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CREO经典阵列实例解析高级篇文档格式.docx

1、起删掉,如果要保留原始特征,请使用【删除阵列】命令来删除2.阵列预览中的黑点代表要进行阵列的位置,单击黑点将其变成白点,表示此位置不需要阵列。3.若阵列的特征有多个,需将这些特征编组,然后再进行阵列。-2-二CREO 软件阵列操作界面三需要使用关系来控制阵列时,你会用到以下符号:memb_v - 指定方向中的关系驱动最终尺寸memb_i - 指定方向中的关系驱动增量lead_v - leader 值(选择尺寸确定方向)-阵列实例索引在第一方向(代表当前实例特征在阵列中的位置,其值从0 开始,第一方向第一个实例特征 idx1=0,第五个实例特征 idx1=4)-阵列实例索引在第二方向(同上,只是

2、方向不同而已)不能在同一关系中使用 memb_v 和 memb_i,这些符号所代表的含义我将会在下面的这些实例中详细说明。idx1idx2-3-四实例解析:1.随形阵列解析:阵列成员的高度随曲线的波动而变化,技巧就在于草绘特征截面时让其与曲线连系起来。A.先草绘一条曲线B.选择拉伸工具,在原草绘平面中绘制矩形截面-4-C.直接阵列拉抻特征即可。刚才上面讲到的是到曲线,下面这种则是到面面,操作更简单。-5-直接拉伸到选定曲面,然后阵列即可,这里就不做详细说明了,只要注意一下草绘截面与参考基准的位置尺寸。-6-2.方向阵列及轴阵列相信很多朋友都见到过此题,现在我就重点讲解如何阵列完成上图的台阶。整

3、个楼梯台阶呈 360 度旋转,高度从圆柱最使低位置到最高位置,题目解法很多,无论解法多少,思路都一样,一个旋转角度和一个高度变化。方法一:轴阵列+高度尺寸增量(注意此高度尺寸必须为位置尺寸,如果你选择楼梯板的厚度作为高度尺寸增量,那么每一级台阶厚度为叠加尺寸,这种效果相对于图片上的来还是比较现实,但我们要的是图片效果)在这里,我新建的一个基准面,然后在基准面上绘制台阶,最后再使用轴阵列,通过阵列基准面的位置尺寸来控制台阶高度变化,完成如下图(建议将创建基准面的工作放在拉伸台阶的特征内完成)-7-方法二;方向阵列+角度尺寸增量(还是一样,角度尺寸必须是位置尺寸,方能完成上图效果)d152 是一个

4、角度定位尺寸,其值为 360*5/100=18 度(100 为圆柱的高度,5 是台阶的高度)如下图所示。在使用阵列尺寸的时候,我们必须清楚知道自己阵列的尺寸是位置尺寸的还是形状尺寸,位置尺寸只控制阵列后成员位置的变化,而形状尺寸则会改变成员的原始外形。-8-3.关系阵列(尺寸阵列)关系阵列是本次阵列教程中的重点,以下讲解内容都是比较常见的,包含尺寸阵列、数字阵列、行为建模中刻度的阵列以及字符串阵列。A.尺寸阵列(关系应用)此题是两个方向阵列,第一方向特征呈波形曲线排布且圆柱直径由大到小,高度由低到高第二方向特征呈直线均匀排布,无论直径大小,高度都一样再看下图-9-第一方向的尺寸A.控制圆柱呈曲

5、线排布的尺寸 1(初始值为 50),这里需要用到参数B.控制圆柱直径变化的尺寸 3 (初始值为 30)C.控制圆柱高度变化的尺寸 4(初始值为 20)D 控制圆柱第一方向间距大小的尺寸 2(初始值为 40)第二方向的尺寸A.控制圆柱在第二方向间距大小的尺寸 1(初始值为 50)选中尺寸 1,勾选【按关系定义增量】输入关系式 memb_v=lead_v+25*sin(45*idx1)现在我们一起来看一下这个关系式的意思。Memb_v 前面有记载是关系驱动最终尺寸的参数符号,lead_v 是导引尺寸参数符号,就是你选取的原始尺寸值,比如说此题我选择尺寸 d282,而 d282 原始尺寸值为 50,

6、那么在此尺寸下编辑的关系中,lead_v 值恒为 50。你可以将 lead_v 改为 50,其结果是不会发生变- 10 -化,25*sin(45*idx1),其中 25 是振幅,Idx1 是阵列实例在第一方向的位置,比如说第二个阵列实例吧,那么它的最终尺寸值是 50+25*sin(45*1),也就是说第二个圆柱的圆心到板的边缘尺寸值为 50+25*sin(45*1)。为了方便大家理解,在这里我用一简图来表达这些符号的意思。- 11 -B.数字阵列本题难点在于数字的变化及均匀排布在圆周之上,方法有很多,这里介绍一种常规的解题思路进入草绘,在草绘中设置字符符参数使用文本工具,将文体行设为使用参数-

7、 12 -尺寸阵列,如下图所示。在钟表表盘上的数字除了圆形排布外,还有一种方形排布的,那又该如何解决呢?- 13 -要完成上图数字阵列,需借助参考曲线,让数字只能绕参考曲线均布。草绘一条曲线,如下图所示在这里我们要将此曲线合并成一条曲线链,你可以使用造型或者复制工具完成- 14 -启用复制工具的方法是:选中草绘曲线在草绘曲线上点击至加粗Ctrl+C 打开复制面板使用先前草绘平面,再次进入草绘平面,选取复制曲线作为参考,在其上输入文本,将文本行改为使用参数(详细可参考上例)使用关系,在关系窗口中输入 a=itos(floor(sd0/30)(此关系式控制数字变化)完成草绘后,阵列即可- 15 -

8、完成后,如下图所示- 16 -C.关于刻度阵列此题难点在于控制刻度长短,由于这些刻度一端在圆周上,而另一端变化有规律,因此我们需绘制两个构造圆,通过控制构造圆直径的变化来更改刻度长短先草绘一条刻度再阵列这个刻度- 17 -关系式并不难理解,这里不作详细解释行为建模中也有使用阵列来绘制刻度- 18 -这道题目主要通过分析工具,测量瓶体体积,然后在其上按实际体积标上刻度关于行为建模内容,三言两语无法说清楚,所以只讲解阵列刻度部分,其实方法同上例一样。先选取一个平面草绘第一条刻度然后将刻度投影到瓶子表面,再将刻度草绘和投影编组阵列- 19 -4.曲面 U-V 线阵列此例是在曲面的 UV 线交点上阵列

9、出高度不等的圆柱体。边界混合平面与填充平面的 UV 线是不相同的。填充平面的 UV 线是相互垂直直线,所以在这里我使用边界混合来绘制平面。a.在同一个平面上草绘四条曲线(分开草绘)- 20 -b.使用边界混合工具,创建平面c.选择造型工具,创建两条曲面上的曲线,按下图设置其软件位置接着选择相切控制面板,将约束更改为沿 U 方向(如果你更改的是另一条曲线,那么就将约束设置为沿 V 方向)- 21 -再选择曲线的另一端点,按下图修改软点参数然后就是切点约束- 22 -另一条曲线也是同样设置,就不重复讲解了。- 23 -d.确定退出造型工具后,然后在这两条曲线交点处拉抻一个直径为 30mm 的圆柱将

10、造型与拉抻特征编组,为阵列作准备e.阵列,选择尺寸阵列,将 UV 两条曲线分别作为阵列的两个方向,在第一方向选择U 曲线的两端软点参数值,如果参数值为 0.1,那么增量设置为 0.1,如果参数值为 0.9,那么增量值设置为-0.1(其软点参数值的取值范围为 01),在第二方向选择 V 曲线的两端软点参数值,增量设置方法和 U 曲线一样。将两个方向阵列成员数均设为 9。在此阵列中我还在第一方向加入了高度的关系变化,第二方向加入直径的增量。很大程度上提高了阵列的难度。足够让人深思!,- 24 -第一方向中圆柱高度添加了关系 memb_v=10+idx1*idx2*2确定并退出阵列。此题方法并不是唯

11、一的,下面为大家介绍另一种方法获取 UV 线a 还是同一平面上分别草绘 4 条曲线。(参考第一种方法)b.选择一条草绘曲线,在其上创建基准点- 25 -c.选择此曲线相邻曲线,在其上创建另一基准点。- 26 -d.使用修剪工具,将曲线从基准点处断开。- 27 -e.使用边界混合创建平面UV 线已经创建完毕,下面的工作就是在其交点处绘制圆柱,再将其阵列即可。详细请参考第一种方法。- 28 -5.表阵列解析:此题有点难度,主要是表格的制作有些繁琐,我们要通这个表格再给阵列成员指定位置。需要注意的是阵列成员形状没有发生变化只是位置变动而已,所以在草绘时注意位置尺寸的标注。A.创建一个基准面(最好用

12、TOP 面创建偏移基准面,当时自己做此题没注意,选了 RIGHT 面作为偏移参考,结果肯定是没有什么影响,当你点标准方向的时候就很头痛啦)- 29 -B.选择刚创建的基准平面作为拉伸特征的草绘平面,绘制如图截面C.然后将基准平面和拉伸特征打包编组,再使用阵列工具- 30 -选择编辑表格,在表格中输入正方体的位置尺寸其实这个表格不难理解我们可以把这三个尺寸理解为三维空间中的 XYZ 轴,D1137 就是 Z 轴,D1172 和 D1171 是XY 轴。当这三个值均为 0 时,那么此点就是这个三维空间的坐标原点。如果这个没有问题的话,那么下面这一个呢?- 31 -同上题做法一样,一个基准平面和一个

13、拉伸特征再加上表阵列完成1.创建基准平面,参考选择 TOP 平面。2.在刚创建的基准平面上拉伸边长为 99 的正方体,草绘截面如下图所示3.编组阵列- 32 -编辑表格- 33 -6.填充阵列填充阵列的操作界面,如下图所示CREO 软件提供了 6 种填充排列方式,分别是正方形、菱形、六边形、圆形、螺旋形、沿曲线,所以其应用范围比较广,操作比较简单填充阵列的应用最常规的解法:在圆形薄板上填充正六边形孔,然后使用钣金中的成型工具完成(以前做此题时我是在实体中阵列孔后,再转到钣金中冲压,所以才有上图的模型树,其实根本没这个必要,可直接在钣金件中完成)1.创建平面壁,绘制直径为 500 的圆形截面。厚

14、度为 2mm2.在平面壁上任意位置裁剪出一个正六边形孔(填充阵列不需考虑初始特征的- 34 -位置)3.使用填充阵列。4.使用成型工具(曲于冲压的形状特殊,所以我们要自己绘制一个冲孔模型,如下图所示 )使用自定义的冲孔模型来冲压零件- 35 -再看下一例,此例也是通过填充阵列完成的球面上的小正方体,可以使用偏移工具完成,然后面使用填充阵列即可。1.点选已绘制好直径为 100 的球体表面,使用偏移工具- 36 -2.选择偏移特征,阵列映射到曲面空间:阵列导引被直接投影到曲面上,阵列成员会从草绘平面映射到曲面空间,曲面间距与草绘间距匹配。按照投影:阵列导引和阵列成员直接投影到曲面,间距不会进行调整

15、,不能投影到曲面上的阵列成员将会从阵列中移除映射到曲面 UV 空间:阵列成员会从草绘平面映射到曲面的 UV 空间- 37 -7.曲线阵列曲线阵列操作界面,如下图所示曲线阵列同填充阵列中的沿曲线排列类似,操作比较简单。此例是临时做教程的时候随手画的,目的在于讲解曲线阵列的应用。本例涉及到的知识点有曲线方程、变截面扫描、随形曲线阵列。A.输入我们所要的星形曲线方程(你也可以在草绘中绘制一个星形曲线)- 38 -B.新建基准平面,在平面上草绘两个圆C.使用变截面扫描工具。草绘截面,配合关系函数。- 39 -D.使用拉伸工具,绘制一个直径为 1 的圆柱,深度选择拉伸到曲面E.曲线阵列- 40 -8.参

16、考阵列参考阵列一般情况下都是呈不可用状态,除非它所阵列的对象和先前已有阵列的源实体有定位尺寸关系。当你选择要阵列的特征与先前阵列的特征有定位尺寸关系时,系统会默认进入参考阵列,如果你不需要参考阵列,可下拉菜单选择其它阵列方式。既然参考阵列与原有阵列结果一样,那为什么不直接将其编组,用一个组阵列搞定呢?参考阵列与组阵列到底有什么区别?这个则需要大家在以后的使用中留意和总结啦!笔者就不再多讲9.点阵列点阵列操作界面,如下图所示草绘的参考点只能存在于二维空间中,而我们创建的基准点则可以是三维空间中的点。点阵列就是通通参考点的位置来确定阵列成员的位置,操作简单,值得注意的是- 41 -草绘参考点,一定

17、要选择基准里面的点工具,方能阵列。用参考阵列须注意的是:草绘小圆柱的截面时,要以基准点作为截面圆心。如果使用点阵列,那么草绘参考点时选择需要的基准点作为参考即可。- 42 -10.八种阵列方式,已经讲完了,最后留一道题给大家思考- 43 -本次 CREO 阵列实例解析到此为止,如有错漏或不明白之处可直接联系本人。这篇文章算不上什么教程,只是记录个人在学习阵列和使用阵列的过程中,总结的经验与方法,文章大部分实例均来自网络,由于内容较多、知识点涉及较广,所以文章只记录关键步骤,适合有一定基础的朋友阅读。感谢大家支持,希望对你们有所帮助,留下邮箱和 QQ 方便大家交流。联系方式邮箱:*QQ:413624704注:本次教程制作使用软件版本为 Creo 2.0 F000 正式版完成日期:20120517

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