半导体一些术语的中英文对照.docx

上传人:b****4 文档编号:3819119 上传时间:2022-11-25 格式:DOCX 页数:23 大小:34.20KB
下载 相关 举报
半导体一些术语的中英文对照.docx_第1页
第1页 / 共23页
半导体一些术语的中英文对照.docx_第2页
第2页 / 共23页
半导体一些术语的中英文对照.docx_第3页
第3页 / 共23页
半导体一些术语的中英文对照.docx_第4页
第4页 / 共23页
半导体一些术语的中英文对照.docx_第5页
第5页 / 共23页
点击查看更多>>
下载资源
资源描述

半导体一些术语的中英文对照.docx

《半导体一些术语的中英文对照.docx》由会员分享,可在线阅读,更多相关《半导体一些术语的中英文对照.docx(23页珍藏版)》请在冰豆网上搜索。

半导体一些术语的中英文对照.docx

半导体一些术语的中英文对照

TTMSsystemofficeroom【TTMS16H-TTMS2A-TTMS8Q8-TTMSHHJ8】

 

半导体一些术语的中英文对照精选文档

半导体一些术语的中英文对照

离子注入机ionimplanter

LSS理论LindhandScharffandSchiotttheory

  又称“林汉德-斯卡夫-斯高特理论”。

沟道效应channelingeffect

射程分布rangedistribution

深度分布depthdistribution

投影射程projectedrange

阻止距离stoppingdistance

阻止本领stoppingpower

标准阻止截面standardstoppingcrosssection

退火annealing

激活能activationenergy

等温退火isothermalannealing

激光退火laserannealing

应力感生缺陷stress-induceddefect

择优取向preferredorientation

制版工艺mask-makingtechnology

图形畸变patterndistortion

初缩firstminification

精缩finalminification

母版mastermask

铬版chromiumplate

干版dryplate

乳胶版emulsionplate

透明版see-throughplate

高分辨率版highresolutionplate,HRP

超微粒干版plateforultra-microminiaturization

掩模mask

掩模对准maskalignment

对准精度alignmentprecision

光刻胶photoresist

  又称“光致抗蚀剂”。

负性光刻胶negativephotoresist

正性光刻胶positivephotoresist

无机光刻胶inorganicresist

多层光刻胶multilevelresist

电子束光刻胶electronbeamresist

X射线光刻胶X-rayresist

刷洗scrubbing

甩胶spinning

涂胶photoresistcoating

后烘postbaking

光刻photolithography

X射线光刻X-raylithography

电子束光刻electronbeamlithography

离子束光刻ionbeamlithography

深紫外光刻deep-UVlithography

光刻机maskaligner

投影光刻机projectionmaskaligner

曝光exposure

接触式曝光法contactexposuremethod

接近式曝光法proximityexposuremethod

光学投影曝光法opticalprojectionexposuremethod

电子束曝光系统electronbeamexposuresystem

分步重复系统step-and-repeatsystem

显影development

线宽linewidth

去胶strippingofphotoresist

氧化去胶removingofphotoresistbyoxidation

等离子[体]去胶removingofphotoresistbyplasma

刻蚀etching

干法刻蚀dryetching

反应离子刻蚀reactiveionetching,RIE

各向同性刻蚀isotropicetching

各向异性刻蚀anisotropicetching

反应溅射刻蚀reactivesputteretching

离子铣ionbeammilling

  又称“离子磨削”。

等离子[体]刻蚀plasmaetching

钻蚀undercutting

剥离技术lift-offtechnology

  又称“浮脱工艺”。

终点监测endpointmonitoring

金属化metallization

互连interconnection

多层金属化multilevelmetallization

电迁徙electromigration

回流reflow

磷硅玻璃phosphorosilicateglass

硼磷硅玻璃boron-phosphorosilicateglass

钝化工艺passivationtechnology

多层介质钝化multilayerdielectricpassivation

划片scribing

电子束切片electronbeamslicing

烧结sintering

印压indentation

热压焊thermocompressionbonding

热超声焊thermosonicbonding

冷焊coldwelding

点焊spotwelding

球焊ballbonding

楔焊wedgebonding

内引线焊接innerleadbonding

外引线焊接outerleadbonding

梁式引线beamlead

装架工艺mountingtechnology

附着adhesion

封装packaging

金属封装metallicpackaging

陶瓷封装ceramicpackaging

扁平封装flatpackaging

塑封plasticpackage

玻璃封装glasspackaging

微封装micropackaging

  又称“微组装”。

管壳package

管芯die

引线键合leadbonding

引线框式键合leadframebonding

带式自动键合tapeautomatedbonding,TAB

激光键合laserbonding

超声键合ultrasonicbonding

红外键合infraredbonding

微电子辞典

Abruptjunction突变结Acceleratedtesting加速实验

Acceptor受主Acceptoratom受主原子

Accumulation积累、堆积Accumulatingcontact积累接触

Accumulationregion积累区Accumulationlayer积累层

Activeregion有源区Activecomponent有源元

Activedevice有源器件Activation激活

Activationenergy激活能Activeregion有源(放大)区

Admittance导纳Allowedband允带

Alloy-junctiondevice合金结器件Aluminum(Aluminium)铝

Aluminum–oxide铝氧化物Aluminumpassivation铝钝化

Ambipolar双极的Ambienttemperature环境温度

Amorphous无定形的,非晶体的Amplifier功放扩音器放大器

Analogue(Analog)comparator模拟比较器Angstrom埃

Anneal退火Anisotropic各向异性的

Anode阳极Arsenic(AS)砷

Auger俄歇Augerprocess俄歇过程

Avalanche雪崩Avalanchebreakdown雪崩击穿

Avalancheexcitation雪崩激发

Backgroundcarrier本底载流子Backgrounddoping本底掺杂

Backward反向Backwardbias反向偏置

Ballastingresistor整流电阻Ballbond球形键合

Band能带Bandgap能带间隙

Barrier势垒Barrierlayer势垒层

Barrierwidth势垒宽度Base基极

Basecontact基区接触Basestretching基区扩展效应

Basetransittime基区渡越时间Basetransportefficiency基区输运系数

Base-widthmodulation基区宽度调制Basisvector基矢

Bias偏置Bilateralswitch双向开关

Binarycode二进制代码Binarycompoundsemiconductor二元化合物半导体

Bipolar双极性的BipolarJunctionTransistor(BJT)双极晶体管

Bloch布洛赫Blockingband阻挡能带

Blockingcontact阻挡接触Body-centered体心立方

Body-centredcubicstructure体立心结构Boltzmann波尔兹曼

Bond键、键合Bondingelectron价电子

Bondingpad键合点Bootstrapcircuit自举电路

Bootstrappedemitterfollower自举射极跟随器Boron硼

Borosilicateglass硼硅玻璃Boundarycondition边界条件

Boundelectron束缚电子Breadboard模拟板、实验板

Breakdown击穿Breakover转折

Brillouin布里渊Brillouinzone布里渊区

Built-in内建的Build-inelectricfield内建电场

Bulk体/体内Bulkabsorption体吸收

Bulkgeneration体产生Bulkrecombination体复合

Burn-in老化Burnout烧毁

Buriedchannel埋沟Burieddiffusionregion隐埋扩散区

Can外壳Capacitance电容

Capturecrosssection俘获截面Capturecarrier俘获载流子

Carrier载流子、载波Carrybit进位位

Carry-inbit进位输入Carry-outbit进位输出

Cascade级联Case管壳

Cathode阴极Center中心

Ceramic陶瓷(的)Channel沟道

Channelbreakdown沟道击穿Channelcurrent沟道电流

Channeldoping沟道掺杂Channelshortening沟道缩短

Channelwidth沟道宽度Characteristicimpedance特征阻抗

Charge电荷、充电Charge-compensationeffects电荷补偿效应

Chargeconservation电荷守恒Chargeneutralitycondition电中性条件

Chargedrive/exchange/sharing/transfer/storage电荷驱动/交换/共享/转移/存储

Chemmicaletching化学腐蚀法Chemically-Polish化学抛光

Chemmically-MechanicallyPolish(CMP)化学机械抛光Chip芯片

Chipyield芯片成品率Clamped箝位

Clampingdiode箝位二极管Cleavageplane解理面

Clockrate时钟频率Clockgenerator时钟发生器

Clockflip-flop时钟触发器Close-packedstructure密堆积结构

Close-loopgain闭环增益Collector集电极

Collision碰撞CompensatedOP-AMP补偿运放

Common-base/collector/emitterconnection共基极/集电极/发射极连接

Common-gate/drain/sourceconnection共栅/漏/源连接

Common-modegain共模增益Common-modeinput共模输入

Common-moderejectionratio(CMRR)共模抑制比

Compatibility兼容性Compensation补偿

Compensatedimpurities补偿杂质Compensatedsemiconductor补偿半导体

ComplementaryDarlingtoncircuit互补达林顿电路

ComplementaryMetal-Oxide-SemiconductorField-Effect-Transistor(CMOS)

互补金属氧化物半导体场效应晶体管

Complementaryerrorfunction余误差函数

Computer-aideddesign(CAD)/test(CAT)/manufacture(CAM)计算机辅助设计/测试/制

CompoundSemiconductor化合物半导体Conductance电导

Conductionband(edge)导带(底)Conductionlevel/state导带态

Conductor导体Conductivity电导率

Configuration组态Conlomb库仑

ConpledConfigurationDevices结构组态Constants物理常数

Constantenergysurface等能面Constant-sourcediffusion恒定源扩散

Contact接触Contamination治污

Continuityequation连续性方程Contacthole接触孔

Contactpotential接触电势Continuitycondition连续性条件

Contradoping反掺杂Controlled受控的

Converter转换器Conveyer传输器

Copperinterconnectionsystem铜互连系统Couping耦合

Covalent共阶的Crossover跨交

Critical临界的Crossunder穿交

Crucible坩埚Crystaldefect/face/orientation/lattice晶体缺陷/晶面/晶向/晶

Currentdensity电流密度Curvature曲率

Cutoff截止Currentdrift/dirve/sharing电流漂移/驱动/共享

CurrentSense电流取样Curvature弯曲

Customintegratedcircuit定制集成电路Cylindrical柱面的

Czochralshicrystal直立单晶

Czochralskitechnique切克劳斯基技术(Cz法直拉晶体J)

Danglingbonds悬挂键Darkcurrent暗电流

Deadtime空载时间Debyelength德拜长度

德布洛意Decderate减速

Decibel(dB)分贝Decode译码

Deepacceptorlevel深受主能级Deepdonorlevel深施主能级

Deepimpuritylevel深度杂质能级Deeptrap深陷阱

Defeat缺陷

Degeneratesemiconductor简并半导体Degeneracy简并度

Degradation退化DegreeCelsius(centigrade)/Kelvin摄氏/开氏温度

Delay延迟Density密度

Densityofstates态密度Depletion耗尽

Depletionapproximation耗尽近似Depletioncontact耗尽接触

Depletiondepth耗尽深度Depletioneffect耗尽效应

Depletionlayer耗尽层DepletionMOS耗尽MOS

Depletionregion耗尽区Depositedfilm淀积薄膜

Depositionprocess淀积工艺Designrules设计规则

Die芯片(复数dice)Diode二极管

Dielectric介电的Dielectricisolation介质隔离

Difference-modeinput差模输入Differentialamplifier差分放大器

Differentialcapacitance微分电容Diffusedjunction扩散结

Diffusion扩散Diffusioncoefficient扩散系数

Diffusionconstant扩散常数Diffusivity扩散率

Diffusioncapacitance/barrier/current/furnace扩散电容/势垒/电流/炉

Digitalcircuit数字电路Dipoledomain偶极畴

Dipolelayer偶极层Direct-coupling直接耦合

Direct-gapsemiconductor直接带隙半导体Directtransition直接跃迁

Discharge放电Discretecomponent分立元件

Dissipation耗散Distribution分布

Distributedcapacitance分布电容Distributedmodel分布模型

Displacement位移Dislocation位错

Domain畴Donor施主

Donorexhaustion施主耗尽Dopant掺杂剂

Dopedsemiconductor掺杂半导体Dopingconcentration掺杂浓度

Double-diffusiveMOS(DMOS)双扩散MOS.

Drift漂移Driftfield漂移电场

Driftmobility迁移率Dryetching干法腐蚀

Dry/wetoxidation干/湿法氧化Dose剂量

Dutycycle工作周期Dual-in-linepackage(DIP)双列直插式封装

Dynamics动态Dynamiccharacteristics动态属性

Dynamicimpedance动态阻抗

Earlyeffect厄利效应Earlyfailure早期失效

Effectivemass有效质量Einsteinrelation(ship)爱因斯坦关系

ElectricEraseProgrammableReadOnlyMemory(E2PROM)一次性电可擦除只读存储器

Electrode电极Electrominggratim电迁移

Electronaffinity电子亲和势Electronic-grade电子能

Electron-beamphoto-resistexposure光致抗蚀剂的电子束曝光

Electrongas电子气Electron-gradewater电子级纯水

Electrontrappingcenter电子俘获中心ElectronVolt(eV)电子伏

Electrostatic静电的Element元素/元件/配件

Elementalsemiconductor元素半导体Ellipse椭圆

Ellipsoid椭球Emitter发射极

Emitter-coupledlogic发射极耦合逻辑Emitter-coupledpair发射极耦合对

Emitterfollower射随器Emptyband空带

Emittercrowdingeffect发射极集边(拥挤)效应

Endurancetest=lifetest寿命测试Energystate能态

Energymomentumdiagram能量-动量(E-K)图Enhancementmode增强型模式

EnhancementMOS增强性MOSEntefic(低)共溶的

Environmentaltest环境测试Epitaxial外延的

Epitaxiallayer外延层Epitaxialslice外延片

Expitaxy外延Equivalentcurcuit等效电路

Equilibriummajority/minoritycarriers平衡多数/少数载流子

ErasableProgrammableROM(EPROM)可搽取(编程)存储器

Errorfunctioncomplement余误差函数

Etch刻蚀Etchant刻蚀剂

Etchingmask抗蚀剂掩模Excesscarrier过剩载流子

Excitationenergy激发能Excitedstate激发态

Exciton激子Extrapolation外推法

Extrinsic非本征的Extrinsicsemiconductor杂质半导体

Face-centered面心立方Falltime下降时间

Fan-in扇入Fan-out扇出

Fastrecovery快恢复Fastsurfacestates快界面态

Feedback反馈Fermilevel费米能级

Fermi-DiracDistribution费米-狄拉克分布Femipotential费米势

Fickequation菲克方程(扩散)Fieldeffecttransis

展开阅读全文
相关资源
猜你喜欢
相关搜索

当前位置:首页 > 表格模板 > 表格类模板

copyright@ 2008-2022 冰豆网网站版权所有

经营许可证编号:鄂ICP备2022015515号-1