国产晶硅平板PECVD设备的优势Word文件下载.docx

1、 设备结构上划分 平板式 管式 沉积原理上划分 直接法 间接法 Plasma Source SiH4、NH3 平面载板 镂空碳框 石墨舟 功能分布于不同腔室 气体利用率高 自动化程度高 生产效率高 自动装卸片易实现 设备维护繁琐 功能集中于同一炉管 气体利用率低 自动化程度低 生产效率低 自动装卸片不易实现 设备维护简单 膜质致密 表面钝化 体钝化 沉积速率低 膜质疏松 表面钝化 沉积速率高 平板式直接法 PECVD可较好地满足产业发展需要 ESSINDTM PECVD的技术规格 项目 产量 膜厚均匀性 折射率均匀性 折射率 沉积速率 成膜温度 反应气体 指标 1950片/时（125*125m

2、m2）;1320片/时（156*156mm2） 片内 3% ,片间 5 %, 批间5% 片内 1% ,片间 1.5 %, 批间1.5% 2.02.2 2030nm/min 200450oC连续可调 SiH4、NH3、N2 装载预热腔 ?大气-真空 ?预热 工艺腔 ?等离子体沉积 冷却卸载腔 ?真空-大气 ?冷却 装片台 ?摆放硅片 卸片台 ?取走硅片 。 预热 。 工艺 冷却 载板返回 平板PECVD设备的关键技术 大面积成膜均匀性 气流场 ?电场 ?温度场 可维护性 大角度开盖 ?快速冷却 ?延长PM时间 ?易操作 ?完善的安全保护设计 ?先进工艺控制和分析 ?自诊断 ?工厂数据接口 ?降低

3、单位能耗 ?提高工艺气体利用率 腔室结构 上、下电极结构 ?热设计 ?真空传动 ?高效传输系统 ?自动装卸片的集成 ?载板自动返回 软件及控制系统 自动化 节能降耗技术 开发平板PECVD设备是一项具有较大挑战性的工作 晶硅平板PECVD设备的技术特点 北方微电子开发平板PECVD设备的机遇 ESSINDTM PECVD设备的竞争优势 太阳能电池生产厂对大型设备供应商能力的评估要素 产品战略 具有清晰长远的战略规划 资金基础 具有雄厚的资金基础 人才团队 具有稳定高素质的专业技术团队 行业经验 具有微电子高端设备行业经验 管理水平 具有正规的企业管理水平 研发平台 具有专业的检测评估手段 服务

4、能力 具有专业水准的服务培训能力 产品战略 12”90nm刻蚀 机研发成功 12”65nm刻蚀机 生产线DEMO 12”45nm刻蚀机 生产线DEMO 12”45nm PVD生 产线DEMO 2003 2004 2005 2006 2007 2008 2009 2010 2011 2012 开始研发 8”刻蚀机 8”刻蚀机生 产线DEMO 8”刻蚀机 实现销售 8”刻蚀机 销售第三客户 晶硅太阳能 自动化解决方案 8”刻蚀机 销售第二客户 晶硅太阳能PECVD 进入生产线 RIE制绒设备开 发完成 愿景：成为全球知名的半导体、光伏和显示照明领域的高端设备提供商。 资金基础 股东构成 北京电子控

5、股有限公司 中科院微电子研究所 清华大学 北京大学 中科院光电技术研究所 北京圆合电子技术公司 北京七星华电科技集团 国家项目 十五期间承担了863“100nm高 密度等离子刻蚀机”项目，总投 资2.6亿元； 目前承担国家科技重大专项 “90/65nm刻蚀机研发与产业化 ”项目和“65-45nmPVD设备研 发”项目，总投资10.85亿元。 产品销售 8英寸等离子体刻蚀机 12英寸等离子体刻蚀机 晶硅太阳能平板PECVD LED ICP刻蚀机 自动化设备 12英寸PVD 薄膜太阳能PVD RIE制绒设备 人才团队 人才背景 等离子体技术 高频交流电 精密机械设计 自动化系统控制 软件开发 本科

6、 现有员工总数： 其他 218人 博士 海外专家15人、博士13人、硕士142人 11% 6% 人才来源 半导体业 优秀技术专家/ 管理精英 半导体业 海外归国人才/ 外籍专家 设备业 丰富经验研究人员 全国重点高等院 校优秀毕业生 18% 65%硕士 硕士以上员工比例为64% 71% 行业经验 掌握的关键技术： 反应腔室设计、高真空技术、 反应腔室设计、高真空技术、 等离子体技术、射频匹配、真 等离子体技术、射频匹配、真 空自动传输、自动控制及软件 空自动传输、自动控制及软件 、终点检测、无损刻蚀、颗粒 、终点检测、无损刻蚀、颗粒 控制、刻蚀工艺 控制、刻蚀工艺 中芯国际天津工厂 上海华虹N

7、EC二厂 涵盖的科学种类： 精密机械、真空科学、自动控 精密机械、真空科学、自动控 制、软件科学、半导体物理、 制、软件科学、半导体物理、 等离子体物理、化学、光学、 等离子体物理、化学、光学、 材料学、热力学 、流体力学 材料学、热力学 、流体力学 上海宏力半导体公司 中芯国际北京12英寸工厂 第一家将高端半导体设备成功应用于集成电路大生产线的本土设备制造商 管理水平 质量管理 安全管理 产品数据管理 生产管理 知识管理 研发流程管理 知识产权 通过ISO9001/ISO14001/OHSAS18001质量、环境和职业 安全卫生管理体系认证 获得德国TUV公司CE、SEMI S2/S8产品安

8、全和人体工程 学认证证书 引入PDM信息化产品数据管理系统 与全球著名SAP公司合作，引入ERP信息化企业管理系统 实施KM知识管理系统，利用工作流管理引擎，开创了积 累知识、创造知识的新途径 引入IPD集成产品开发管理体系，运用矩阵式组织管理架 构，提高了产品和技术开发的效率 首批“北京市示范专利单位”称号、国家专利试点单位; 目前累计 申请专利五百余件 研发平台 太阳能电池设备评测中心 千级工艺开发间 万级半导体设备组装间 射频检测分析实验室 形貌扫描电子显微镜 线条扫描电子显微镜 膜厚测量仪 颗粒检测仪 为国产高端装备的开发提供了有力支撑 服务能力 以客户为中心，设备在哪里使用，服务就在

9、哪里提供 建立了标准的服务流程及完善的服务体系 北京本部 北京服务中心 美国办事处 上海服务中心 天津服务中心 日本办事处 ESSINDTM PECVD设备的竞争优势 优异的工艺性能 高效的生产能力 先进的颗粒控制技术 前瞻性的功能扩展设计 完善的可靠性设计 先进的工艺控制软件 优异的工艺性能 成膜均匀性 片内均匀性 沉积速率 均值 片间均匀性 片内均匀性 片间最大值 片间最小值 31.6nm/min 2.78% 0.81.9% 32.6 30.8 折射率 2.000 0.22% 0.060.79% 2.004 1.995 45.0 40.0 35.0 30.0 25.0 1 2 3 4 5

10、6 7 8 沉积速率 折射率 2.100 2.050 2.000 1.950 1.900 测试条件： Wafer 测试点 Wafer 摆放 a）4寸抛光片；b）距离wafer单边10mm；c）5点/片； d）均匀性计算方法（最大值-最小值）/（最大值+最小值） 片内、片间均匀性满足生产线要求 150.0 130.0 110.0 90.0 70.0 1106-0 1108-0 1110-0 1113-0 沉积厚度（抛光片） 2.050 2.025 2.000 1.975 1.950 1106-0 折射率（抛光片） 1107-0 1108-0 1109-0 1110-0 1111-0 重复性 =

11、最大值-最小值 最大值+最小值 重复性 = = 最大值-最小值 最大值+最小值 0.29% = 2.56% 3% （设备重复性指标） 1% （设备重复性指标） 批间均匀性满足生产线要求 1113-0 高效的生产能力 大面积载板 高速沉积22 nm/min Inline式多腔室架构 自动化传输和载板返回 节拍控制 自动化装卸片 具备30MW电池生产能力 先进的颗粒控制技术 在线干法清洗技术 解决颗 粒问题 颗粒抑制 颗粒固化 颗粒去除 新型内衬设计 表面处理技术 设备工作流程优化 每30天开盖 维护1次 干洗前 干洗后 PRK技术在提高镀膜质量的同时，降低了设备维护频率 先进的工艺控制软件 人性

12、化设计 ? 界面功能合理布局，符合SEMI E95标准 分布式控制 ? 分布式软件控制，保证软件的健状性 安全性设计 ? 安全互锁、报警处理、自动诊断、权限设定。 提供对外数据接口 ? 接口标准符合SEMI E4、E5、E30 ? 支持APC和MES 丰富的软件功能 ? 先进的配方管理、机台配置、统计记录、过程分 析处理 ? 自动、手动双重运行模式 完善的可靠性设计 Semi和CE标准 ? 遵循Semi和CE标准设计 人员和设备的安全保护和故障互锁 ? 操作受安全互锁保护，保障人员和设备安全 ? 对数十个数据进行实时监控，自动报警，提示故障和隐患 部件寿命监控和统计 ? 可跟踪关键零件的使用寿命，保障设备稳定，提示进行维护 总结 基于在半导体行业积累的成功经验，北方微电子有信心成为一流的太 阳能电池高端设备提供商； 拥有众多前瞻性设计理念的ESSINDTM 平板式PECVD系统已经显示出 众多卓越性能。 愿北方微电子成为您真诚的合作伙伴 1本文由2002090010贡献 接口标准符合SEMI E4、E