3747半导体行业污染物排放标准.docx

1、3747半导体行业污染物排放标准半导体行业污染物排放标准1 范围本标准规定了半导体企业的水污染物和大气污染物排放标准限值、监测要求、达标判定、实施与监督。本标准适用于半导体企业的水污染物排放管理、大气污染物排放管理，以及半导体企业排污许可管理、建设项目环境影响评价、建设项目环境保护设施设计、竣工验收及其投产后的污染控制与管理。半导体企业与污水集中处理设施采用协商方式确定企业水污染物间接排放限值时，污水集中处理设施的水污染物排放管理也适用于本标准。2 规范性引用文件下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件，仅注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有

2、的修改单）适用于本文件。GB 3095 环境空气质量标准GB 3838 地表水环境质量标准GB/T 6920 水质 pH值的测定 玻璃电极法GB/T 7466 水质 总铬的测定GB/T 7467 水质 六价铬的测定 二苯碳酰二肼分光光度法GB/T 7470 水质 铅的测定 双硫腙分光光度法GB/T 7471 水质 镉的测定 双硫腙分光光度法GB/T 7475 水质 铜、锌、铅、镉的测定 原子吸收分光光度法GB/T 7484 水质 氟化物的测定 离子选择电极法GB/T 7485 水质 总砷的测定 二乙基二硫代氨基甲酸银分光光度法GB/T 7494 水质 阴离子表面活性剂的测定 亚甲蓝分光光度法G

3、B 8978 污水综合排放标准GB/T 11893 水质 总磷的测定 钼酸铵分光光度法GB/T 11901 水质 悬浮物的测定 重量法GB/T 11907 水质 银的测定 火焰原子吸收分光光度法GB/T 11910 水质 镍的测定 丁二酮肟分光光度法GB/T 11912 水质 镍的测定 火焰原子吸收分光光度法GB 13271 锅炉大气污染物排放标准GB/T 15432 环境空气 总悬浮颗粒物的测定 重量法GB/T 15516 空气质量 甲醛的测定 乙酰丙酮分光光度法GB/T 16157 固定污染源排气中颗粒物测定与气态污染物采样方法GB/T 16489 水质 硫化物的测定 亚甲基蓝分光光度法H

4、J/T 27 固定污染源排气中氯化氢的测定 硫氰酸汞分光光度法HJ/T 28 固定污染源排气中氰化氢的测定 异烟酸-吡唑啉酮分光光度法HJ/T 30 固定污染源排气中氯气的测定 甲基橙分光光度法HJ 38 固定污染源废气 总烃、甲烷和非甲烷总烃的测定 气相色谱法HJ/T 42 固定污染源排气中氮氧化物的测定紫外分光光度法HJ/T 43 固定污染源排气中氮氧化物的测定盐酸萘乙二胺分光光度法HJ/T 55 大气污染物无组织排放监测技术导则HJ/T 60 水质 硫化物的测定 碘量法HJ/T 65 大气固定污染源 锡的测定 石墨炉原子吸收分光光度法HJ/T 67 大气固定污染源 氟化物的测定 离子选择

5、电极法HJ 75 固定污染源烟气（SO2、NOx、颗粒物）排放连续监测技术规范HJ 76 固定污染源烟气（SO2、NOx、颗粒物）排放连续监测系统技术要求及检测方法HJ 84 水质 无机阴离子的测定 离子色谱法HJ/T 91 地表水和污水监测技术规范HJ/T 195 水质 氨氮的测定 气相分子吸收光谱法HJ/T 199 水质 总氮的测定 气相分子吸收光谱法HJ/T 200 水质 硫化物的测定 气相分子吸收光谱法HJ/T 397 固定源废气监测技术规范HJ/T 399 水质 化学需氧量的测定 快速消解分光光度法HJ 484 水质 氰化物的测定 容量法和分光光度法HJ 485 水质 铜的测定 二乙

6、基二硫代氨基甲酸钠分光光度法HJ 486 水质 铜的测定 2,9-二甲基-1,10-菲啰啉分光光度法HJ 487 水质 氟化物的测定 茜素磺酸锆目视比色法HJ 488 水质 氟化物的测定 氟试剂分光光度法HJ 489 水质 银的测定 3,5-Br2-PADAP分光光度HJ 490 水质 银的测定 镉试剂2B分光光度法HJ 493 水质 采样样品的保存和管理技术规定HJ 494 水质 采样技术指导HJ 495 水质 采样方案设计技术指导HJ 501 水质 总有机碳的测定 燃烧氧化-非分散红外吸收法HJ 533 环境空气和废气 氨的测定 纳氏试剂分光光度法HJ 534 环境空气 氨的测定 次氯酸钠

7、-水杨酸分光光度法HJ 535 水质 氨氮的测定 纳氏试剂分光光度法HJ 536 水质 氨氮的测定 水杨酸分光光度法HJ 537 水质 氨氮的测定 蒸馏-中和滴定法HJ 544 固定污染源废气 硫酸雾的测定 离子色谱法HJ 548 固定污染源废气 氯化氢的测定 硝酸银容量法HJ 549 环境空气和废气 氯化氢的测定 离子色谱法HJ 604 环境空气 总烃、甲烷和非甲烷总烃的测定 直接进样-气相色谱法HJ 636 水质 总氮的测定 碱性过硫酸钾消解紫外分光光度法HJ 637 水质 石油类和动植物油的测定 红外分光光度法HJ 644 环境空气 挥发性有机物的测定 吸附管采样-热脱附/气相色谱-质谱

8、法HJ 657 空气和废气颗粒物中铅等金属元素的测定电感耦合等离子体质谱HJ 659 水质 氰化物等的测定 真空检测管-电子比色法HJ 665 水质 氨氮的测定 连续流动-水杨酸分光光度法HJ 666 水质 氨氮的测定 流动注射-水杨酸分光光度法HJ 667 水质 总氮的测定 连续流动-盐酸萘乙二胺分光光度法HJ 668 水质 总氮的测定 流动注射-盐酸萘乙二胺分光光度法HJ 670 水质 磷酸盐和总磷的测定 连续流动-钼酸铵分光光度法HJ 671 水质 总磷的测定 流动注射-钼酸铵分光光度法HJ 683 环境空气 醛、酮类化合物的测定高效液相色谱法HJ 692 固定污染源废气 氮氧化物的测定

9、 非分散红外吸收法HJ 693 固定污染源废气 氮氧化物的测定 定电位电解法HJ 694 水质 汞、砷、硒、铋和锑的测定 原子荧光法HJ 700 水质 65 种元素的测定 电感耦合等离子体质谱法HJ 732 固定污染源废弃挥发性有机物的采样 气袋法HJ 734 固定污染物源废气 挥发性有机物的测定 固相吸附-热脱附/气相色谱-质谱法HJ 759 环境空气 挥发性有机物的测定 罐采样/气相色谱-质谱法HJ 776 水质 32种元素的测定 电感耦合等离子体发射光谱法HJ 777 空气和废气 颗粒物中金属元素的测定 电感耦合等离子体发射光谱法HJ 828 水质 化学需氧量的测定 重铬酸盐法HJ 83

10、6 固定污染源废气 低浓度颗粒物的测定 重量法HJ 908 水质 六价铬的测定 流动注射-二苯碳酰二肼光度法HJ 955 环境空气 氟化物的测定 滤膜采样/氟离子选择电极法HJ 970 水质 石油类的测定 紫外分光光度法污染源自动监控管理办法（国家环境保护总局令 第28号）环境监测管理办法（国家环境保护总局令 第39号）3 术语和定义下列术语和定义适用于本标准。3.1 半导体企业 semiconductor industry 从事半导体分立器件或集成电路的制造、封装测试的企业。3.2 现有企业 existing facility指本标准实施之日前已建成投产或环境影响评价文件已通过审批的半导体企

11、业。3.3 新建企业 new facility 指本标准实施之日起环境影响评价文件通过审批的新建、改建和扩建的半导体工业建设项目。3.4 直接排放 direct discharge指排污单位直接向环境水体排放水污染物的行为。3.5 间接排放 indirect discharge排污单位向污水集中处理设施排放水污染物的行为。3.6 污水集中处理设施 concentrated wastewater treatment facilities为两家及两家以上排污单位提供污水处理服务的污水处理设施，包括各种规模和类型的城镇污水集中处理设施、工业集聚区（经济技术开发区、高新技术产业开发区、出口加工区等各类

12、工业园区）污水集中处理设施，以及其他由两家及两家以上排污单位共用的污水处理设施等。3.7 排水量 effluent volume企业或生产设施排放到企业法定边界外的废水量。包括与生产有直接或间接关系的各种外排废水（含厂区生活污水、冷却废水、厂区锅炉和电站废水等）。3.8 单位产品基准排水量 benchmark effluent volume per unit product用于核定水污染物排放浓度而规定的生产单位产品的污水排放量上限值。3.9 挥发性有机物 volatile organic compounds,VOCs参与大气光化学反应的有机化合物，或者根据有关规定确定的有机化合物。在表征VO

13、Cs总体排放情况时，根据行业特征和环境管理要求，可采用总挥发性有机物（以TVOC表示）、非甲烷总烃（以NMHC表示）作为污染物控制项目。3.10 非甲烷总烃 non-methane hydrocarbon采用规定的监测方法，检测器有明显响应的除甲烷外的碳氢化合物的总称（以碳计）。本标准使用“非甲烷总烃（NMHC）”作为排气筒和厂界挥发性有机物排放的综合控制指标。3.11 总挥发性有机物 total volatile organic compounds（TVOC）采用规定的监测方法，对废气中的单项挥发性有机物进行测量，加和得到挥发性有机物的总量，以单项挥发性有机物的质量浓度之和计。实际工作中，应

14、按预期分析结果，对占总量90%以上的单项挥发性有机物进行测量，加和得出。3.12标准状态 standard condition温度为273.15K、压力为101 325 Pa 时的状态。本标准规定的大气污染物排放浓度限值均以标准状态下的干气体为基准。3.13 企业边界 enterprise boundary指半导体工业企业的法定边界。若难以确定法定边界，则指企业的实际占地边界。4 水污染物排放控制要求4.1 水污染物排放限值见表1。4.2 企业向城镇污水处理厂排放废水时，其第二类水污染物排放应达到表1中间接排放限值；废水进入具备处理此类污水工艺和能力的集中式工业废水处理厂的企业，其第二类水污染

15、物排放可与集中式工业污水处理厂商定间接排放限值，并签订协议报当地环境保护主管部门备案。企业与集中式工业废水处理厂商定的间接排放限值，不得宽于污水综合排放标准中规定的接管限值。未签订协议的企业，其第二类水污染物执行表1中的间接排放限值。4.3在国土开发密度高、环境承载能力开始减弱，或水环境容量较小、生态环境脆弱，容易发生严重水环境污染问题而需要采取特别保护措施地区的企业，根据生态环境保护工作要求，执行表1规定的特别排放限值。执行水污染物特别排放限值的地域范围、时间，由省级生态环境主管部门或设区市人民政府规定。表1 水污染物排放限值单位为mg/L序号污染物项目直接排放限值特别排放限值间接排放限值污染物排放监控位置1总镉（按Cd计）0.050.010.05/0.01a车间或生产设施废水排放口 2总铬（按Cr计）0.50.50.5/0.53六价铬（按Cr6+计）0.10.10.1/0.14总砷（按As计）0.20.10.2/0.15总铅（按Pb计）0.2