半导体器件物理复习总结题完整版本doc.docx

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半导体器件物理复习总结题完整版本doc

实用文档

 

半导体器件物理复习题

 

一.平衡半导体:

 

概念题:

 

1.平衡半导体的特征(或称谓平衡半导体的定义)

 

所谓平衡半导体或处于热平衡状态的半导体,是指无外界(如电压、电场、磁场或温度梯度

 

等)作用影响的半导体。

在这种情况下,材料的所有特性均与时间和温度无关。

 

2.本征半导体:

 

本征半导体是不含杂质和无晶格缺陷的纯净半导体。

 

3.受主(杂质)原子:

 

形成P型半导体材料而掺入本征半导体中的杂质原子(一般为元素周期表中的Ⅲ族元素)。

 

4.施主(杂质)原子:

 

形成N型半导体材料而掺入本征半导体中的杂质原子(一般为元素周期表中的Ⅴ族元素)。

 

5.杂质补偿半导体:

 

半导体中同一区域既含受主杂质又含施主杂质的半导体。

 

6.兼并半导体:

 

对N型掺杂的半导体而言,电子浓度大于导带的有效状态密度,

 

费米能级高于导带底(EFEc0);对P型掺杂的半导体而言,空穴浓度大于价带的有

 

效状态密度。

费米能级低于价带顶(

EF

Ev0)。

7.有效状态密度:

4

2mn*

3/2

在导带能量范围(Ec~

)内,对导带量子态密度函数

EEc与

gcE

h3

电子玻尔兹曼分布函数

fFE

E

EF

的乘积进行积分(即

exp

kT

实用文档

 

4

*

3/2

*

3

2

2mn

E

EF

2mnkT

n0

h3

EEcexp

dE)得到的Nc

2

称谓导带中

Ec

kT

h2

电子的有效状态密度。

42m*p

3/2

在价带能量范围(

~Ev)内,对价带量子态密度函数gvE

EvE与

h3

空穴玻尔兹曼函数fF

E

exp

EFE

的乘积进行积分(即

kT

Ev42m*p

3/2

2m*

3

kT2

EF

E

p0

h3

EvEexp

dE)得到的Nv

2

p

称谓价带空

kT

h2

 

穴的有效状态密度。

 

8.以导带底能量Ec为参考,导带中的平衡电子浓度:

 

Ec

EF

其含义是:

导带中的平衡电子浓度等于导带中的有效状态密度乘

n0Ncexp

kT

 

以能量为导带低能量时的玻尔兹曼分布函数。

 

9.以价带顶能量Ev为参考,价带中的平衡空穴浓度:

 

p0

EF

Ev

其含义是:

价带中的平衡空穴浓度等于价带中的有效状态密度乘

Nvexp

kT

 

以能量为价带顶能量时的玻尔兹曼分布函数。

 

4

2mn*

3/2

10.

导带量子态密度函数

gc

E

Ec

E

h3

4

2m*p

3/2

11.

价带量子态密度函数

gv

Ev

E

E

h3

3

12.

导带中电子的有效状态密度

Nc

2mn*kT2

2

h2

3

13.

价带中空穴的有效状态密度

Nv

2m*pkT2

2

h

2

实用文档

 

14.本征费米能级EFi:

 

是本征半导体的费米能级;本征半导体费米能级的位置位于禁带中央附近,

 

E

1

E

E

3

m*p

E

3

m*p

;其中禁带宽度

kTln

midgap

kTln

Fi

2

cv

4

mn*

4

mn*

EgEc

Ev。

 

15.本征载流子浓度ni:

 

本征半导体内导带中电子浓度等于价带中空穴浓度的浓度n0p0ni。

硅半导体,在

 

T300K时,ni1.51010cm3。

 

16.杂质完全电离状态:

 

当温度高于某个温度时,掺杂的所有施主杂质失去一个电子成为带正电的电离施主杂质;掺

 

杂的所有受主杂质获得一个电子成为带负电的电离受主杂质,称谓杂质完全电离状态。

 

17.束缚态:

 

在绝对零度时,半导体内的施主杂质与受主杂质成电中性状态称谓束缚态。

束缚态时,半导

 

体内的电子、空穴浓度非常小。

 

18.本征半导体的能带特征:

 

本征半导体费米能级的位置位于禁带中央附近,且跟温度有关。

如果电子和空穴的有效质量

 

严格相等,那么本征半导体费米能级的位置严格位于禁带中央。

在该书的其后章节中,都假

 

设:

本征半导体费米能级的位置严格位于禁带中央。

(画出本征半导体的能带图)。

 

19.非本征半导体:

 

进行了定量的施主或受主掺杂,从而使电子浓度或空穴浓度偏离了本征载流子浓度,产生多

 

子电子(N型)或多子空穴(P型)的半导体。

 

20.本征半导体平衡时载流子浓度之间的关系:

实用文档

 

n0p0nin0p0ni2,ni2NcNvexpEgNcNvexpVgT3expEg,

kTVtkT

 

本征载流子浓度强烈依赖与温度。

 

以本征费米能级为参考描述的电子浓度和空穴浓度:

EFEFi

p0

EFEFi

n0niexp

niexp

kT

kT

从上式可以看出:

如果

EF

EFi,可以得出n0p0nin0p0

ni2

,此时的半导体具有

本征半导体的特征。

上式的载流子浓度表达式既可以描述非本征半导体,

又可以描述本征半

导体的载流子浓度。

 

21.非本征半导体平衡时载流子浓度之间的关系:

 

n0p0ni2

,n0

niexpEFEFi

p0niexp

EFEFi

kT

kT

 

22.补偿半导体的电中性条件:

 

n0Nap0Nd1其中:

 

n0是热平衡时,导带中总的电子浓度;

 

p0是热平衡时,价带中总的空穴浓度;

 

NaNapa是热平衡时,受主能级上已经电离的受主杂质;

 

NdNdnd是热平衡时,施主能级上已经电离的施主杂质;

 

Na是受主掺杂浓度;Nd是施主掺杂浓度;pa是占据受主能级的空穴浓度;nd是占据施主

 

能级的电子浓度。

也可以将

(1)写成:

 

n0(Napa)p0Ndnd

2

 

在完全电离时的电中性条件:

 

完全电离时,nd0,pa0,有n0Nap0Nd3

 

对净杂质浓度是N型时,热平衡时的电子浓度是

实用文档

 

NdNa

NdNa

2

n0

ni2

4;

2

2

少子空穴浓度是:

p0ni2。

n0

 

对净杂质浓度是

P型时,热平衡时的空穴浓度是

NaNd

Na

Nd

2

2

5;

p0

2

ni

2

少子电子浓度是:

n

ni2

0

p0

 

理解题:

 

23.结合下图,分别用语言描述N型半导体、P型半导体的费米能级在能带中的位置:

 

24.费米能级随掺杂浓度是如何变化的?

 

利用n0

niexpEFEFi

p0niexp

EFEFi

可分别求出:

kT

kT

EFEFikTlnn0

;EFiEF

kTlnp0

6

ni

ni

如果掺杂浓度

Na

ni,且Na

Nd利用(5)式得到,

p0

Na;

如果掺杂浓度

Nd

ni,且Nd

Na利用(4)式得到,

n0

Nd;

 

带入(6)式得:

实用文档

 

EFEFi

Nd

;EFi

EF

Na

7

kTln

kTln

ni

ni

所以,随着施主掺杂浓度

Nd的增大,N型半导体的费米能级

EF远离本征费米能级

EFi向导

带靠近(为什么会向导带靠近?

;同样,随着受主掺杂浓度

Na的增大,P型半导体的费米

能级EF远离本征费米能级

EFi

向价带靠近(为什么会向价带靠近?

)。

25.费米能级在能带中随温度的变化?

 

由于,EFEFi

Nd

;EFiEFkTln

Na

8

kTln

ni

ni

温度升高时,本征载流子浓度

ni增大,N型和P型半导体的费米能级都向本征费米能级靠

近。

为什么?

 

26.硅的特性参数:

 

在室温(T300K时,)硅的

 

导带有效状态密度

Nc

2.81019cm3,

价带的有效状态密度

Nv

1.041019cm3;

本征载流子浓度:

ni

1.5

1010cm3

 

禁带宽度(或称带隙能量)Eg1.12eV

 

27.常用物理量转换单位

o

147810

1A10nm10m10mm10cm10m

3

1mil10in25.5m

1in25.4cm

1eV1.61019J

28.常用物理常数:

实用文档

 

Boltzmannsconstant

 

Electroniccharge

Freeelectronrestmass

Permeabilityoffreespace

Permittivityoffreespace

 

Planck,sconstant

 

ProtonrestmassSpeedoflightinvacuum

Thermalvoltage(T300K)

 

k1.381023J/K

8.62105eV/K

e

1.61019C

m0

9.111031kg

14107H/m

18.851014F/cm

8.851012F/m

h

6.625

1034J

s

4.135

1015eV

s

h

h

1.05410

34Js

2

M1.671027kgc2.9981010cm/s

kT

Vt0.0259V

e

kT0.0259eV

SiliconandSiO2properties(T

300K)

SiliconDieelectric

constantsi

11.7

8.85

1014F/cm

SiO2Dieelectric

constant

ox

3.9

8.85

1014F/cm

SiliconBandgapenergey

Eg

1.12eV

SiliconMobility

of

eletron

n

1350cm2/V

s

SiliconMobility

of

Hole

p

480cm2/V

s

Siliconelectronaffinity

4.01V

Siliconintrnsiccarriercondentrationni

1.5

1010cm3

PropertiesofSiO2

andSi3N4(T

300K)

SiO2

Si3N4

Energygap

9eV

4.7eV

Dielectricconstant

3.9

7.5

Meltingpoint

17000C

19000C

29.电离能的概念:

受主能级与价带能量的差值称谓受主杂质电离能

即Ea

Ev;

导带能量与施主能级的差值称谓施主杂质电离能

即Ec

Ed;

 

问:

实用文档

 

受主能级Ea在能带中的什么位置?

 

施主能级Ed在能带中的什么位置?

 

结合下图用语言描述。

 

计算能使玻尔兹曼近似成立的最大掺杂浓度及费米能级的位置。

 

解:

考虑T300K时对硅进行了硼掺杂,假设玻尔兹曼近似成立的条件是EFEa3kT,

 

已知硼在硅中的电离能是EaEv0.045eV,假设本征费米能级严格等于禁带中央。

 

T300K时,P型半导体的费米能级在

EFi与Ea之间,所以

EFi

Ec

Ev

EF

Ec

Ev

EaEv

EF

Ea

EF

2

2

Eg

Ea

Ev

EF

Ea

kTln

Na

2

ni

1.12

0.045

3

0.0259

0.0259ln

Na

2

ni

0.437

0.0259lnNa

ni

Na

niexp

0.437

1.51010exp

0.437

3.2

1017cm3

0.0259

0.0259

EFi

EF0.437eV

玻尔兹曼近似成立的最大掺杂浓度是

Na3.2

1017cm3

 

费米能级高于本征费米能级EFiEF0.437eV。

实用文档

 

二.半导体中的载流子输运现象与过剩载流子:

 

概念题:

 

30.半导体中存在两种基本的电荷输运机理,一种称谓载流子的漂移,漂移引起的载流子流

 

动与外加电场有关;另一种电荷输运现象称谓载流子的扩散,它是由杂质浓度梯度引起的(或理解为有“扩散力”存在引起的电荷输运)。

 

31.给半导体施加电场,载流子的漂移速度不会无限增大,而是在散射作用下,载流子会达到平均漂移速度。

半导体内主要存在着两种散射现象:

晶格散射和电离杂质散射。

32.载流子迁移率定义为载流子的平均漂移速度与所加电场的比值

vdp

vdn

电子

p

n

E

E

迁移率n和空穴迁移率

p既是温度的函数,也是电离杂质浓度的函数。

 

33.当所加的电场很小时,载流子的平均漂移速度与电场成线性关系;当电场强度达到

 

104Vcm1时,载流子的漂移速度达到饱和值107cms1。

 

34.载流子的漂移电流等于电导率与电场强度的乘积(jdrfE)电导率与载流子浓度、

 

迁移率成正比;电阻率是电导率的倒数。

 

35.载流子的扩散电流密度正比于扩散系数Dn,Dp和载流子浓度梯度。

 

非均匀杂质掺杂的半导体,在热平衡时,会在半导体内产生感应电场。

载流子的扩散系数与

 

Dn

Dp

kT

迁移率的关系称谓爱因斯坦关系:

Vt

n

p

q

练习题:

36.Calculatetheintrinsicconcentrationinsiliconat

T350KandatT

400K.

ThevaluesofNc

and

Nvvaryas

T3/2.Asafirstapproxi

-mation,neglect

any

variationof

bandgap

energy

temperature.Assume

thatthe

 

bandgapenergyofsiliconis1.12eV.thevalueofatT350Kis

实用文档

 

kT

0.0259

350

0.0302eV

300

thevalueofat

T

400Kis

kT

0.0259

400

0.0345eV

300

Wefindfor

T

350K,

Eg

3

1.12

2

NcNv

exp

2.8

10

19

1.04

10

19

350

3.62

10

22

cm

6

ni

kT

exp

0.0302

300

ni(350K)

1.9

1011cm3

For

T

400K,Wefind

Eg

3

1.12

2

NcNvexp

2.8

19

1.04

10

19

400

5.5

10

24

cm

6

ni

kT

10

exp

0.0345

300

ni(400K)

2.34

1012cm3

37.DeterminethethermalequilibriumelectronandholeconcentrationinGaAsat

T=300KforthecasewhentheFermienergylevelis0.25eVabovethevalence-band

energyEv.AssumethebandgapenergyisE

g=1.42eV.

(Ans.p

0=4.5x10

14cm-3,n0

=?

T=300K

,Nc=4.7X1017cm-3,Nv=7X10

18cm-3)

38.Findtheintrinsiccarrierconcentrationinsiliconat

(a)T=200K

and

at

(b)T=400K

<

Ans.(a)8.13x10

4cm-3,(b)

2.34x10

12

cm

-3

.n=1.5x10

10

cm

-3

>.

i

39.Consider

a

compensated

germanium

semiconductor

atT=300K

doped

at

concentration

of

Na=5x10

13cm-3and

Nd=1x1013cm-3.Calculatethe

thermal

equilibrium

electron

and

hole

concentrations.

0=5.12x10

13cm-3,

 

n0=1.12x1013cm-3,ni=2.4x1013cm-3>.

实用文档

 

2

p0

Na

Nd

Na

Nd

n

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