半导体物理学刘恩科第七版课后答案分解.docx

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半导体物理学刘恩科第七版课后答案分解

第一章

1．设晶格常数为a的一维晶格，导带极小值附近能量Ec（k）和价带极大值附近能量EV（k）分别为：

Ec=

（1）禁带宽度;

（2）导带底电子有效质量;

（3）价带顶电子有效质量;

（4）价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化

解：

（1）

2.晶格常数为0.25nm的一维晶格，当外加102V/m，107V/m的电场时，试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。

解：

根据：

得

补充题1

分别计算Si（100），（110），（111）面每平方厘米内的原子个数，即原子面密度（提示：

先画出各晶面内原子的位置和分布图）

Si在（100），（110）和（111）面上的原子分布如图1所示：

（a）（100）晶面（b）（110）晶面

（c）（111）晶面

补充题2

一维晶体的电子能带可写为，

式中a为晶格常数，试求

（1）布里渊区边界；

（2）能带宽度；

（3）电子在波矢k状态时的速度；

（4）能带底部电子的有效质量；

（5）能带顶部空穴的有效质量

解：

（1）由得

（n=0，1，2…）

进一步分析，E（k）有极大值，

时，E（k）有极小值

所以布里渊区边界为

（2）能带宽度为

（3）电子在波矢k状态的速度

（4）电子的有效质量

能带底部所以

（5）能带顶部，

且，

所以能带顶部空穴的有效质量

半导体物理第2章习题

1.实际半导体与理想半导体间的主要区别是什么？

答：

（1）理想半导体：

假设晶格原子严格按周期性排列并静止在格点位置上，实际半导体中原子不是静止的，而是在其平衡位置附近振动。

（2）理想半导体是纯净不含杂质的，实际半导体含有若干杂质。

（3）理想半导体的晶格结构是完整的，实际半导体中存在点缺陷，线缺陷和面缺陷等。

2.以As掺入Ge中为例，说明什么是施主杂质、施主杂质电离过程和n型半导体。

As有5个价电子，其中的四个价电子与周围的四个Ge原子形成共价键，还剩余一个电子，同时As原子所在处也多余一个正电荷，称为正离子中心，所以，一个As原子取代一个Ge原子，其效果是形成一个正电中心和一个多余的电子.多余的电子束缚在正电中心，但这种束缚很弱,很小的能量就可使电子摆脱束缚，成为在晶格中导电的自由电子，而As原子形成一个不能移动的正电中心。

这个过程叫做施主杂质的电离过程。

能够施放电子而在导带中产生电子并形成正电中心，称为施主杂质或N型杂质，掺有施主杂质的半导体叫N型半导体。

3.以Ga掺入Ge中为例，说明什么是受主杂质、受主杂质电离过程和p型半导体。

Ga有3个价电子，它与周围的四个Ge原子形成共价键，还缺少一个电子，于是在Ge晶体的共价键中产生了一个空穴，而Ga原子接受一个电子后所在处形成一个负离子中心，所以，一个Ga原子取代一个Ge原子，其效果是形成一个负电中心和一个空穴，空穴束缚在Ga原子附近，但这种束缚很弱，很小的能量就可使空穴摆脱束缚，成为在晶格中自由运动的导电空穴，而Ga原子形成一个不能移动的负电中心。

这个过程叫做受主杂质的电离过程，能够接受电子而在价带中产生空穴，并形成负电中心的杂质，称为受主杂质，掺有受主型杂质的半导体叫P型半导体。

4.以Si在GaAs中的行为为例，说明IV族杂质在-V族化合物中可能出现的双性行为。

Si取代GaAs中的Ga原子则起施主作用；Si取代GaAs中的As原子则起受主作用。

导带中电子浓度随硅杂质浓度的增加而增加，当硅杂质浓度增加到一定程度时趋于饱和。

硅先取代Ga原子起施主作用，随着硅浓度的增加，硅取代As原子起受主作用。

5.举例说明杂质补偿作用。

当半导体中同时存在施主和受主杂质时，

若

（1）ND>>NA

因为受主能级低于施主能级，所以施主杂质的电子首先跃迁到NA个受主能级上，还有ND-NA个电子在施主能级上，杂质全部电离时，跃迁到导带中的导电电子的浓度为n=ND-NA。

即则有效受主浓度为NAeff≈ND-NA

（2）NA>>ND

施主能级上的全部电子跃迁到受主能级上，受主能级上还有NA-ND个空穴，它们可接受价带上的NA-ND个电子，在价带中形成的空穴浓度p=NA-ND.即有效受主浓度为NAeff≈NA-ND

（3）NAND时，

不能向导带和价带提供电子和空穴，称为杂质的高度补偿

6.说明类氢模型的优点和不足。

7.锑化铟的禁带宽度Eg=0.18eV，相对介电常数r=17，电子的有效质量

=0.015m0,m0为电子的惯性质量，求施主杂质的电离能，施主的弱束缚电子基态轨道半径。

8.磷化镓的禁带宽度Eg=2.26eV，相对介电常数r=11.1，空穴的有效质量m*p=0.86m0,m0为电子的惯性质量，求受主杂质电离能；受主束缚的空穴的基态轨道半径。

第三章习题和答案

1.计算能量在E=Ec到之间单位体积中的量子态数。

解

2.试证明实际硅、锗中导带底附近状态密度公式为式（3-6）。

3.当E-EF为1.5k0T，4k0T,10k0T时，分别用费米分布函数和玻耳兹曼分布函数计算电子占据各该能级的概率。

费米能级

费米函数

玻尔兹曼分布函数

1.5k0T

0.182

0.223

4k0T

0.018

0.0183

10k0T

4.画出-78oC、室温（27oC）、500oC三个温度下的费米分布函数曲线，并进行比较。

5.利用表3-2中的m*n，m*p数值，计算硅、锗、砷化镓在室温下的NC,NV以及本征载流子的浓度。

6.计算硅在-78oC，27oC，300oC时的本征费米能级，假定它在禁带中间合理吗？

所以假设本征费米能级在禁带中间合理，特别是温度不太高的情况下。

7.在室温下，锗的有效态密度Nc=1.051019cm-3，NV=3.91018cm-3，试求锗的载流子有效质量m*nm*p。

计算77K时的NC和NV。

已知300K时，Eg=0.67eV。

77k时Eg=0.76eV。

求这两个温度时锗的本征载流子浓度。

77K时，锗的电子浓度为1017cm-3，假定受主浓度为零，而Ec-ED=0.01eV，求锗中施主浓度ED为多少？

8.利用题7所给的Nc和NV数值及Eg=0.67eV，求温度为300K和500K时，含施主浓度ND=51015cm-3，受主浓度NA=2109cm-3的锗中电子及空穴浓度为多少？

9.计算施主杂质浓度分别为1016cm3，,1018cm-3，1019cm-3的硅在室温下的费米能级，并假定杂质是全部电离，再用算出的的费米能级核对一下，上述假定是否在每一种情况下都成立。

计算时，取施主能级在导带底下的面的0.05eV。

10.以施主杂质电离90%作为强电离的标准，求掺砷的n型锗在300K时，以杂质电离为主的饱和区掺杂质的浓度范围。

11.若锗中施主杂质电离能ED=0.01eV，施主杂质浓度分别为ND=1014cm-3j及

1017cm-3。

计算99%电离；90%电离；50%电离时温度各为多少？

12.若硅中施主杂质电离能ED=0.04eV，施主杂质浓度分别为1015cm-3，1018cm-3。

计算99%电离；90%电离；50%电离时温度各为多少？

13.有一块掺磷的n型硅，ND=1015cm-3,分别计算温度为77K；300K；500K；800K时导带中电子浓度（本征载流子浓度数值查图3-7）

14.计算含有施主杂质浓度为ND=91015cm-3，及受主杂质浓度为1.11016cm3，的硅在33K时的电子和空穴浓度以及费米能级的位置。

15.掺有浓度为每立方米为1022硼原子的硅材料，分别计算300K；600K时费米能级的位置及多子和少子浓度（本征载流子浓度数值查图3-7）。

16.掺有浓度为每立方米为1.51023砷原子和立方米51022铟的锗材料，分别计算300K；600K时费米能级的位置及多子和少子浓度（本征载流子浓度数值查图3-7）。

17.施主浓度为1013cm3的n型硅，计算400K时本征载流子浓度、多子浓度、少子浓度和费米能级的位置。

18.掺磷的n型硅，已知磷的电离能为０.０４４eV，求室温下杂质一半电离时费米能级的位置和浓度。

19.求室温下掺锑的n型硅，使EF=（EC+ED）/2时锑的浓度。

已知锑的电离能为0.039eV。

20.制造晶体管一般是在高杂质浓度的n型衬底上外延一层n型外延层，再在外延层中扩散硼、磷而成的。

（1）设n型硅单晶衬底是掺锑的，锑的电离能为0.039eV，300K时的EF位于导带下面0.026eV处，计算锑的浓度和导带中电子浓度。

（2）设n型外延层杂质均匀分布，杂质浓度为4.61015cm-3,计算300K时EF的位置及电子和空穴浓度。

（3）在外延层中扩散硼后，硼的浓度分布随样品深度变化。

设扩散层某一深度处硼浓度为5.21015cm-3,计算300K时EF的位置及电子和空穴浓度。

（4）如温度升到500K，计算中电子和空穴的浓度（本征载流子浓度数值查图3-7）。

21.试计算掺磷的硅、锗在室温下开始发生弱简并时的杂质浓度为多少？

22.利用上题结果，计算掺磷的硅、锗的室温下开始发生弱简并时有多少施主发生电离？

导带中电子浓度为多少？

第四章习题及答案

1.300K时，Ge的本征电阻率为47cm，如电子和空穴迁移率分别为3900cm2/（V.S）和1900cm2/（V.S）。

试求Ge的载流子浓度。

解：

在本征情况下，,由知

2.试计算本征Si在室温时的电导率，设电子和空穴迁移率分别为1350cm2/（V.S）和500cm2/（V.S）。

当掺入百万分之一的As后，设杂质全部电离，试计算其电导率。

比本征Si的电导率增大了多少倍？

解：

300K时，，查表3-2或图3-7可知，室温下Si的本征载流子浓度约为。

本征情况下，

金钢石结构一个原胞内的等效原子个数为个，查看附录B知Si的晶格常数为0.543102nm，则其原子密度为。

掺入百万分之一的As,杂质的浓度为，杂质全部电离后，，这种情况下，查图4-14（a）可知其多子的迁移率为800cm2/（V.S）

比本征情况下增大了倍

3.电阻率为10.m的p型Si样品，试计算室温时多数载流子和少数载流子浓度。

解：

查表4-15（b）可知，室温下，10.m的p型Si样品的掺杂浓度NA约为,查表3-2或图3-7可知，室温下Si的本征载流子浓度约为,

4.0.1kg的Ge单晶，掺有3.210-9kg的Sb，设杂质全部电离，试求该材料的电阻率n=0.38m2/（V.S）,Ge的单晶密度为5.32g/cm3,Sb原子量为121.8。

解：

该Ge单晶的体积为：

;

Sb掺杂的浓度为：

查图3-7可知，室温下Ge的本征载流子浓度，属于过渡区

5.500g的Si单晶，掺有4.510-5g的B，设杂质全部电离，试求该材料的电阻率p=500cm2/（V.S）,硅单晶密度为2.33g/cm3,B原子量为10.8。

解：

该Si单晶的体积为：

;

B掺杂的浓度为：

查表3-2或图3-7可知，室温下Si的本征载流子浓度约为。

因为，属于强电离区，

6.设电子迁移率0.1m2/（VS）,Si的电导有效质量mc=0.2