磁控溅射可行性报告.docx

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磁控溅射可行性报告

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磁控溅射可行性报告

　　篇一：

磁控溅射镀膜项目可行性研究报告（目录）

　　磁控溅射镀膜项目可行性研究报告

　　《磁控溅射镀膜项目可行性研究报告》

　　《磁控溅射镀膜项目可行性研究报告》是对拟建的磁控溅射镀膜项目的市场需求、技术方案、资金计划、财务效果、社会影响、投资风险等进行全面的技术经济分析论证，并提交给发改委、证监会、银行或其它上级主管部门审批的上报文件。

　　【报告类型】项目可行性研究报告

　　【报告用途】政府立项、申请土地、银行贷款、上市募投等

　　【交付时间】3-20个工作日，特殊要求另行约定

　　【收费标准】需根据项目投资额大小、工程咨询资质级别等多种因素进行核算

　　【编制机构】千讯（北京）信息咨询有限公司

　　【报告格式】pDF版＋woRD版＋纸介版

　　【资料来源】/Feasib/9/3125179.html根据项目单位的实际使用需要，《磁控溅射镀膜项目可行性研究报告》的编制可以进行不同角度的侧重，主要有以下几种用途：

　　一、用于报政府/发改委立项、批地

　　此类报告须根据《中华人民共和国行政许可法》和国家其它相关规定编写，是大型基础设施项目立项的基础文件，国家或地方发改委根据项目可行性研究报告进行核准、备案或批复，决定某个项目是否实施。

　　此类报告难度相对较低，编制周期短，一般1-3周；报告要求具有工程咨询资质（分甲、乙、丙三个等级）的单位进行编写，绝大多数可行性研究报告都属于此类用途的报告。

　　二、用于向银行申请贷款

　　商业银行或者政策性银行在贷款前进行风险评估时，需要项目方出具详细的可行性研究报告，对于贷款额度较大的项目，银行通常会组织专家评审，以确定项目是否能够放贷。

　　千讯咨询-《磁控溅射镀膜项目可行性研究报告》第1页

　　贷款用可行性研究报告要求提供更为详细准确的市场分析（通常需要权威数据或者一手调查数据）、更为详实准确的建设方案、合理的工艺（说明该工艺的优势以及选择该工艺的原因）、详细的设备明细、潜在客户群体（如果能有采购合同或者战略合作协议就更好）、详实的财务数据、项目的主要风险（银行非常重视）。

此类报告一般撰写周期2-4周，需要去项目所在地进行考察。

　　三、用于上市募投

　　上市募投项目的可行性研究报告应委托经验丰富的咨询机构编写，最好具备上市和工程咨询复合知识，因为募投可研不仅需要严格的工程技术论证，更需要专业的行业分析、市场数据和财务测算。

国内传统的工程咨询机构往往在工程技术领域具备优势，而大多数市场研究机构只在市场和财务等方面精通。

　　此类报告需要出具国家发改委颁发的甲级工程咨询资质。

　　四、申请政府资金

　　符合国家和地方政府扶持政策的企业投资项目，在申请政府资金（包括：

发改委资金、科技部资金、工信部资金、文化部资金、农业部资金等）时，需要用到该类可行性研究报告。

　　此类可行性报告通常需要出具国家发改委颁发的甲级工程咨询资质。

　　五、用于境外投资项目核准

　　企业对国外矿产资源和其他产业投资时，需要编写可行性研究报告，报给国家发展和改革委或省发改委；另（:

磁控溅射可行性报告）外，在申请中国进出口银行境外投资重点项目信贷支持时，也需要可行性研究报告。

　　千讯咨询-《磁控溅射镀膜项目可行性研究报告》第2页

　　千讯咨询可行性研究报告案例

　　千讯咨询-《磁控溅射镀膜项目可行性研究报告》第3页

　　千讯咨询-《磁控溅射镀膜项目可行性研究报告》第4页

　　篇二：

磁控溅射镀膜项目可行性研究报告（目录）

　　磁控溅射镀膜项目

　　可行性研究报告

　　《磁控溅射镀膜项目可行性研究报告》

　　《磁控溅射镀膜项目可行性研究报告》是对拟建的磁控溅射镀膜项目的市场需求、技术方案、资金计划、财务效果、社会影响、投资风险等进行全面的技术经济分析论证，并提交给发改委、证监会、银行或其它上级主管部门审批的上报文件。

　　【报告类型】项目可行性研究报告

　　【报告用途】政府立项、申请土地、银行贷款、上市募投等

　　【交付时间】3-20个工作日，特殊要求另行约定

　　【收费标准】需根据项目投资额大小、工程咨询资质级别等多种因素进行核算

　　【编制机构】中经视野

　　【报告格式】pDF版＋woRD版＋纸介版

　　【资料来源】/research/report/4/224333.html根据项目单位的实际使用需要，《磁控溅射镀膜项目可行性研究报告》的编制可以进行不同角度的侧重，主要有以下几种用途：

　　一、用于报政府/发改委立项、批地

　　此类报告须根据《中华人民共和国行政许可法》和国家其它相关规定编写，是大型基础设施项目立项的基础文件，国家或地方发改委根据项目可行性研究报告进行核准、备案或批复，决定某个项目是否实施。

　　此类报告难度相对较低，编制周期短，一般1-3周；报告要求具有工程咨询资质（分甲、乙、丙三个等级）的单位进行编写，绝大多数可行性研究报告都属于此类用途的报告。

　　二、用于向银行申请贷款

　　商业银行或者政策性银行在贷款前进行风险评估时，需要项目方出具详细的可行性研究报告，对于贷款额度较大的项目，银行通常会组织专家评审，以确定项目是否能够放贷。

　　北京中经视野信息咨询有限公司第1页

　　贷款用可行性研究报告要求提供更为详细准确的市场分析（通常需要权威数据或者一手调查数据）、更为详实准确的建设方案、合理的工艺（说明该工艺的优势以及选择该工艺的原因）、详细的设备明细、潜在客户群体（如果能有采购合同或者战略合作协议就更好）、详实的财务数据、项目的主要风险（银行非常重视）。

此类报告一般撰写周期2-4周，需要去项目所在地进行考察。

　　三、用于上市募投

　　上市募投项目的可行性研究报告应委托经验丰富的咨询机构编写，最好具备上市和工程咨询复合知识，因为募投可研不仅需要严格的工程技术论证，更需要专业的行业分析、市场数据和财务测算。

国内传统的工程咨询机构往往在工程技术领域具备优势，而大多数市场研究机构只在市场和财务等方面精通。

　　此类报告需要出具国家发改委颁发的甲级工程咨询资质。

　　四、申请政府资金

　　符合国家和地方政府扶持政策的企业投资项目，在申请政府资金（包括：

发改委资金、科技部资金、工信部资金、文化部资金、农业部资金等）时，需要用到该类可行性研究报告。

　　此类可行性报告通常需要出具国家发改委颁发的甲级工程咨询资质。

　　五、用于境外投资项目核准

　　企业对国外矿产资源和其他产业投资时，需要编写可行性研究报告，报给国家发

　　展和改革委或省发改委；另外，在申请中国进出口银行境外投资重点项目信贷支持时，也需要可行性研究报告。

　　北京中经视野信息咨询有限公司第2页

　　中经视野可行性研究报告案例

　　北京中经视野信息咨询有限公司第3页

　　北京中经视野信息咨询有限公司第4页

　　篇三：

磁控溅射法制备薄膜材料实验报告

　　实验一磁控溅射法制备薄膜材料

　　一、实验目的

　　1、详细掌握磁控溅射制备薄膜的原理和实验程序；

　　2、制备出一种金属膜，如金属铜膜；

　　3、测量制备金属膜的电学性能和光学性能；

　　4、掌握实验数据处理和分析方法，并能利用origin绘图软件对实验数据进行处理和分析。

　　二、实验仪器

　　磁控溅射镀膜机一套、万用电表一架、紫外可见分光光度计一台；玻璃基片、金属铜靶、氩气等实验耗材。

　　三、实验原理

　　1、磁控溅射镀膜原理

（1）辉光放电

　　溅射是建立在气体辉光放电的基础上，辉光放电是只在真空度约为几帕的稀薄气体中，两个电极之间加上电压时产生的一种气体放电现象。

辉光放电时，两个电极间的电压和电流关系关系不能用简单的欧姆定律来描述，以气压为

　　1.33pa的ne为例，其关系如图5-1所示。

　　图5-1气体直流辉光放电的形成

　　当两个电极加上一个直流电压后，由于宇宙射线产生的游离离子和电子有限，开始时只有很小的溅射电流。

随着电压的升高，带电离子和电子获得足够能量，与中性气体分子碰撞产生电离，使电流逐步提高，但是电压受到电源的高输

　　出阻抗限制而为一常数，该区域称为“汤姆森放电”区。

一旦产生了足够多的离子和电子后，放电达到自持，气体开始起辉，出现电压降低。

进一步增加电源功率，电压维持不变，电流平稳增加，该区称为“正常辉光放电”区。

当离子轰击覆盖了整个阴极表面后，继续增加电源功率，可同时提高放电区内的电压和电流密度，形成均匀稳定的“异常辉光放电”，这个放电区就是通常使用的溅射区域。

随后继续增加电压，当电流密度增加到～0.1A/cm2时，电压开始急剧降低，出现低电压大电流的弧光放电，这在溅射中应力求避免。

（2）溅射

　　通常溅射所用的工作气体是纯氩，辉光放电时，电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。

氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，这些被溅射出来的原子具有一定的动能，并会沿着一定的方向射向衬底，从而被吸附在衬底上沉积成膜。

这就是简单的“二级直流溅射”。

　　（3）磁控溅射

　　通常的溅射方法，溅射沉积效率不高。

为了提高溅射效率，经常采用磁控溅射的方法。

磁控溅射的目的是增加气体的离化效率，其基本原理是在靶面上建立垂直与电场的一个环形封闭磁场，将电子约束在靶材表面附近，延长其在等离子体中的运动轨迹，提高它参与气体分子碰撞和电离过程的几率，从而显著提高溅射效率和沉积速率，同时也大大提高靶材的利用率。

其基本原理示意见图5-2。

　　图5-2磁控溅射镀膜原理

　　磁控溅射能极大地提高薄膜的沉积速度，改善薄膜的性能。

这是由于在磁控

　　溅射时气体压力减小了，使薄膜中嵌入的气体杂质减少，薄膜表面气孔减少而密实，膜面均匀一致。

　　磁控溅射可以分为直流磁控溅射和射频磁控溅射，射频磁控溅射中，射频电源的频率通常在5～30mhz。

溅射过程中还可以同时通入少量活性气体（如氧气），使它和靶材原子在基片上形成化合物薄膜（氧化物薄膜），这就是反应溅射。

　　2、溅射装备

　　以平面溅射方式为例，如图5-3所示的溅射装置图。

在真空室中，基片与圆形靶表面正对且用带孔挡板隔开，其中阴极靶用循环水冷却，基片架上附有加热或通冷却水装置。

　　四、实验内容

　　1、在教师指导下学生查阅有关文献，了解磁控溅射制备薄膜的原理；

　　2、在教师指导下，学习磁控溅射镀膜机的正确使用；

　　3、在教师指导下，按照实验程序进行薄膜制备实验；

　　1）、开相关设备的电源，并开冷却水和空压机；

　　2）、打开放气阀，待没有气压声时打开真空室大门；

　　3）、把玻璃样品安放在靶台的适当位置，关闭真空室大门；

　　4）、关闭放气阀，打开机械泵控制电源，然后打开旁抽阀，开始抽真空，直到真空度低于5pa；

　　5）、关闭旁抽阀，打开前级阀，开分子泵电源，逐渐打开翻板阀，开始抽真

　　空，此时分子泵的转速为8400r/s，频率为135hz。

当真空度为3×10-3pa时，分子泵转速为2700r/s，频率为450hz，电压55V，电流3.3A；

　　6）、打开氩气瓶和对应的mcF控制阀，mcF流量显示仪打到阀控位置，然后调节流量为20sccm（即标况下20mL/min），此时真空室气压为5.5×10-2pa缓慢调节翻板阀开口的大小，调节真空室气压至1到2pa之间（本实验为1.6pa）；

　　7）、打靶台挡板开直流电源开关，调节功率，可以观察到，当为10w左右时，开始出现辉光，并且辉光呈绿色，并随功率的增大颜色变亮；

　　8）、开样品挡板开始溅射；

　　9）、停止溅射：

将功率逐渐调制0，并关闭溅射电源，关闭氩气瓶和对应的mcF控制阀；关闭翻板阀，关闭分子泵电源，直到分子泵频率和转速都降为0时，关闭前级阀；关闭机械泵；

　　10）、开放气阀，直至没有气流声，然后打开真空室大门，取出样品，可观察到玻璃样品上已镀上一层银白色的膜。

　　11）、关闭真空室并将其抽至低真空，然后关闭空压机、水冷系统等，并切断总电源。

　　4、在教师指导下测量薄膜的电学和光学性质；

　　5、对薄膜性能进行分析；

　　6、总结实验结果，撰写实验报告。

　　五、实验数据与数据处理

　　在实验中，老师对电镀薄膜进行了时间控制，时间分别控制在10s和60s。

这两种的放射率测量的结果如下图：

　　电镀10秒的薄膜

　　电镀60秒的薄膜

　　六、实验结论

　　从上面两幅波长与反射率的关系可以看出: