，但是在大电流（几百安培）的作用下，却可以得到几千度的高温。
从欧姆定律中知道，在串联电路中电流相等，那么每一个串联的电阻得到的功率是：
P＝I²×R，从公式中可以看出谁的阻值大谁得到的功率也大；在石墨炉回路中，石墨管要想得到最大温度则它的阻值是最大的，其他组件如石墨环、石墨电极、电缆的电阻值必须要远远小于0.03欧姆，事实上也是如此；一旦这个关系被破坏，石墨管的正常温度就会发生变化，一般是低于正常温度，造成这种结果的原因往往是石墨电极接触不良。
（3）判断方法：
a）在原子化温度不变的前提下，同一浓度的样品的吸光值明显降低或重现性不良；
b）在原子化阶段经常用手触摸触摸电极，如感觉发热则是电极接触电阻变大，正常情况下电极是冷的（冷却水温度过高另当别论）。
（4）产生原因：
a）电极与电极座（均是铜质材料）是依靠面与面紧密接触而导电的；在长期使用中由于橡胶密封啳的老化，冷却水会渗漏到接触面中间形成水垢或使电极接触面生锈造成接触电阻变大。
b）由于更换石墨环后，电极紧固螺丝没有旋紧，造成电极与电极座之间打火形成氧化层，使接触电阻变大。
（5）排除方法：
取一张400目的水砂纸放在平坦的玻璃板上，分别将两只电极底面沾上蒸馏水轻轻研磨，直至发光发亮为止；然后用乙醇清洗表面和载气通道。
Z-5000原子吸收自动进样器使用调整步骤
（1）将石墨管空烧一或三次（对新管而言）。
（2）打开石墨炉上盖。
（3）点击进样器调整快捷框，使进样臂移到石墨管上方，利用上下调整旋钮将进样针尖调整到石墨管进样孔的中央，并保持在三毫米的距离（防止进行下步时，针尖碰弯），此步为粗调。
（4）再次点击快捷框，进样针落在管内，利用上下，前后，左右三个调整旋钮，使针保持在进样孔的中央，并使针尖调整到距管子底部最合适的高度（进样量10微升时保持在0.5毫米，进样量20微升时保持在1毫米）。
利用牙医镜观察，同时请在阴极灯光束出口处放置一张称样纸可减少光量便于清晰观察针尖高度及吐样情况，此步为细调。
（5）再次点击快捷框，进样针返回清洗杯中，调整完毕。
（6）将石墨炉上盖盖好。
直流塞曼与交流塞曼的不同点
塞曼效应应用于原子吸收光谱背景校正技术的原理既是将待测元素空心阴极灯的发射谱线在磁场（无论是直流磁场还是交流磁场）的作用下直接分裂成两束光，直流塞曼与交流塞曼最大的不同在于各自检测这两束光的方式不一样。
直流塞曼用的是永磁，偏振方向与磁场平行（P‖）时检测原子吸收信号+背景吸收信号；偏振方向与磁场垂直（P⊥）时检测背景吸收信号,两个信号差减完成背景校正。
由此很容易实现全程序，全时段、全过程的实时双光束检测；Z-5000AAS完成一个检测周期仅需20mS,也就是说它的时间差误差最低；由于采集的是塞曼分裂以后的信号且时间一致，所以无光谱干扰，无中心波长位移，无背景校正不完全——轻松实现原样分析、原子化时只需30A1秒钟即可完成光控升温，轻松实现双向温控；这也是交流塞曼背景校正所永远无法实现的几大遗憾。
交流塞曼用的是电磁场，在正常的工作电流情况下（10~15A）检测待测元素对空心阴极灯发射谱线的吸收信号，此时检测的是原子吸收+背景吸收信号（这时引入了光谱干扰）；在原子化之前的1~2秒钟内强制待测元素的吸收谱线回零，然后给出大电流（50A调制磁感应强度到0.85特拉斯；70A调制磁感应强度到1。
00特拉斯；80A调制磁感应强度到1。
05特拉斯，塞曼效应只有在1。
05特拉斯的磁感应强度下才能保证使待测元素完成一级能级跃迁，谱线按一级塞曼分裂的情况正常分裂，反之亦反。
）使待测元素的吸收谱线发生塞曼分裂，此时检测背景吸收信号，同样这两个信号差减完成背景校正。
由此，交流塞曼用于原子吸收的背景校正由于截取信号的时间、方式不一致直接导致校正的严重滞后——不能实现全程序，全时段、全过程的实时双光束检测；无端引入光谱干扰、截取的两个信号不一致造成中心波长位移；磁感应强度直接影响谱线的分裂造成背景校正的不完全——不能实现原样分析；50~80A的大电流使瞬间脉冲增大、噪音增大——小信号淹没在噪声里使检出限增高；且大电流增加实验室电网的负荷——直接造成原子化之前2~3秒钟的黑屏或全部死机。
简述石墨炉分析与火焰测定有哪些不同的思考方法
一．干扰：
●基体干扰：
石墨炉干扰比火焰多很多用一张图简要说明
特征辐射在火焰中观察到的是温度相对稳定而又均匀的区间，光束方向与温度梯度方向垂直。
石墨炉正相反，光束方向与温度梯度的方向是一致的。
再加上温度随时间的变化，分析物原子蒸汽的形成和消失过程始终不在热平衡中，其热解离过程变得不可控制。
这就形成了气相干扰。
●气相干扰是非光谱干扰，（我在这里引用IUPAC即国际纯粹和应用化学联合会的定义*）不能用背景校正的方法解决。
反之。
如果发现背景吸收（在进行背景校正时），必须同时观察其对原子吸收的影响，高背景意味着高浓度的基体蒸汽，分子的光解离（分子吸收）必然影响待测物的解离平衡。
在背景吸光度很高时，通常（此时）对原子吸收信号有抑制，甚至可能出现双峰。
（为什么要观察全部原子化信号就是这个道理）
●光谱干扰，石墨炉原子吸收光谱干扰比火焰中多
共存物吸收线的重叠：
（1）石墨炉原子化器的温度远远高于火焰原子化器,许多元素的非灵敏线由于处于该能级跃迁的原子个数随温度增高而大量增加.原来不易观察到的吸收谱线出现了。
（2）.石墨炉原子吸收的灵敏度远高于火焰,也就是说,在原子化器内共存物的浓度可以很高,其干扰在火焰中观察不到而在石墨炉中会很明显。
背景衰减：
同样密集而停留时间长的共存物分子蒸汽，造成高背景衰减。
需要加入基体改进剂，有可能引起光谱干扰。
因此，石墨炉分析需要好的背景校正。
二．校正曲线
原子吸收中校正曲线变弯的因素有：
（1）.光谱通带中的非特征辐射;
（2）.绕过火焰的特征辐射;
（3）.光源辐射线的自吸变宽;
（4.）高浓度时,吸收线中心波长的位移;
（5.）光谱通带中存在两条或两条以上待测元素的特征谱线,并且它们的吸收系数不同;
（6）.电离干扰.
石墨炉中校正曲线更弯：
在石墨炉原子吸收光谱分析中
（2）不存在，但是由于原子蒸汽在石墨管截面是不均匀的，光束通过原子化器的不同部位（从截面看），如同有不同灵敏度的吸收，就是（5）变得极其普遍！
另外，由于原子蒸汽是一个生成消失的过程，只要停留时间不是很长，吸光度对于原子个数不是成正比的（即：
非线性的）。
（人们会发现，新旧石墨关校正曲线不同，旧石墨管得到的曲线要弯些，因为，原子蒸汽从管壁逸出，改变了信号的动力学特性。
你会发现，原子化停气校正曲线要弯些。
以注入不同浓度相同体积进行校正比注入相同浓度不同体积来校正好。
加入基体改进剂，延迟蒸发会使校正曲线变好，…等等）
不要试图一定用线性校正曲线。
三、石墨管
石墨炉分析中最不确定的因素是石墨管，有问题常找它；
石墨炉分析中最头疼的问题是污染。
容器，水，试剂，环境，操作都有可能；
石墨炉分析最忌讳总使用仪器里面的加热参数。
对不同的样品，不同批次的石墨管
都要进行试验。
灵敏度：
GFAAS的灵敏度的重要性：
一台石墨炉，如何提高其灵敏度很重要（这与火焰分析差别比较大）。
L’vov讨论“绝对分析”，计算各个元素的灵敏度的意义在此，W.Slavin讨论STPF概念，引入“无标准分析”意义也在此。
而马怡载先生则从另一角度来讨论即：
灵敏度的概念。
我在“石墨炉原子吸收分光光度法”一书中。
指出：
提高灵敏度，就是降低气相干扰，完全原子化。
提高灵敏度”，“完全原子化”，“无干扰”，继而“无标准分析”，“绝对分析”。
所有的概念是一致的。
目标是一致的。
有干扰，就不能完全原子化，就不能绝对分析，灵敏度也低！
但由此，我得到了一个表面上好像与此结论相反的推论：
GFAAS的灵敏度在商品仪器的广告中毫无意义，因为影响GFAAS的灵敏度的因素太多了，而且对于实际样品，问题要复杂得多。
影响GFAAS的灵敏度的各种因素如下
1．是否完全原子化？
▲有无灰化损失（在原子化前的丢失）
▲有无气相干扰（对原子吸收信号的抑制）
▲石墨管类型（是否会生成碳化物）
▲石墨炉的温度（热解离的好坏）
2．动力学因素
▲石墨管内径与吸收灵敏度（成反比）
▲升温速率（决定原子蒸气的生成时间τ1）
▲石墨炉的封闭性（决定原子蒸气的停留时间τ2）
▲载气流速（决定原子蒸气的停留时间τ2）
3．基体改进剂的使用
4．其它方法：
进样体积管内浓缩（相对灵敏度）
5．背景校正方法对灵敏度的影响
▲S-H法对灵敏度的影响
高低电流下分析线自吸的程度（因元素而异）
灯的工作条件
空心阴极灯的性能
▲ZAAS影响灵敏度的因素
塞曼分裂模型（不同分析线的正常或反常塞曼分裂）
磁感应强度
塞曼调制方式（交流或直流，纵向或横向，他们灵敏度不同）
以上1，2，3条对不同的元素灵敏度的影响可能是几倍甚至是几十倍。
说明，对于实际样品，分析者在其中的作用比任何其它因素重要！
！
！
（换言之，买仪器不要考虑灵敏度广告，分析时要时刻注意灵敏度。
）
2．信躁比：
信噪比在原子吸收中的概念经常出现，从公式看，它还直接与检出限有关。
火焰原子吸收中的噪声，在IUPAC和国标“分析光谱法-火焰原子吸收和原子荧光法词汇”中的描述极其精确：
a．来自光源的随机波动；
b．来自原子化器的随机波动；
c．吸喷空白溶液时的随机波动；
d．吸喷试样溶液时的随机波动。
L’vov在他1970年左右的“原子吸收光谱学”（有英文版，俄文版，没有翻译成中文）还有Inger的“光谱化学分析”中对这些进行了详尽的讨论。
这些原理同样可以运用于石墨炉分析。
关于石墨炉分析中的噪声，很少有人全面分析。
我只看到过Winefordner的文章，并在和
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