高清成像用光学低通滤波片标准.docx
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高清成像用光学低通滤波片标准
高清成像用光学低通滤波片
1范围
本标准规定了高清成像用光学低通滤波片的术语和定义、产品结构、基本要求、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存和质量承诺。
本标准适用于单反相机、工业相机、摄像机等高清成像设备用光学低通滤波片(以下简称“滤波片”)。
2规范性引用文件
下列文件对于本文件的应用是必不可少的。
凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文件。
凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。
GB/T191包装储运图示标志GB/T1185光学零件表面疵病GB/T2423.1电工电子产品环境试验第2部分:
试验方法试验A:
低温GB/T2423.2电工电子产品环境试验第2部分:
试验方法试验B:
高温GB/T2423.3环境试验第2部分:
试验方法试验Cab:
恒定湿热试验GB/T2423.22环境试验第2部分:
试验方法试验N:
温度变化GB/T2423.24环境试验第2部分:
试验方法试验Sa:
模拟地面上的太阳辐射及其试验导则GB/T2828.1计数抽样检验程序第1部分:
按接收质量限(AQL)检索的逐批检验抽样计划GB/T2831光学零件的面形偏差GB/T7896人造光学石英晶体试验方法GB/T11164真空镀膜设备通用技术条件GB/T15488光学玻璃GB/T15489.1光学玻璃测试方法光学性能GB/T19142出口商品包装通则GB/T28786真空技术真空镀膜层结合强度测量方法胶带粘贴法GB/T32988人造石英光学低通滤波器晶片GB50472电子工业洁净厂房设计规范JB/T8226.1光学零件镀膜减反射膜JB/T8226.8光学零件镀膜截止滤光膜
3术语和定义
GB/T1185和GB/T32988界定的以及下列术语和定义适用于本文件。
3.1
反射膜anti-reflectancecoating
为降低表面反射率、提高光的透过率,在滤波片表面所镀的光学薄膜。
3.2
T/ZZB1335—20192
截止波长cutoffwavelength
透过率在50%时所对应的波长,分为低频波段截止波长λ1与高频波段截止波长λ2,如下图1所示。
a)低频波段截止波长b)高频波段截止波长(右)
3.3
雾度haze
透过产品而偏离入射光方向的散射光通量与透射光通量之比,用百分数表示。
3.4
光学低通滤波片opticallowpassfilter
用石英晶体等光学材料制作,采用单片或多片组合并镀膜等方式,让某一频率以下的光信号分量通过,而抑制该频率以上的光信号分量的光学元器件。
4产品结构
本标准中的滤波片由单片或多片石英晶体、光学玻璃组合而成,片之间用光学胶粘合,组合的外侧面镀有光学薄膜,见图2。
说明:
L--长度;W--宽度;t--厚度;1…n--单片或多片石英晶体、光学玻璃的组合。
5基本要求
5.1设计
应采用计算机辅助软件,具备对滤光膜结构的仿真设计能力。
5.2材料
5.2.1主要原材料石英晶体应达到GB/T32988中A级要求。
5.2.2主要原材料光学玻璃应符合GB/T15488的标准要求。
5.2.3主要原材料镀膜材料纯度要求在99.9%以上。
5.2.4所有材料的有害物质限量应符合表1的要求。
5.3工艺及装备
5.3.1产品数据、生产过程应采用信息化管理手段,如ERP、HR、OA、MES等管理软件。
5.3.2镀膜机应达到GB/T11164中A级要求,配置准确度优于1nm的膜厚仪,配置功率不小于1500W功率离子源。
5.3.3具备能够制备电阻率大于14MΩ·cm纯水的设备。
5.3.4胶合工序采用自动化专用涂胶设备。
5.3.5全制程环境应具备满足GB50472中的6级以上(含)洁净要求。
5.4检测能力
5.4.1应具备表面质量的检测能力,应配置外观检查机、雾度检测仪。
5.4.2应具备面形偏差的检测能力,应配置激光干涉仪。
T/ZZB1335—20194
5.4.3应具备石英晶体的表面切向的检测能力,应配备定向仪。
5.4.4应具备透过率与反射率的检测能力,应配置分光光度计、反射率测定仪。
5.4.5应具备有害物质限量的检测能力,应配置X荧光光谱仪。
6技术要求
6.1外形尺寸
长宽尺寸公差:
±0.1mm;厚度尺寸公差:
±0.02mm。
6.2面形偏差
6.2.1单个晶片的光圈:
≤5牛顿环。
6.2.2二片组合的光圈:
≤10牛顿环。
6.2.3三片和四片组合的光圈:
≤20牛顿环。
6.3石英晶体的表面切向
石英晶体的表面的法向切向偏差:
±1°。
6.4表面质量
应符合表2要求。
6.5光学性能
6.5.1透过率
6.5.1.1截止波长λ1和λ2,其具体数值由具体的产品规格所规定,也可由具体客户提出的技术规范所确定。
6.5.1.2透过波段λT1~λT2的平均透过率Tave不小于85%,见图3。
6.5.2反射率
6.5.2.1在425nm~675nm波段内最大反射率Rmax不大于0.8%,见图4。
6.5.2.2在425nm~675nm波段内的平均反射率Rave不大于0.5%。
图4反射率图示
6.5.3片内光学性能偏差
6.5.3.1同一个产品,在镀膜有效区域内,低频波段截止波长最大偏差值不大于1.5nm;高频波段截止波长最大偏差值不大于3nm。
6.5.3.2同一个产品,在镀膜有效区域内,在425nm~675nm波段范围内的反射率最大偏差值不大于0.2%。
6.6膜层结合强度
膜层经胶带粘贴法试验后,脱膜程度应达到GB/T28786标准中的2级以上要求。
6.7膜层的抗磨强度
6.7.1摩擦
膜层经外裹清洁纱布、压力为4.9N的橡皮磨头摩擦200次后,应无破损。
6.7.2擦拭
T/ZZB1335—20196
膜层经蘸有酒精乙醚混合液的脱脂纱布来回擦拭5次后,应无擦痕。
6.8环境可靠性要求
6.8.1高温试验
在无包装的情况下,产品在85℃±2℃的温度条件下经过120h高温试验,试验后,产品表面应无明显破损、脏污,光学性能、膜层的抗磨强度仍满足6.5.1、6.5.2和6.7条款要求;并且在6.5.1.2条款所示的透过波段λT1~λT2波长范围内,透过率变化率在1%以內。
6.8.2低温试验
在无包装的情况下,产品在-40℃±2℃的温度条件下经过48h低温试验,试验后,产品表面应无明显破损、脏污,光学性能、膜层的抗磨强度仍满足6.5.1、6.5.2和6.7条款要求;并且在6.5.1.2条款所示的透过波段λT1~λT2波长范围内,透过率变化率在1%以內。
6.8.3恒定湿热试验
在无包装的情况下,产品在相对湿度为90%±3%、温度为65℃±2℃的恒定条件下经过48h恒定湿热试验,试验后,产品表面应无明显破损、脏污,光学性能、膜层的抗磨强度仍满足6.5.1、6.5.2和6.7条款要求;并且在6.5.1.2条款所示的透过波段λT1~λT2波长范围内,透过率变化率在1%以內。
6.8.4温度循环试验
在无包装的情况下,产品经过10个温度循环试验,温度循环条件为:
-40℃±2℃(2.5h)~85℃±2℃(2.5h)为一个循环(温度转换时间为5mim)。
试验后,产品表面应无明显破损、脏污,光学性能、膜层的抗磨强度仍满足6.5.1、6.5.2和6.7条款要求;并且在6.5.1.2条款所示的透过波段λT1~λT2波长范围内,透过率变化率在1%以內。
6.8.5耐光性试验
在无包装的情况下,产品在放射照度为5mW/cm2,温度为63℃±2℃的条件下经过200h耐光性试验,试验后,产品表面无明显破损、脏污,光学性能、膜层的抗磨强度仍满足6.5.1、6.5.2和6.7条款要求;并且在6.5.1.2条款所示的透过波段λT1~λT2波长范围内,透过率变化率在1%以內。
7试验方法
7.1外形尺寸
7.1.1长宽尺寸使用游标卡尺测量。
7.1.2厚度尺寸使用千分尺测量。
7.2面形偏差
按照GB/T2831的规定方法,使用激光干涉检查仪进行测量。
7.3石英晶体的表面切向
T/ZZB1335—20197
按照GB/T7896的规定方法,使用X射线嵌入式晶体定向仪进行测量。
7.4表面质量
7.4.1外观、麻点、擦痕、灰尘按照GB/T1185的规定方法进行检测。
7.4.2使用雾度计对表面雾度进行测量。
7.5光学性能
7.5.1透过率按照GB/T15489.1的规定方法,使用分光光度计进行测量。
7.5.2反射率按照JB/T8226.1的规定方法,使用反射仪进行测量。
7.5.3片内光学性能偏差:
测试同一滤波片的对角3个点(见图5:
对角2点,位于镀膜有效区边缘0.5mm~1mm处;中点,位于片的中心位置),测出3个点的值,计算出其最大值与最小值的差值即片内光学性能最大偏差值。
7.6膜层结合强度
按GB/T28786规定的方法进行试验。
7.7膜层的抗磨强度
7.7.1摩擦
按JB/T8226.8规定的方法进行试验。
7.7.2擦拭
用蘸有乙醚、酒精混合液(混合比例10:
1)的脱脂纱布(面积为50mm2±5mm2),作用力为1.96N(200g),用1次/s的速度进行来回擦拭,来回作为一次,最大距离10mm。
7.8环境可靠性试验
7.8.1高温试验
按GB/T2423.2规定的方法进行试验。
T/ZZB1335—20198
7.8.2低温试验
按GB/T2423.1规定的方法进行试验。
7.8.3恒定湿热试验
按GB/T2423.3规定的方法进行试验。
7.8.4温度循环试验
按GB/T2423.22规定的方法进行试验。
7.8.5耐光性试验
按GB/T2423.24规定的方法进行试验。
8检验规则
8.1检验分类
产品检验分出厂检验和型式检验。
8.2出厂检验
出厂检验按GB/T2828.1的规定,采用正常检验一次抽样方案。
出厂检验项目、抽样水平、判定,符合表3规定。
8.3型式试验
8.3.1正常生产时每年进行一次,有下列情况之一时需进行试验:
a)新产品或老产品转厂生产的试制定型鉴定;
b)正式生产后,如材料、工艺有较大改变,可能影响产品性能时;
c)正常生产时,定期或积累一定产量后,应周期性进行一次检验;
d)产品长期停产后,恢复生产时;
e)出厂检验结果与上次型式试验结果有较大差异时;
f)国家质量监督机构提出进行型式试验的要求时;
g)客户有要求时。
8.3.2型式试验的检验项目、检验方法、抽样数量,应符合表4规定。
T/ZZB1335—20199
8.3.3型式试验全部检验项目合格,则判定型式试验为合格;除表面质量检验外,其他试验项目有任何一个样品不合格,即判定型式试验为不合格;表面质量检验出现不合格样品,允许二次抽样,样品数量3片,如果没有新的不合格样品,则可判定型式试验为合格,如果仍有不合格样品,则判定型式试验为不合格。
9标志、包装、运输和贮存
9.1标志
产品标志应至少包含以下内容:
产品名称、生产厂名、地址、批号、净含量、生产日期、保质期等,如有特殊要求,按要求进行标志。
9.2包装
9.2.1包装应牢固并有防尘、防震、防碎、防潮等措施。
9.2.2出口产品包装应符合GB/T19142《出口商品包装通则》的要求。
9.3运输