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三、氮铝钛（TiAlN）、氮钛铝AlTiN4
四、氮化铬涂层（CrN）5
第三节市场结构分析5
一、产品市场结构5
二、品牌市场结构5
三、区域市场结构6
四、渠道市场结构6
第四节市场潜力分析7
一、所处生命周期7
二、该产品生产技术变革与产品革新7
三、差异化/同质化分析9
第一节我国真空涂层整体市场规模
一、总量规模
图表-2：
2011-2015年上半年真空涂层的市场规模
数据来源：
中国表面工程协会特种涂层专业委员会
二、增长速度
PVD技术不仅提高了薄膜与刀具基体材料的结合强度，涂层成分也由第一代的TiN发展为TiC、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、TiAlCN、TiN-AlN、CNx、DLC和ta－C等多元复合涂层。
星弧涂层的PVD技术
增强型磁控阴极弧：
阴极弧技术是在真空条件下，通过低电压和高电流将靶材离化成离子状态，从而完成薄膜材料的沉积。
增强型磁控阴极弧利用电磁场的共同作用，将靶材表面的电弧加以有效地控制，使材料的离化率更高，薄膜性能更加优异。
过滤阴极弧：
过滤阴极电弧（FCA）配有高效的电磁过滤系统，可将离子源产生的等离子体中的宏观粒子、离子团过滤干净，经过磁过滤后沉积粒子的离化率为100%，并且可以过滤掉大颗粒因此制备的薄膜非常致密和平整光滑，具有抗腐蚀性能好，与机体的结合力很强。
磁控溅射：
在真空环境下，通过电压和磁场的共同作用，以被离化的惰性气体离子对靶材进行轰击，致使靶材以离子、原子或分子的形式被弹出并沉积在基件上形成薄膜。
根据使用的电离电源的不同，导体和非导体材料均可作为靶材被溅射。
离子束DLC：
碳氢气体在离子源中被离化成等离子体，在电磁场的共同作用下，离子源释放出碳离子。
离子束能量通过调整加在等离子体上的电压来控制。
碳氢离子束被引到基片上，沉积速度与离子电流密度成正比。
星弧涂层的离子束源采用高电压，因而离子能量更大，使得薄膜与基片结合力很好；
离子电流更大，使得DLC膜的沉积速度更快。
离子束技术的主要优点在于可沉积超薄及多层结构，工艺控制精度可达几个埃，并可将工艺过程中的颗料污染所带来的缺陷降至最小。
因此，真空涂层未来的发展将是快速的。
三、各季度市场情况
真空涂层所涉及的领域众多，因此不受季节的影响。
第二节原材料市场分析
一、氮化钛涂层（TiN）
TiN涂层具有硬度大，化学稳定性好，与钢等材料的热膨胀系数相近等优点，目前已被用作切削刀具、抗磨粒和磨蚀磨损部件的表面工程材料。
研究表明，采用一般PVD沉积方法制得的TiN涂层由于含有大量柱状结构而导致韧性降低，易于从基底剥落，且表面粗糙度较大[1～4]，这大大限制了TiN涂层的应用。
磁过滤阴极弧等离子沉积装置是近期发展起来的基于高离化率和高离子能量的制膜技术，它利用磁偏转管成功消除了普通阴极弧沉积装置易产生宏观粒子团（MPs）这一突出问题，降低了柱状晶的产生几率，可在基体上沉积得到致密、光滑、均匀的涂层。
氮化钛是一种新型的多功能金属陶瓷材料，它的熔点高、硬度大、摩擦系数小，是热和电的良导体。
首先，氮化钛是用于高强度的金属陶瓷工具、喷汽推进器、以及火箭等优良的结构材料。
另外，氮化钛有较低的摩擦系数，可作为高温润滑剂。
氮化钛合金用作轴承和密封环可显示出优异的效果。
氮化钛有较高的导电性，可用作熔盐电解的电极以及点触头、薄膜电阻等材料。
氮化钛有较高的超导临界温度，是优良的超导材料。
尤其引人注目的是，氮化钛涂层及其烧结体具有令人满意的金黄色，可作为代金装饰材料，具有很好的仿金效果、装饰价值，并具有防腐、延长工艺品的寿命。
镀有氮化钛膜的玻璃还是一种新的“热镜材料”，当薄膜的厚度大于90nm时，红外线的反射率大于75％，提高了玻璃的保温性能。
氮化钛薄膜的颜色还可以随意调整，随氮含量的降低，薄膜将呈现金黄、古铜、粉红等颜色，非常美观。
目前，由于含氮金属陶瓷工具的开发而使氮化钛粉末的需要急剧增加起来；
而且国际上代金装饰技术发展相当快，氮化钛在这方面的应用具有十分广阔的前景。
不仅因为氮化钛涂层价格低廉，而且还由于它在耐腐蚀、耐摩擦等性能方面都胜过真空涂层。
因此，对氮化钛的研究具有重要的经济意义。
氮化钛在高热辐射涂层的应用，纳米氮化钛粉体作为高温中使用的高热辐射率涂层材料的关键材料，添加该组分所研制的涂层材料采用等离子喷涂技术制备的涂层，检测发现辐射率能大幅提高，该产品主要应用于高温炉窑节能、军事等方面。
二、氮碳化钛涂层（TiCN）
对于既要求较低的摩擦系数又要求较高硬度的场合，将碳引入氮化钛涂层中，所形成的氮碳化钛涂层（TiCN）是一种理想的选择。
由于碳元素的引入，使涂层的表面润滑性提高，摩擦系数降低。
而且由于碳元素的引入，使涂层的内应力降低。
但是氮碳化钛涂层不具有良好的耐热性，不适合温度较高的场合使用，由其不能使用在超过400℃的场合，而且耐冲击性也较差。
三、氮铝钛（TiAlN）、氮钛铝AlTiN
氮化铝钛涂层是近年来出现的一种新型涂层，与氮化钛相比，因为有铝Al成份的加入，高温下Al离子向表面扩散，易形成一层致密的三氧化二铝（Al2O3）保护膜，使膜层的抗氧化温度由氮化钛（TiN）的600提升到氮化铝钛（TiAlN）的900左右，而且涂层硬度提高到近HV4000。
通常氮化铝钛（TiAlN）涂层的积沉方法使用纯钛和纯铝的靶材，或使用钛铝混合靶材（一般采用含量各50%的钛铝靶材），且以此方法见多，而且通常情况下氮化铝钛涂层是一种复合多层膜结构。
氮化铝钛涂层的刀具具有优良的延层性适用于间歇切削加工，而且尖角硬脆效应弱，在做间歇切削时不容易产生剥落现像。
四、氮化铬涂层（CrN）
氮化铬铝钛涂层（TiAlCrN）是在氮化铝钛的基础上引入铬元素，使涂层与基体的结合力得到了进一步的提高，有效的克服了原氮化铝钛涂层虽然硬度较高，但内应力较大的缺陷，从而使超厚PVD涂层有了一个新的突破。
同时涂层的表面颗粒度降低较为明显，液滴等表面缺陷减少，表面原子排列更致密。
而且涂层耐温度也有所提高。
第三节市场结构分析
一、产品市场结构
PVD复合涂层性能优良，具有不可轻视的应用潜力。
国内PVD技术在模具产业的应用与推广才处于起步阶段，主要以单层TiN系涂层为主。
手机行业已将模具的涂层写入标准条件中，目前国内只有少数大型企业获得初步应用，模具包括冷冲模、塑料模、热锻模、挤压模等多类模具，使用寿命平均提高3-5倍以上。
二、品牌市场结构
图表-3：
2015年上半年品牌市场结构分析
序号
企业
1
广东今泰科技有限公司
2
星湖涂层新材料科技（苏州）股份有限公司
3
上海宜瓷龙新材料股份有限公司
4
山东奔腾漆业股份有限公司
5
艾瑞森表面技术（苏州）有限公司
6
上海金科纳米涂层技术有限公司
三、区域市场结构
图表-4：
2015年上半年真空涂层产品区域市场结构
四、渠道市场结构
我国相关真空涂层行业销售渠道主要有4种模式，分别是：
1、传统销售渠道。
这种模式是由一群独立的制造商、批发商和零售商组成的分销组织形态，各渠道成员之间是一种松散的合作关系，每个成员都是一个独立的利益主体，他们各自追求自身利益的最大户，渠道中没有一个成员对其他成员有足够的控制力，最终使整个分销渠道效率低下。
所以也被称为松散型分销模式。
该模式的优点是成员独立性强，进退自由；
能够促使企业不断创新；
适用于中小企业，在进入市场时可以借助这种关系迅速成长。
缺点则是各自谋求自身利益的最大化，整体效率下降；
成员之间缺少信任感和忠诚度；
临时性的交易关系，安全系数低；
各种渠道资源无法有效共享；
成员缺少渠道建设的积极性。
2、垂直销售渠道。
该模式是由制造商、批发商、零售商所组成的一种统一的联合体，每个成员把自己视为分销系统的一份子，关注整个垂直系统的成功。
该模式的优点是合理管理库存，削减分销成本；
便于把握需求动向；
抑郁安排生产与销售；
渠道控制力强；
有利于组织竞争者加入；
商品质量有保障，服务水品高。
缺点则较为明显，系统维系成本高，经销商缺乏独立创造性。
3、水平销售渠道。
该模式是指由两个或两个以上的公司联合开发新的营销机会，组成新的渠道系统。
充分利用两者的技术优势，拓展市场。
还可将该模式细分为公司式（所有权）、管理式、合约式三类分销模式。
4、多渠道销售。
以上4类为主要的行业销售模式，但企业在销售自身产品的时候并不会只使用单一的销售模式，而是多种销售模式结合起来，打造一个全方位的销售网络。
目前，我国相关真空涂层行业采用的最多的是传统销售渠道。
第四节市场潜力分析
一、所处生命周期
PVD涂层在中国还处于刚刚起步的阶段。
近两三年来一些国际性的公司先后在国内建立了涂层中心，使得硬涂层服务在某些行业，特别是刀具业的涂层上形成较为激烈的竞争。
其竞争的结果是涂层服务商竞相压价。
二、该产品生产技术变革与产品革新
真空涂层技术发展到了今天还出现了PCVD（物理化学气相沉积）、MT-CVD（中温化学气相沉积）等新技术，各种涂层设备、各种涂层工艺层出不穷，如今在这一领域中，已呈现出百花齐放，百家争鸣的喜人景象。
真空涂层技术起步时间不长，国际上在上世纪六十年代才出现将CVD（化学气相沉积）技术应用于硬质合金刀具上。
由于该技术需在高温下进行（工艺温度高于1000），涂层种类单一，局限性很大，因此，其发展初期未免差强人意。
到了上世纪七十年代末，开始出现PVD（物理气相沉积）技术，为真空涂层开创了一个充满灿烂前景的新天地，之后在短短的二、三十年间PVD涂层技术得到迅猛发展。
PVD是英文“PhysicalVaporDeposition”的缩写形式，意思是物理气相沉积。
现在一般地把真空蒸镀、溅射镀膜、离子镀等都称为物理气相沉积。
较为成熟的PVD方法主要有多弧镀与磁控溅射镀两种方式。
多弧镀设备结构简单，容易操作。
它的离子蒸发源靠电焊机电源供电即可工作，其引弧的过程也与电焊类似，具体地说，在一定工艺气压下，引弧针与蒸发离子源短暂接触，断开，使气体放电。
由于多弧镀的成因主要是借助于不断移动的弧斑，在蒸发源表面上连续形成熔池，使金属蒸发后，沉积在基体上而得到薄膜层的，与磁控溅射相比，它不但有靶材利用率高，更具有金属离子离化率高，薄膜与基体之间结合力强的优点。
此外，多弧镀涂层颜色较为稳定，尤其是在做TiN涂层时，每一批次均容易得到相同稳定的金黄色，令磁控溅射法望尘莫及。
多弧镀的不足之处是，在用传统的DC电源做低温涂层条件下，当涂层厚度达到0.3μm时，沉积率与反射率接近，成膜变得非常困难。
而且，薄膜表面开始变朦。
多弧镀另一个不足之处是，由于金属是熔后蒸发，因此沉积颗粒较大，致密度低，耐磨性比磁控溅射法成膜差。
可见，多弧镀膜与磁控溅射法镀膜各有优劣，为了尽可能地发挥它们各自的优越性，实现互补，将多弧技术与磁控技术合而为一的涂层机应运而生。
在工艺上出现了多弧镀打底，然后利用磁控溅射法增厚涂层，最后再利用多弧镀达到最终稳定的表面涂层颜色的新方法。
大约在八十年代中后期，出现了热阴极电子枪蒸发离子镀、热阴极弧磁控等离子镀膜机，应用效果很好，使TiN涂层刀具很快得到普及性应用。
其中热阴极电子
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