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Flash芯片市场情况分析

Flash芯片市场情况分析

2016年全球闪存(Flash)的增长动力主要来自终端装置平均搭载的增加和固态硬盘(SSD)需求的增长。

根据ICInsights的统计,2016年全球闪存的市场NAND闪存占99%,NOR闪存占1%。

由此可见,近年来NAND闪存市场规模呈现不断上升的态势,而NOR闪存市场规模日趋缩小。

当前,NAND闪存正面临着先进制程转进、产品结构转换的关键时期。

2016年上半年由于几乎所有的NAND闪存厂商转产3DNAND闪存,导致2DNAND闪存产出减少,而3DNAND闪存又产出有限,再加上智能手机、SSD容量大增,导致市场供不应求,从而刺激NAND闪存市场价格累积涨幅高达16%,也是近两年来首次出现价格大涨。

一、全球闪存的主要供应厂商全球NAND闪存的主要供应厂商有三星、东芝、SK海力士、美光、闪迪和英特尔6家,其中前4家厂商均为IDM企业,供应全球NAND闪存近90%的市场份额。

其中,三星受惠于3DNAND闪存的制程技术领先于其他厂商,加上近年来高容量的eMMC/eMCP与SSD发展加速,持续在3DNAND闪存市场份额上列居第1位。

目前其14nm制程的eMMC/eMCP已导入新上市的智能手机和平板电脑中,14nm制程的TLC(三层单元)产品也在2016年第一季度送样给模块厂商进行测试。

其在未来的市场竞争中更具优势。

东芝在2015年受供过于求的市场影响,平均销售价格下滑13%~14%,市场份额也由2014年占22.2%下滑到2015年仅占18.5%,居全球第2位,由此激发了其发展3DNAND闪存技术的积极性。

2016年年初,48层3DNAND闪存开始上市,并增加投资建设新厂,以期大力发展3DNAND闪存产品。

闪迪在2015年第四季度15nm2DNAND闪存产出比重为75%,同时在主力发展TLC产品的情况下,TLC产品比重也达70%,它的包含SAS、SATA与PCTe接口的企业级SSD深受用户好评。

从2016年起,48层3DNAND闪存开始小批量试产。

二、全球闪存的技术发展当前全球NAND闪存产业正处在2DNAND闪存(平面NAND闪存)向3DNAND闪存的转进期。

过去10年,随着2DNAND闪存制程技术的发展,制程技术向着12nm(12~15nm)逼近,越来越接近可量产的物理极限。

2DNAND闪存的存储密度也很难突破12GB容量,自然也不会给生产厂商带来更高的成本效益。

另外,2D技术是平面结构,随着存储密度的增加,每个存储单元的电荷量会下降,相邻存储单元之间的干扰也会增加,这样会影响NAND闪存的性能。

在当前发展的3DNAND闪存中,3D技术采用垂直排列的立体结构,多层环绕式栅极(GAA)结构形成了多电栅极存储器单元晶体管,可以有效降低堆栈间的干扰,使NAND闪存性能更加优异、功耗更低、容量更大。

2016年,NAND闪存供应商向3DNAND闪存技术推进迅猛。

据业界估计,由于三星、东芝、美光和SK海力士等厂商纷纷扩大3DNAND闪存量产,2016年全球3DNAND闪存占整体NAND闪存产能的15%左右,2017年将进一步提升到30%以上。

三星和东芝的3D技术更是增加到64层堆叠。

二、全球NAND闪存主要厂商的表现

(一)三星自2013年8月三星率先宣布成功推出3DNAND闪存之后,三星便"一马当先"发展3DNAND技术。

2014年年初,三星领先业界采用24层堆叠量产3DNAND闪存,2016年扩大到48层3DNAND闪存量产。

48层相较于32层堆叠的存储容量可提高40%,并在2016年年底三星的3DNAND闪存生产比重已提升至40%。

三星除了在我国西安量产3DNAND闪存,2016年韩国华城Fab16的16nm2DNAND闪存芯片生产线改造成20nm48层3DNAND闪存生产线,并计划再将韩国华城的Fab17生产线用于生产3DNAND闪存,以稳固其在3DNAND闪存市场上的地位。

2016年,三星在3DNAND闪存技术上的最大进展是实现了64层堆叠。

该技术单颗NAND闪存芯片容量增加到512GB,较48层堆叠的存储密度又增加了一倍,2016年年底已开始供货。

三星还计划在2017年基于64层3DNAND闪存推出容量高达32TB的企业级SASSSD,并声称到2020年将提供超过100TB的SSD。

(二)东芝随着3DNAND闪存技术的不断提升,东芝宣布其64层堆叠3DNAND闪存开始送样给用户。

初期样品的存储密度为256GB,然后再提高到512GB量产。

另外,东芝在2015年开始改建的Fab2工厂已在2016年上半年投入生产。

随着3DNAND闪存量产的不断增加,东芝的目标是在2017年将整体3DNAND闪存生产比重提高至50%,2018年进一步提高至90%左右的水平。

(三)SK海力士目前,SK海力士的3DNAND闪存以36层MLC(多层单元)为主,良率可达90%以上。

除了用于企业级SSD产品,还积极导入嵌入式产品中应用,最新的UFS2.1和eMMC5.1采用的就是SK海力士的第二代36层3DNAND闪存,目前这些产品均已进入量产阶段。

进入2016年,SK海力士的48层3DNAND闪存芯片已向用户送样,并进一步声称在2016年年底和2017年年初完成72层3DNAND闪存的研发。

这是一项十分具有挑战性的工作。

目前,SK海力士主要在韩国清州M11/M12工厂生产3DNAND闪存芯片,还计划将M14工厂的二楼用于生产3DNAND闪存,2017年上半年投入生产,而且计划投资15.5兆韩元新建另一座存储器工厂。

(四)美光美光的32层堆叠3DNAND闪存芯片主要在新加坡工厂量产。

基于32层3DNAND闪存技术,美光面向消费类市场推出了BX300系列和1100系列的3DSSD,最大容量可达2TB。

为了在技术上赶超竞争对手,美光于2016年年初扩建的Fab10X工厂开始量产。

计划下一代3DNAND闪存技术跳过48层,2017年直接跳到64层。

而且现在的16nm2DNAND闪存技术也将直接切换到生产3DNAND闪存,预计2017年美光3DNAND闪存的投产量将增加一倍。

(五)英特尔2016年,英特尔和美光联手研发的3DNAND闪存技术进展神速。

英特尔和美光的新加坡合资工厂在2016年第一季度就开始量产3DNAND闪存芯片,起点的月产量为3000片,到年底时已拉升到每月4万片。

同时英特尔投资55亿美元将位于我国大连的Fab86改造为生产3DNAND闪存芯片的工程也已完成投产,使得英特尔和美光合作在3DNAND闪存的产能上显示出相当优势。

近年来,英特尔除了发展3DNAND闪存技术,还着重开发新型的3DXPoint快闪存储器。

英特尔的3DXPoint快闪存储器其实是PCM(相变存储器)的一种,它不但可以取代NAND闪存,而且也有可能取代DRAM。

3DXPoint集合了DRAM和NAND闪存的数据存储优势,较传统的NAND闪存速度快1000倍,读/写重复性也强1000倍,存储密度比DRAM高10倍。

现在服务器数据存储与日俱增,对系统快速分析、相应数据的要求不断提升,基于3DXPoint技术的高性能优势,将其最先用于企业级、数据中心的存储。

对于消费类市场而言,由于3DXPoint昂贵的生产成本,所以在短时间内还很难用在PC或笔记本电脑上。

每天一句话,送给在IC、泛IC和投资圈奋斗的你我,让我们共勉——任何成功都无法一蹴而就。

每一阶段的抵达,都是一步一个脚印积累出来的。

不急不躁,耐心努力,保持对新事物、新领域探索的好奇,就是行进在进步的路上。

慢慢来,别着急,生活终将为你备好所有的答案。

2016年全球闪存(Flash)的增长动力主要来自终端装置平均搭载的增加和固态硬盘(SSD)需求的增长。

根据ICInsights的统计,2016年全球闪存的市场NAND闪存占99%,NOR闪存占1%。

由此可见,近年来NAND闪存市场规模呈现不断上升的态势,而NOR闪存市场规模日趋缩小。

当前,NAND闪存正面临着先进制程转进、产品结构转换的关键时期。

2016年上半年由于几乎所有的NAND闪存厂商转产3DNAND闪存,导致2DNAND闪存产出减少,而3DNAND闪存又产出有限,再加上智能手机、SSD容量大增,导致市场供不应求,从而刺激NAND闪存市场价格累积涨幅高达16%,也是近两年来首次出现价格大涨。

一、全球闪存的主要供应厂商全球NAND闪存的主要供应厂商有三星、东芝、SK海力士、美光、闪迪和英特尔6家,其中前4家厂商均为IDM企业,供应全球NAND闪存近90%的市场份额。

其中,三星受惠于3DNAND闪存的制程技术领先于其他厂商,加上近年来高容量的eMMC/eMCP与SSD发展加速,持续在3DNAND闪存市场份额上列居第1位。

目前其14nm制程的eMMC/eMCP已导入新上市的智能手机和平板电脑中,14nm制程的TLC(三层单元)产品也在2016年第一季度送样给模块厂商进行测试。

其在未来的市场竞争中更具优势。

东芝在2015年受供过于求的市场影响,平均销售价格下滑13%~14%,市场份额也由2014年占22.2%下滑到2015年仅占18.5%,居全球第2位,由此激发了其发展3DNAND闪存技术的积极性。

2016年年初,48层3DNAND闪存开始上市,并增加投资建设新厂,以期大力发展3DNAND闪存产品。

闪迪在2015年第四季度15nm2DNAND闪存产出比重为75%,同时在主力发展TLC产品的情况下,TLC产品比重也达70%,它的包含SAS、SATA与PCTe接口的企业级SSD深受用户好评。

从2016年起,48层3DNAND闪存开始小批量试产。

二、全球闪存的技术发展当前全球NAND闪存产业正处在2DNAND闪存(平面NAND闪存)向3DNAND闪存的转进期。

过去10年,随着2DNAND闪存制程技术的发展,制程技术向着12nm(12~15nm)逼近,越来越接近可量产的物理极限。

2DNAND闪存的存储密度也很难突破12GB容量,自然也不会给生产厂商带来更高的成本效益。

另外,2D技术是平面结构,随着存储密度的增加,每个存储单元的电荷量会下降,相邻存储单元之间的干扰也会增加,这样会影响NAND闪存的性能。

在当前发展的3DNAND闪存中,3D技术采用垂直排列的立体结构,多层环绕式栅极(GAA)结构形成了多电栅极存储器单元晶体管,可以有效降低堆栈间的干扰,使NAND闪存性能更加优异、功耗更低、容量更大。

2016年,NAND闪存供应商向3DNAND闪存技术推进迅猛。

据业界估计,由于三星、东芝、美光和SK海力士等厂商纷纷扩大3DNAND闪存量产,2016年全球3DNAND闪存占整体NAND闪存产能的15%左右,2017年将进一步提升到30%以上。

三星和东芝的3D技术更是增加到64层堆叠。

二、全球NAND闪存主要厂商的表现

(一)三星自2013年8月三星率先宣布成功推出3DNAND闪存之

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