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Cadence使用基础

IC工艺及版图设计课程实验一

一、实验目的:

1掌握Cadence软件的启动方法

2了解原理图编辑器使用方法

3掌握Cadence版图编辑软件的使用方法

二、实验软件:

CadenceIC5141VirtuosoLayoutEditor

三、实验要求:

实验前请做好预习工作,实验后请做好练习,较熟练的使用Cadence软件。

IC工艺及版图设计课程实验一

教学任务

Cadence版图编辑软件的简介

学时

2

教学目标

专业能力:

1.了解Linux基本操作

2.了解原理图编辑软件操作

3.熟练掌握版图编辑软件的使用

4.掌握版图层次

教学内容

1.Linux下Cadence软件操作

2.Cadence软件的使用主要包括原理图编辑软件和版图编辑软件

重点

CadenceVirtuoso版图编辑软件使用

难点

CadenceVirtuoso版图编辑软件使用

 

实验内容:

项目一、Linux系统与Cadence软件介绍

1.Cadence软件介绍

◎全球最大的EDA公司,产品涵盖电子设计的整个流程,自1991年以来,连续在EDA市场中销售额稳居第一。

◎提供系统级至版图级的全线解决方案,产品包括系统级设计,功能验证,IC综合及布局布线,模拟、混合信号及射频IC设计,全定制IC设计,IC物理验证,PCB设计和硬件仿真建模等。

◎系统庞杂,工具众多,不易入手

◎具有广泛的应用支持,全球知名半导体公司与电子系统公司均将Cadence软件作为其全球设计的标准。

2.Cadence全定制IC设计软件

◎VirtuosoSchematicComposer

◎AnalogDesignEnvironment

◎Spectre

◎VirtuosoLayoutEditor

◎Assura

◎Dracula&Diva

◎VirtuosoLayoutSynthesizer自动版图

◎ICCragtsman布局工具

3.系统环境

◎.cshrc:

指定Cadence软件和License文件所在路径(用户目录下,隐藏文件)

◎.cdsenv:

包含Cadence软件的一些环境设置(用户目录下,隐藏文件)

◎.cdsinit:

Cadence初始化设置(用户目录下,隐藏文件)

◎cds.lib:

Cadence调用的设计库文件

◎techfile:

工艺文件包含了设计必须的信息,版图设计时必须包含该文件。

◎display.drf:

显示文件

4.登录启动Linux系统后登陆Cadence

①启动Linux后,右键桌面,选择“OpenTerminal”

②在弹出的Terminal中输入需要进行版图设计的目录,比如要在lab文件夹下进行版图设计,那么就cdlab,表示进入lab文件夹,回车完成操作,当前工作文件夹为lab

③进入到工作的文件夹后,输入icfb&,回车,启动Cadence

④Cadence启动过程

⑤Cadence启动完毕,该窗口称为CIW(CommandInterpreterWindows)窗口。

⑥单击CIW窗口上的Tools,选择LibraryManager进行设计文件管理。

Library:

设计项目名称,包含数个Cell单元。

Cell:

单元电路,可以由一些器件构成,也可以由一些Cell构成。

View:

Cell的描述方式,可以由原理图,版图或描述语言等构成。

LibraryManager启动完毕,可以进行文件操作。

 

4.设计文件管理

本小节主要介绍Cadence中设计文件管理操作

⑴打开已经存在的设计文件

在LibraryManager中,选择需要打开的文件,如需打开LAB1-inv-layout文件,则在library中选择LAb1,在cell一栏中选择inv,在View中选择版图文件layout,右键layout项,选择open,就可以打开该文件。

⑵新建设计项目(新建library或cellview)

在本小节将先介绍新建一个项目库的操作过程,然后再介绍新建子电路模块的方法。

①在LibraryManager中选择File-New-Library…,表示我们需要设计一个新的项目

②在弹出的对话框中输入新建的库的名称,比如说”test”,点击OK

③关联工艺库

3个选项:

Complileanewtechfile:

关联一个新的工艺文件(选择新的techfile)

Attachtoanexistingtechfile:

关联一个已经存在的工艺文件(在这里我们选这一个)

Don’tneedatechfile:

(如果只做原理图不需要做版图的话可以选择这个)

④点击OK后需要选择已经存在的工艺文件,这里我们选用st02,然后OK

这样根据一个工艺文件设计的库已经建立完毕。

接下来我们将介绍建立cell的方法。

建立Cell的方法比较简单。

⑤在LibraryManager中选择File-New-CellView…

⑥在弹出的属性框中填入cell的名称如“ttl”和相应的属性:

电路原理图就在Tool的下拉框中选择composer-schematic,版图的话就选择Virtuoso.这里我们选择Virtuoso。

OK。

⑦弹出的Layout的编辑环境,LSW定义了版图的层次,LayoutEditing则是版图编辑的界面。

⑶调用其它设计文件

比如从别的地方拷过来一个设计文件(比如test1),我们想要把它打开。

1右键点击桌面用户的目录”比如’XXshome”,选择BrowseFolder浏览文件夹

②像Windows一样进行操作,找到启动Cadence的路径比如我们是在lab中启动的。

找到Lab并进入该文件夹。

③把设计文件拷到该目录下:

比如把test1拷到/home/hww(用户)/lab下

④双击然后打开lab下的cds.lib文件,进行编辑

加入以下语句:

DEFINEtest1/home/hww/lab/test1

Test1为设计文件的名称,/home/hww/lab/test1为文件夹的绝对路径。

保存。

⑤在LibraryManager中的View中选择Refresh,test1就会在LibraryManager中出现,并可以进行操作。

项目二、Virtuoso操作界面简洁

CadenceTools用来做版图布局设计的软件称为LayoutEditor(又称Virtuoso)。

在进行本操作前请先建立一个基于CSMC0.5um工艺(st02)的的lib和Cell,因为是进行版图编辑Cell的Tools请选择virtuoso。

①在LibraryManager中选择点击想新建Cell的Library然后File-New-CellView,输入新建文件名称,Tool栏选择Virtuoso。

②产生空白Layout视窗供使用者编辑。

③在开启LayoutEditor视窗时,还会开启LayoutSelectionWindows(LSW)窗口,其定义了布局层的颜色,填充波纹,以及选择时的一些特性。

AV:

点击后所有图层均显示

NV:

点击后除了当前选择的层外,其余都不显示。

选择NV后可以用鼠标点击选择需要选择的图层。

注意选择后可能要刷新后才能显示。

AS:

LSW上所有层在LayoutView中都能被选取。

NS:

除了当前所选的层之外,其余所有的层都不可被选取。

可以使用右键在LSW中选择可被编辑图层。

④LSW布局图层说明:

NO.

Mask

LayoutLayer

描述

1

TO

有源区

薄氧区

2

PT

Nwell

N阱

3

BC

阈值电压调整

4

GT

Poly1

多晶硅栅

5

SN

N有源

N+

6

SP

P有源

P+

7

IM

Poly2阻挡层

Poly2阻挡层

8

PC

Poly2

Poly2

9

W1

接触孔

10

A1

金属1

11

W2

通孔

12

A2

金属2

13

CP

PAD

⑤操作栏说明

项目三、Virtuoso软件操作说明

①查看设计

A)视图放大2倍,使用Ctrl+z,或操作栏上ZOOMIN按钮

,或使用Windows-Zoom-IN

by2.

B)视图缩小2倍,使用Shift+z,或操作栏上Zoomout按钮

,或使用Windows-Zoom-Outby2

C)全屏显示,使用f,或操作栏上

,或使用Windows-Fitall

D)自定义显示,使用鼠标右键进行画框,软件将画的框的图形进行显示。

E)全局小视图,使用Shift+v。

F)使用方向键进行上下左右移动

②测量尺寸

A)使用k显示标尺进行测量,按ESC退出,单位为um,等效

B)使用K把所有标尺删除。

③基本几何图形绘制

A)绘制方形图形:

快捷键r,或Edit-Rectangle

B)绘制多边形:

快捷键P,或Edit-Polygon。

注意多边形默认是直角,如果想使用45°角或任意角请使用F3属性(先P,再F3)

C)生成圆形图形:

Create-Conics-里面有3个选项:

Circle,Ellipse,Donut分别是画出圆形、椭圆形和环形

D)画标注:

Create-label快捷键l

E)连线,Create-Path或等效快捷键p

按p后再按F3键可以调出属性框,可以用于修改线条宽度和拐角尺寸。

F)测量尺寸

使用k快捷键可以用于测量尺寸,K则撤销。

④图层操作

A)使用LayerGeneration

使用Create-LayerGeneration…命令,然后选取需要操作的层次,和逻辑操作,生成需要的图形。

在这里为了方便观看,我们使用不颜色的层来进行操作,生成红色层。

绿色和蓝色为初始图形,红色为生成的图形。

分别为与、与非、或、和异或操作。

B)移动

使用Edit-Move,等效快捷方式m,对图层进行移动

C)复制图形

Edit-Copy复制所选图形,等效快捷方式c.

D)拉伸

Edit-Stretch对选择的边进行拉伸操作,等效快捷方式s

E)图形拐角处理

Edit-other-ModifyCorner

其中Type选择135度折角还是圆形折角,Radius选择折角半径。

F)尺寸调整

Edit-Other-Size

G)组合

Edit-Merger

H)圆形转换成多边形

Edit-Other-ConvertoPolygon

I)分离

使用Edit-Other-Split

J)旋转

Edit-other-Rotate快捷方式选择m后按右键,既可以移动也可以90°旋转。

K)跟随

Edit-other-Attach/Detach

L)移动原点(移动坐标轴)

Edit-Other-MoveOrigin

⑤PIN脚

使用Create–PINFromLabels或Pin..命令

⑥插入已经存在的版图器件,按i键,选择所需要的器件版图

 

按i显示CreateInstance框,再Browse-在出现的LibraryBrowser选择所需要的版图,然后再修改参数(不一定有)。

⑦在上图的Rows和Columns中可以选择插入阵列

⑧接触孔,按o,可以选择所需要的接触孔,请注意接触孔是否和连线的图层对应。

⑨图层属性,可以选择图形,然后按q,进行修改。

 

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