近代材料分析答案Word格式.doc
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用途:
底片移动范围在焦长范围内都可呈清晰像。
景深:
当像平面固定时,物平面前后移动能呈清晰像时所允许的最大移动范围。
用Df来表示
如果样品厚度适合,那么在透镜景深范围之内,可以移动物平面,从而使样品各部位的细节都能得到清晰的图像
4对比光学显微镜与电磁显微镜分辨率。
光学显微镜:
△r0=0.61λ/n*sinα;
λ=3900—7600Å
,孔径半角α=70—75°
,n=1.5,得△r0=2000Å
电磁显微镜:
分辨本领由衍射效应和球面像差来决定。
当衍射效应Airy斑和球差散焦斑尺寸大小相等时△r0=A*λ3/4Cs1/4,A=0.4-0.55,λ=0.0251Å
,得△r0=2Å
可见电磁透镜比光学显微镜分辨率要高至少103的数量级
补充题:
光学显微镜与透射电镜成像区别
波长
分辨率
聚焦
优点
缺点
光学显微镜
3900
~7600Å
2000Å
直线聚焦
简单,直观
只能观察表面形态,不能做微区成份分析。
C射线衍射仪
0.1~100Å
无法聚焦
相组成分析,简单,精确
无法观察形貌
电子显微分析
0.0251Å
(200kV)
1.8Å
螺旋聚焦
组织分析,物相分析(电子衍射),
成分分析(能谱,波谱,电子能量损失谱)
价格昂贵
不直观
操作复杂;
样品制备复杂。
第二章:
透射电子显微镜
6画出电镜结构原理图,简述每个部件的作用。
7何谓点分辨率、晶格分辨率、放大倍数,其测定方法?
点分辨率:
能分清两个独立粒子之间的最小间距。
方法:
碳膜喷金(将金属用真空蒸发的方法得到粒度为5-10Å
,间距为2-10Å
的粒子,将其均匀分布在碳支持膜上,在高放大倍数下拍摄这些粒子像)Au真空蒸发镀膜
晶格分辨率:
能分清两晶面的最小间距。
利用定向单晶薄膜做标样,利用晶格衍衬像测定。
放大倍数:
像平面与物平面距离之比。
利用光栅测定。
用衍射光栅作为标样,在一定条件下拍摄标样的放大像,然后从底片上测量光栅条纹像的平面间距,与实际条纹相比,即可得到放大倍数。
第三章:
复型技术
8简述塑料一级复型、碳一级复型、塑料-碳-喷铬二级复型制作步骤,对比各有何特点。
塑料一级复型:
材料:
塑料,厚100-200nm
A、配塑料溶液B、滴溶液与样品上C、取下薄膜d、剪切(3mm小方块)特点:
易分解、烧损,分辨率20nm。
碳一级复型:
碳,厚10nm
A、真空垂直喷碳B、分割(对角线小于3mm小方块)、电解腐蚀溶下C、烘干。
特点:
破坏试样表面,膜易碎,分辨率2-5nm,衬度差
塑料-碳-喷铬二级复型:
塑料,碳,铬
A、做塑料一级复型B、在塑料一级复型上做碳一级复型C、真空倾斜喷铬d、溶解塑料
衬度好,不破坏样品。
稳定,不易分解,分辨率与塑料一级复型相同
9简述质后衬度成像原理。
对于非晶薄膜样品,入射电子透过样品时碰到的原子数目越多(或样品越厚),样品原子核库仑电场越强(或样品原子序数越大或密度越大),被散射到物镜光阑外的电子就越多,而通过物镜光阑参与成像的电子强度也就越低。
即强度为I0的入射电子穿透样品后,参与成像的电子强度I随总散射面积Q和样品厚度t的乘积呈指数衰减,I=I0*e-Qt
10计算2种复型样品相对衬度(见书)。
若复型是同种材料制成,以IB为像背景强度,则强度差△IA=IB-IA当QΔt远小于1时,
如果复型是由两种材料组成,假定凸起部分(多出的第二种材料)总散射截面为,则IA=I0*e-(QA△t+QBtb),当远小于1时,
第四章电子衍射
11简述透射电镜的主要用途。
(1)衍射花样像(单晶、多晶结构分析)(用中间镜的物平面与物镜背焦面重合)
(2)组织形貌像(复型薄膜)(用中间镜的物平面与物镜像平面重合)
12写出劳埃方程,简述其用途。
a(cosα-cosα0)=Hλ
当相邻原子的散射X射线光程差等于入射X射线波长整数倍时发生衍射
(一维)
设空间点阵的三个平移向量为a,b和c,入射的X射线与它们的交角分别为α0,β0和γ0。
衍射方向与它们的交角分别为α,β和γ。
根据上述讨论可知,衍射角α,β和γ在x,y,z三个轴上应满足以下条件:
a(cosα-cosα0)=Hλ
b(cosβ-cosβ0)=Kλ
c(cosγ-cosγ0)=Lλ
找到斑点位置
13写出布拉格方程,简述其用途。
q
S
S0
2dsinθ=nλ(n=0,1,2……)用途:
(1)找到斑点的方向,说明一组晶面对应一个衍射斑点;
(2)结构分析:
利用已知波长的特征x射线,通过测量θ,可以计算出晶面间距;
(3)x射线光谱学:
利用已知晶面间距d的晶体,通过测量θ,计算位置x射线的波长
14已知简单立方晶体晶格常数为3A°
,分别在正空间和倒易空间中画出(101)、(210)、(111)晶面及倒易点,并计算出晶面的面间距和倒易失量的大小。
15画出面心立方及体心立方[011]晶带轴的标准电子衍射花样,标出最近的三个斑点指数及夹角。
16画出爱瓦尔德球简述其用途。
在倒易空间中,画出衍射晶体的倒易点阵,以倒易原点O*为端点作入射波的波矢量k(矢量OO*),该矢量平行于入射束方向,长度等于波长的倒数,即1/λ。
以O为中心,1/λ为半径作一个球,这就是爱瓦尔德球。
找到倒易点与衍射斑点的关系
17体心立方和简单立方晶体的消光条件
简单立方:
Fhkl恒不等于零,无消光现象。
面心立方:
h、k、L为异性数时,Fhkl=0
体心立方:
h+K+L=奇数时,Fhkl=0
18何谓标准电子衍射花样。
定义:
各种晶体点阵主要晶带的倒易截面,即零层倒易面(uvw)*0的比例像。
19为何不精确满足布拉格方程时,也会在底片上出现衍射斑点。
因为实际的样品晶体都有确定的形状和有限的尺寸,因而它们的倒易阵点不是一个几何意义上的“点”,而是沿着晶体尺寸较小的方向发生扩展,扩展量为该方向上实际尺寸的倒数的2倍,成为杆状,即倒易杆,从而增加了与爱瓦尔德球相交的机会,结果使不精确满足布拉格方程时,也会有衍射斑点出现
20为何入射电子束严格平行〔uvw〕时,底片上也有衍射斑点出现。
(1)薄晶体衍射,倒易点变为倒易杆,增加与爱瓦尔德球相交几率
(2)2θ小于1°
时,对应球面可近似看作平面,增加与爱瓦尔德球相交几率
(3)加速电压不稳定,造成爱瓦尔德球有一定厚度,操作时不可能完全重合,也增加了相交几率
电子衍射基本公式:
d=k/R
21绘出面心/体心立方〔012〕晶带轴的标准电子衍射花样,并写明步骤。
(10分)
22已知相机常数K、晶体结构及单晶、多晶衍射花样,简述单晶多晶衍射花样标定步骤。
花样像和形貌像如何成像
23何谓磁偏角。
电子束通过物镜背焦面到物镜像平面所转过的角度,即磁转角φ0。
24选区衍射操作与选区衍射成像操作有何不同。
为了分析样品上的一个微小区域,通常在物镜像平面位置放置选区光圈,选择所需分析的微区,对这个微区进行衍射分析叫做选区衍射操作。
在选区衍射过程中,中间镜物平面与物镜像平面重合时呈形貌像,中间镜物平面与物镜背焦面重合时呈花样像,这种成像操作叫做选区衍射成像操作
25孪晶衍射花样有何特点,原因是什么
其衍射花样是两套不同晶带单晶衍射斑点的叠加,而这两套斑点的相对位向反映了基体和孪晶之间存在着的对称取向关系
如何得到体心立方,面心立方孪晶花样
26高阶劳爱斑点如何得到,用途是什么。
点阵常数较大的晶体,倒易空间中倒易面间距较小。
如果晶体很薄,则倒易杆较长,因此与爱瓦尔德球面相接触的并不只是零倒易截面,上层或下层的倒易平面上的倒易杆均有可能和爱瓦尔德球面相接触,从而形成所谓高阶劳爱斑点。
A.确定晶带轴单位矢量长度。
B.确定薄膜晶体厚度。
超点阵斑点形成的原因和用途
当晶体内部的原子或离子产生有规律的位移或不同种原子产生有序排列时,将引起其电子衍射结果的变化,即可以使本来消光的斑点出现,这种额外的斑点称为超点阵斑点
27如何确定有序固溶体
有序固溶体中会出现按消光条件应该消光,却在衍射花样中出现的斑点,即超点阵斑点
28何谓菊池线花样。
如果样品晶体比较厚(约在最大可穿透厚度的一半以上)、样品内缺陷的密度较低,则在其衍射花样中,除了规则的斑点以外,还常常出现一些亮、暗成对的平行线条,这就是所谓菊池线或菊池衍射花样。
29何谓二次衍射斑点和用途。
一次衍射束和晶面组之间再次产生衍射时形成的斑点为二次衍射斑点。
30简述薄晶体样品制作步骤,以及要求
第一:
从实物或大块试样上切割厚度为0.3~0.5mm厚的薄片。
电火花线切割。
第二:
预先减薄至厚度小于1mm
即机械法(70~100μm)(研磨)
化学法(20~50μm)(腐蚀)。
第三:
最终减薄。
双喷离子减薄法(用离子束在样品的两侧以一定的倾角(5°
~30°
)轰击样品);
双喷电解抛光法
要求:
A、保留原结构;
B、透明;
C、一定强度和刚度;
E、不氧化和腐蚀
31多晶衍射花样标定步骤。
32薄晶体成像原理与复型成像原理有何异同点。
质厚衬度原理(复型)
衍衬成像(薄晶体)
样品
非晶,不等厚
晶体,等厚
用途
观察表面形貌
观察内部形貌,缺陷,第二相等
I=I=I0*e-Qt
成明暗场像
都作为透镜中样品的成像原理
33画出薄晶体衍衬成明场像、暗场像的光路图,并加以说明。
34螺型位错和刃型位错衍衬成像特征。
为何?
刃型位错:
线状螺型位错:
锯齿状因为畸变区有衍射束存在
35厚度消光、弯曲消光条纹产生原因。
厚度消光条纹:
衍射强度随样品厚度的变化呈周期性震荡,若一薄晶体一端是楔形斜面,则斜面上晶体厚度是连续变化的,有电子束通过时,衍射强度因厚度不同而发生连续变化,在衍射图像上楔形边缘将会得到数