减薄抛光CMP工艺.docx
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减薄抛光CMP工艺
六、维护与保养:
1.要定期对减薄机的循环水及滤芯进行清洗和更换。
2.每次研磨/抛光工艺结束后要对台面进行清洗,并对陶瓷环及陶瓷托盘定期超声清洗。
3.发现减薄/研磨/抛光后片面度偏差过大应考虑对设备进行维护和检修,必要时要进行盘面修平和修锐工作。
4.注意观察各个步进电机润滑油液面的高度,定期补给。
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