镀膜产品常见不良分析.docx

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镀膜产品常见不良分析

镀膜产品罕有不良阐发、改良对策之五兆芳芳创作

镀膜产品的不良，部分是镀膜工序的自己造成的，部分是前工程遗留的不良，镀膜最终的品质是整个光学零件加工的（特别是抛光、清洗）的综合反应，对策镀膜不良时必须综合考虑，才干真正找到不良产生的原因，对策改良才干取得成效.

一、膜强度

膜强度是镜片镀膜的一项重要指标，也是镀膜工序最罕有的不良项.

膜强度的不良（膜弱）主要表示为：

①擦拭或用专用胶带拉撕，产生成片脱落；

②擦拭或用专用胶带拉撕，产生点状脱落；

③水煮15分钟后用专用胶带拉撕产生点状或片状脱落；

④用专用橡皮头、1Kg力摩擦40次，有道子产生；

⑤膜层擦拭或未擦拭出现龟裂纹、网状细道子.

改良思路：

基片与膜层的结合是首要考虑的，其次是膜概略硬度滑腻度以及膜应力.

膜强度不良的产生原因及对策：

①基片与膜层的结合.

一般情况，在减反膜中，这是膜弱的主要原因.由于基片概略在光学冷加工及清洗进程中不成避免地会有一些有害杂质附着在概略上，而基片的概略由于光学冷加工的作用，总有一些破坏层，深入在破坏层的杂质（如水汽、油汽、清洗液、擦拭液、抛光粉等，其中水汽为主要），很难以用一般的办法去除洁净，特别对于亲水性好，吸附力强的基片尤其如此.当膜料份子堆积在这些杂质上时，就影响了膜层的附着，也就影响了膜强度.

此外，如果基片的亲水性差、吸附力差，对膜层的吸附也差，同样会影响膜强度.

硝材化学稳定性差，基片在前加工进程中流转进程中，概略已经受到腐化，形成了腐化层或水解层（也许是局部的、极薄的）.膜层镀在腐化层或水解层上其吸附就差，膜牢固度不良.

基片概略有脏污、油斑、灰点、口水点等，局部膜层附着不良，造成局部膜牢固度不良.

改良对策：

㈠增强去油去污处理，如果是超声波清洗，应重点考虑去油功效，并包管去油溶液的有效性；如若是手擦，可考虑先用碳酸钙粉擦拭后再清擦.

㈡增强镀前烘烤，条件许可，基片温度能达到300℃以上更好，恒温20分钟以上，尽可能使基片概略的水汽、油汽挥发.*注意：

温度较高，基片吸附能力加大，也容易吸附尘埃.所以，真空室的洁净度要提高.不然基片在镀前就有尘埃附着，除产生其它不良外，对膜强度也有影响.（真空中基片上水汽的化学解吸温度在260℃以上）.但不是所有的零件都需要低温烘烤，有的硝材温度高了反而膜强度不高还会有色斑产生.这与应力以及资料热匹配有较大的关系.

㈢有条件时，机组装置冷凝机（PLOYCOLD），除提高机组真空抽速外，还可以帮忙基片水汽、油气去除.

㈣提高蒸镀真空度，对于1米以上的镀膜机，蒸镀启动真空应高于3*103Pa，镀膜机越大，蒸镀启动真空更高.

㈤有条件时，机组装置离子源，镀前轰击，清洁基片概略，镀膜进程帮助，有利于膜层的密实牢固.

㈥膜料的去潮，将待用膜料用培养皿盛放在真空室枯燥.

㈦保持任务情况的枯燥（包含镜片擦拭、上伞任务区），清洁任务情况时不克不及带入过量的水汽.

㈧对于多层膜，在膜系设计时，就要考虑第一层膜与基片的匹配，尽可能考虑用Al2O3膜料，该膜料对大部分基片有较好的吸附力.对于金属膜，也可考虑第一层镀Cr或Cr合金.Cr或Cr合金对基片也有较好的吸附力.

㈨采纳研磨液（抛光液）复新去除镜片概略的腐化层（水解层）

㈩有时候适当下降蒸发速率对膜强度的提高有帮忙，对提高膜概略的滑腻度有积极意义.

②膜层应力：

薄膜的成膜进程，是一个物质形态的转变进程，不成避免地在成膜后的膜层中会有应力存在，对于多层膜来说有不合膜料的组合，各膜层体现出的应力是有所不合的，有的是张应力、有的是压应力，还有膜层及基片的热应力.

应力的存在对膜强度是有害的，轻者是膜层耐不住摩擦，重者，造成膜层的龟裂或网状细道子.

对于减反膜，由于层数未几，应力一般体现不明显，（但有些硝材的镜片即便是减反膜也有应力问题存在.）而层数较多的高反膜、滤光膜，应力是一个罕有的不良因素，应特别注意.

改良对策：

㈠镀后烘烤，最后一层膜镀完后，烘烤不要马上停止，延续10分钟“回火”.让膜层结构趋于稳定.

㈠降温时间适当延长，退火时效.削减由于真空室内外温差过大带来的热应力.

㈡对高反膜、滤光膜等在蒸镀进程中，基片温度不宜太高，低温易产生热应力.并且对氧化钛、氧化钽等膜料的光学稳定性有负面作用.

㈢镀膜进程离子帮助，削减应力.

㈣选择适合的膜系匹配，第一层膜料与基片的匹配.（如五层减反膜采取Al2O3ZrO2Al2O3Al2O3ZrO2MgF2；ZrO2也可以采取SV5（一种ZrO2TiO2混和膜料）或其他混杂高折射率膜料..

㈤适当减小蒸发速率（Al2O32.5A/S;ZrO23A/S;MgF26A/S参考速率）

㈥对氧化物膜料全部充氧反响镀，按照不合膜料控制氧进气量.

③外层膜概略硬度：

减反膜一般外层选用MgF2，该膜层剖面是较松散的柱状结构，概略硬度不高，容易擦拭出道子.

改良对策：

㈠膜系设计允许时，外层加10nm左右的SiO2层，二氧化硅的概略滑腻度优于氟化镁（但二氧化硅概略耐磨度、硬度不如氟化镁）.镀后离子轰击几分钟，牢固度效果会更好.（但概略会变粗）

㈡镜片出真空室后，放置在较枯燥洁净的地方，防治快速吸潮，概略硬度下降.

④其它

造成膜强度不良的原因还有，真空度太低（在手动控制的机台容易产生）、真空室脏、基片加热不到位.

帮助气体充入时，膜料也在放气致使真空度下降，使份子自由程削减，膜层不牢.所以帮助气体的充入要考虑膜料的放气，镀前对膜料充分预熔充分放气，也可以避免由于蒸镀中膜料放气造成真空度过度下降，从而影响膜强度.

⑤脱膜

　　这里的脱膜虽然也是膜弱的一种，但与前述的脱膜有一些区别，主要特征为：

点状脱膜、边沿脱膜、局部脱膜.

主要原因使膜内有脏或污染物所造成的.

改良办法：

提高基片的洁净度.

二、膜料点

膜料点不良也是镀膜产品的一个罕有问题，在日企、台企把膜料点称为“斑孔”

望文生义，膜料点就是蒸镀中，大颗粒膜料点随着膜料蒸汽份子一起蒸镀到了基片的概略，在基片概略形成点状的突起，有时是个体点，严重时是成片的细点，大颗粒点甚至可以打伤基片概略.

各类膜料的蒸发特性是不一样的，特别是熔点温度和蒸发温度有很大差别

熔点温度大于蒸发温度的资料，由固态直接气化蒸发，是升华资料；

熔点温度小于蒸发温度的资料，由固态先化成液态此后在转换成气态蒸发，是非升华资料；

熔点温度与蒸发温度相当的资料，由固态到气态蒸发，边融化边蒸发.是半升华资料.

其中非升华资料最容易产生膜料点，因为液态的膜料持续加热会沸腾，沸腾中膜料中的气泡溢出，飞溅膜料点的可能性加大.有时在资料预熔时就有很大的飞溅.

膜料受潮，预熔或蒸镀时水汽逸出，也会造成飞溅产生.

下表是几种经常使用膜料的升华特性

资料名称

熔点温度

蒸发温度

飞溅可能

备注

ZnS

1900

1100

极小

SiO2

1700

1600

很小

Al2O3

2100

小

ZrO2

2715

2700

小

TiO2

1850

2000

大

Ta2O5

1800

2100

较大

MgF2

1266

1540

大

膜料不纯、膜料参杂，即膜料中有了熔点温度、蒸发温度不一致的资料，这也是膜料点产生的原因.

改良思路：

选用好的膜料、充分预溶、控制速率.

改良对策：

㈠选择杂质少的膜料

㈡对易飞溅的膜料选择颗粒适合的膜料

㈢膜料在镀前用网筛筛一下

㈣精心预熔，MgF2务必熔透一次蒸镀所需膜料，而Ta2O5和TiO2必须完全熔透.

㈤用一把电子枪镀制几种膜料时，防治坩埚转动中膜料参杂及挡板掉下膜料渣造成膜料污染.一旦发明坩埚膜料有污染，应立即改换.

㈥尽最大可能使蒸发舟、坩埚洁净.（勤打扫）.

㈦选择适合的蒸发速率及速率曲线的平滑.特别是非升华资料，蒸发速率不宜高.

㈧膜料去潮，将待用膜料用培养皿盛放在真空室枯燥

注意：

有时膜层内有一些细小的点子，有可能不是膜料点，而是尘埃点，处理的办法与膜料点不良是不合的，应严格区分，辨别处理.

三、膜色差别

膜色差别有二种（不包含色斑），一种是整罩上、中、下膜色不一致，即分光测试曲线有差别；二是单片膜色不一致.

1．上中下膜色不一致称为整伞（罩）均匀性欠好，也称有伞差.主要产生原因是均匀性修正板（补正板）有问题.

2．伞片变形.也是膜色不匀的原因之一，特别是使用了较久的伞片，以往是均匀的，慢慢变得不均匀了，伞片变形就可能是主要原因了.

3．膜料状况的不一致，特别是升华和半升华膜料被打偏，挖坑等也会严重影响整罩和单片的均匀性.特别是有大量手工预熔时，大家的操纵手法不一，得到的料况也会不一.

改良思路：

充分采取修正板的功效.

改良对策：

㈠调整修正板，尽量考虑凹凸折射率膜料的平衡兼容，如果有二个蒸起源，可能的条件下，独立使用各自的修正板，避免搅扰.

㈡条件许可，采取行星夹具.

㈢伞片整形，对伞片整形可以先加工一个R基模（选择强度较高的原资料），在基模上对伞片整形.为避免削减伞片变形，在伞片订购时对伞片的厚度、原资料选择要适合.

㈣增强伞片办理，特别是摆放时的办理，避免因摆放不当而变形.

㈤改良膜料状况，特别是电子枪蒸镀升华、半升华资料时，不克不及把膜料打塌，挖坑.

㈥能够自动预熔的膜料，尽量自动预熔，削减人为因素影响.

▲修正板对物理膜厚的修正很有效，但对折射率的修正是力不从心的，所以完全靠修正板解决分光均匀性，是很困难的.

▲如果一个修正板要对应二把电子枪（蒸起源）、以及多种膜料，就会有较大的困难.

对于单片膜色不均匀产生的原因：

主要是由于基片凹凸严重，与伞片曲率差别较大，基片上部、或下部法线与蒸起源组成的蒸发角差别较大.造成一片镜片上各部位接受膜料的条件差别大，形成的膜厚差别大.

另外镜片被镜圈（碟片）边沿部遮挡、镜圈（碟片）脏在蒸镀时污染镜片等等也会造成膜色差别问题.

改良思路：

改良镜片边沿的蒸发角.

改良对策：

㈠条件许可，用行星夹具；

㈡选用伞片平坦（R大）的机台；

㈢按照伞片孔位散布，基片形状，制作专门的锯齿形修正板.

㈣如果有可能，把蒸起源往真空室中间移动，也可改良单片的膜色均匀性.

㈤改良镜圈（碟片），避免遮挡.

㈥注意旋转伞架的相应部位对边沿镜片的部分遮挡

㈦清洁镜圈（碟片）

㈧改良膜料蒸发状况.

四、膜脏（也称白压克）

望文生义，膜层有脏.一般的膜脏产生在膜内或膜外.脏可以包含：

尘埃点、白雾、油斑、指纹印、口水点等.（尘埃点和白雾单列）

改良思路：

检查进程，杜绝脏污染.

改良对策：

㈠送交洗净或擦拭的镜片不要有过量的不良附着物；

㈡增强镀前镜片的洗净率或擦净率；

㈢改良上伞后待镀镜片的摆放情况，防治污染；

㈣养成上伞作业员的良好习惯，防治镜片污染（指纹印、口水点及其它）；

㈦放慢真空室护板改换周期；

㈧充气管道清洁，防治气体充入时污染；

㈨初始排气防涡流（湍流），初始充气防过冲；

㈩镜片摆放情况和搬运进程中避免油污、水汽（磨边、超声波清洗）污染.

11任务情况改革成洁净车间

12将镀膜机作业面板和主机离隔，削减主机产生的有害物质污染镜片.

四/1、灰点脏

现象：

镜片膜层概略或内部有一些点子（不是膜料点）有些可以擦除，有的不克不及擦除.并且会有点状脱膜产生.

产生原因：

1、真空室脏，在开始抽真空时的空气涡流将真空室底板、护板的脏灰带到镜片上，形成灰点层.（膜内，不克不及擦除，会有点状脱膜）

2、镜圈或碟片脏，有浮点尘埃，在离子束作用下附着到了镜片上形成灰点层.（膜内，不克不及擦除，会有点状脱膜）

3、镜片上伞时就有尘埃点，上伞时没有查抄挑选.（膜内，不克不及擦除，会有点状脱膜）

4、镀制完成后的情况污染是膜外灰点的主要成因，特别是当镜片热的时候，更容易吸附尘埃，并且难以擦除.（膜外）

1、真空室充气口情况脏、开始充气量过大、充气过滤器脏，充气时镜片温度太高也是造成镜片膜外尘埃点不良的原因.（膜外）

2、作业员人为带来的尘埃污染（膜内膜外）

3、任务情况中尘埃过量

改良思路：

杜绝尘埃源

改良对策：

1．任务情况改革洁净车间，严格按洁净车间标准实施.

2．尽可能做好情况卫生.尽量利用洁净任务台.

3．真空室周期打扫，保持清洁.

四/2、膜外白雾

现象：

镀膜完成后，概略有一些淡淡的白雾，用丙酮或混杂液擦拭，会有越擦越严重的现象.用氧化铈粉擦拭，可以擦掉或加重，（又称：

可擦拭压克）

阐发：

膜外白雾的成因较为庞杂，可能的成因有：

①膜结构问题：

外层膜的柱状结构松散，外层膜太粗糙；

②蒸发角过大，膜结构粗糙.

③温差：

镜片出罩时内外温差过大

④潮气；镜片出罩后摆放情况的潮气

⑤真空室内POLYCOLD解冻时水汽太重

⑥蒸镀中充氧不完全，膜结构不均匀

⑦膜与膜之间的应力

改良思路：

膜外白雾成因良多，但各有些特征，尽量对症下药.主要思路，一是把膜做的致密滑腻些不容易吸附，二是改良情况削减吸附的对象.

改良对策：

㈠改良膜系，外层加二氧化硅，使膜概略滑腻，不容易吸附.改良镜片出罩时的情况（枯燥、清洁）

㈡下降出罩时的镜片温度（延长在真空室的冷却时间）削减温差、下降应力.

㈢改良充氧（加大），改良膜结构.

㈣适当下降蒸发速率，改良柱状结构

㈤离子帮助镀膜，改良膜结构

㈥加上polycold解冻时的小充气阀（其功效是实时带走水汽）

㈦从蒸起源和夹具上想办法改良蒸发角.

㈧改良基片概略粗糙度.

㈨注意polycold解冻时的真空度.

四/3、膜内白雾

白雾形成在膜内，无法用擦拭办法祛除.

可能的成因：

①基片脏，附着前工程的残留物

②镜片概略腐化污染

③膜料与膜料之间、膜料与基片之间的匹配.

④氧化物充氧不敷.

⑤第一层氧化锆膜料，可能对某些基片产生白晕现象

⑥基片进罩前（洗净后）受潮气污染

⑦洗净或擦拭不良，洗净陈迹、擦拭陈迹

⑧真空室脏、水气太重

⑨情况湿度大

改良思路：

基片自己的问题可能是主要的，镀膜是尽量弥补，镀膜自己最大的可能是膜料匹配问题.

改良对策：

㈠改良膜系，第一层不必氧化锆.

㈡尽量削减真空室开门时间，罩与罩之间在最短的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备任务.

㈢真空室在改换护板、清洁后，最好能空罩抽真空烘烤一下，改换的护板等真空室部件必须枯燥、洁净.

㈣改良情况

㈤妥善庇护进罩前在伞片上的镜片，免受污染.

㈥改良洗净、擦拭效果.

㈦改良膜匹配（考虑第一层用Al2O3）

㈧改良膜充氧和蒸发速率（下降）

㈨放慢前工程的流程.前工程对已加工光面的庇护增强.

㈩抛光加工完成的光面，必须立即清洁洁净，不克不及有抛光粉或其他杂质附着干结.

五、色斑

色斑（也称膜色压克、烧蚀）是指镜片上的膜色局部变异（一般不法则）.有膜内色斑（含膜层色斑）和膜外色斑二种.

有时会出现法则的局部区域（如凹镜片的中心或环状区域等）膜色变异.

色斑产生的原因：

局部折射率变异：

所谓膜色是薄膜光谱特性的反应，薄膜光谱分光特性的设计和达成是成立在一定折射率基片的根本上，如果基片局部折射率改动，那么所镀的膜层在局部的光谱分光特性也有变更.局部点的膜色就会有变异，形成膜内色斑的.

镀膜中和镀膜后由于种种原因，使得膜层的局部折射率变异，形成膜层或膜外色斑.

膜外色斑一般较浅，可以用抛光粉或碳酸钙分擦掉，如果是中间层或底层膜层局部折射率变异的膜层色斑，就不克不及用抛光粉或碳酸钙粉擦拭去掉了.

分辩膜内膜层和膜外色斑的一个有效手段是用抛光粉或碳酸钙粉擦拭.

膜内、膜层、膜外色斑的处理对策是不合的.

膜内色斑产生来源：

基片上局部折射率改动大都是由于基片局部被腐化造成的.腐化层一般形成一层极薄的低折射率层.

1．前道加工进程中工装夹具、加工办法带来的.

这个局部可能大，也可能小，还可能大部，由此可能会有大小不等的色斑.这种色斑有一个特征，色斑的形状法则、部位一致、界线清楚.

2．周转、运输、库存产生.

有些基底自己的化学特性较差，如HZK9，耐潮、耐酸性能很弱，在前加工进程中不成避免的会与水接触，会与湿润空气接触，形成腐化，如果前加工与镀膜的周期长（超出5小时）就容易产生膜内色斑，如果是反射膜、红外截至膜，这种色斑就会很是明显，还有可能刚镀完是良品，若干天后还会有色斑显出而成为不良品.

3．研磨抛光工程在镜片概略完工后没有实时将概略处理洁净，残留的抛光粉、液等干结在镜片概略，对镜片产生腐化或污染.这种腐化或污染不克不及用洗净或擦拭的办法祛除，镀膜后显现的就是色斑.

4．研磨抛光所用抛光液的PH值匹配没有受控，影响镜片在研磨加工到镀膜加工之间的化学稳定.

膜层和膜外色斑产生来源

1．镀膜后，膜层的空隙中渗透了难以消除的杂质，改动了局部膜层的折射率，从而膜外形成色斑.

2．镀膜进程中，有些高折射率基片的温度太高，造成局部膜层（也有可能是膜层和基片的结合部）折射率变异.也会造成膜层色斑产生.

3．膜系匹配中，有的膜层太薄，结晶处于不稳定状态，也可能产生膜层色斑.

4．膜系的膜料选择与基片资料的匹配欠好，也是膜层色般的产生原因之一.

5．机组的微量返油，在镜片或膜层中形成局部的极薄的油斑，也是膜层色斑的产生原因，此类色斑处的膜强度一般较差些.

膜内色斑改良对策：

一、放慢研磨（抛光）到镀膜的周期，削减镜片被污染腐化的概率，注意：

是镜片的全部抛光面.

二、抛光加工中，注意对另一已抛好光的面庇护

三、注意抛光加工中的工装、夹具、加工办法，以免造成对镜片概略局部腐化伤害.

四、抛光加工完成的光面，必须立即清洁洁净，不克不及有抛光粉或其他杂质附着干结.

五、控制研磨抛光液的PH值.

六、镀膜前，用抛光粉（氧化铈、氧化铁）或碳酸钙粉（用甘油或水调和）对镜片抛光面复新.并尽快清洁洁净.

七、增强镀前的离子轰击

八、对于可见光区减反膜，在满足技巧要求的前提下设计制作成单峰形，反射色呈淡绿色，掩盖色斑

九、对于化学性能较好的镜片，在清洗前先用退膜液或稀酸液浸泡去除腐化斑.

十、选择适合的膜层匹配对色斑改良也有帮忙.

十一、提高基片镀制时的温度，放慢水汽的完全挥发.（但可能会有膜层色斑产生，要按照具体情况阐发对策.）

十二、第一层镀上Al2O3膜层一般会有好的改良效果.

膜层、膜外色斑改良对策：

一、对减反膜，设计条件许可时，外层加以SiO2层，10nm左右便可（一般的外层膜是MgF2）.使外层趋于滑腻、致密，削减有害物质的侵蚀.（如果镀后离子轰击SiO2层会粗糙.）

二、适当下降蒸镀速率（在一定规模内）提高膜层滑腻度，削减吸附.

三、镜片在出罩后，待冷却后再下伞和擦拭.

四、镜片在出罩后，放置在洁净枯燥的场合待冷却.削减污染可能.

五、用碳酸钙粉，轻擦去除外层附着物.

六、改良任务情况的湿度、温差.

七、改良充气口邻近的情况，使充入的大气枯燥、洁净.

八、任务人员的团体卫生（口罩、服装、手套、指套等）改良.

九、检查真空室返油状况，避免返油.

十、适当下降基片温度；（不克不及影响膜强度）

十一、改良膜系，取消太薄的膜层，按照硝材特性，选择适合的膜层资料.

六、光谱特性

光学薄膜产品中，光谱特性不良（分光不良）是一个罕有问题，光谱特性不良是指分光反射（透射）曲线不满足零件产品技巧要求，是功效性的不良，生产制造中必须严格监控.

造成光谱特性不良产生的原因有良多，主要的有：

1.膜系设计：

设计时的膜厚、折射率允差太小，试制时的分光曲线在技术要求的边沿，制造中稍有偏差就导致分光不良.

2.设计的膜料折射率与实际的折射率有差别，或产生了变异.

3.实镀的中心波长（膜厚）与希望达到的中心波长（膜厚）有差别，或产生了变异.（tooling值（也有叫F值）有偏差）

4.制造中出了错误：

如膜料用错、程序用错、预熔时没关挡板等

5.工艺条件改动：

真空度、充氧量、加热温度、蒸发速率、基片旋转速度、离子帮助条件等.

6.资料变动，如不合厂家生产的同种光学资料（基片资料和膜料）在光学性能化学性能有所不合（有时同厂家不合生产批次也有不合），生产进程中（特别是大批量生产）资料突然变动（未作论证），就可能造成分光不良.

7.用于测试分光的比较片概略特性变异，造成分光测试不良（也许镜片的分光是OK的，可以比较两者的反射膜色）.这也许是容易轻忽的一个问题，又是一个罕有的问题，特别是高折射率的测试比较片概略形成一层腐化层，相当于有了一层减反膜（很薄），膜层不是堆积在基片上，而是堆积在腐化层上，于是比较片上的分光就会禁绝确、不稳定.往往比较片加工存放的时间远大于基片，存放的情况不如镜片，问题就会更严重.

8.机组工艺稳定性差.（抽速不温、机组震动大、测试片或晶片抖动、旋转不温、伞片变形、温度丈量误差大、加热功率不稳等等）

9.如果使用晶振控制膜厚的，晶振片的品质、晶振片的使用寿命、活性值的变更.同一片晶振片，开始使用的敏感度与使用了一段时间（如6层减反膜镀了3罩）敏感度有一些差别，也会带来整体曲线的偏移.

10.晶控探头的水冷差，造成晶控不稳定、不成靠，膜厚控制禁绝确.

11.刚镀制完成的测试与放置一段时间后的测试，分光特性会有差别.

12.有些膜料的折射率在成膜后还会有变更（与成膜条件、膜层匹配有关），会造成光谱特性的变更.

13.镜片折射率变异，有些基片资料，在经过超声波清洗后概略形成一极薄的低折射率层，对分光特性、膜色也有影响

14.采取光控时（非自动控制），光量值设置的不适合，或因为膜料折射率变更使得设置的光量值有了偏差，带来分光特性的偏差或不稳定.

15.光控中的监控片自己有了腐化层，影响了光控的走值.

16.光控中的光信号不稳定（电压动摇、接触不良、电子元器件问题等）影响精度和稳定性.

17.光控中，有的膜层比较薄（特别是第一层比较薄时）不到一个峰值，带来光控的禁绝确性.

18.非自动控制的光控，人为判断时误差.

改良对策：

一、设计膜系：

●膜系设计中选用膜料的折射率应与使用膜料使用机台吻合；

●膜系设计尽量考虑厚度与折射率允差（各层的厚度及折射率允许偏差1%2%），特别是敏感层，要有一定的允差（1%）

●控制厚度与实际测试厚度的“tooling”值，要准确，并经常确认调整.

●设计的技巧要求必须高于图纸提出的技巧要求.

●设计时考虑基片变异层折射率变更带来的影响.

●设计时考虑膜料的折射率变更及膜料之间、膜料与基片之间的匹配.

二、任务现场适用膜料、芯片、硝材生产厂家、型号一旦确认不要经常变动，必须变动的应该多次确认.

三、杜绝、避免作业过失的产生，

四、增强每罩镜片的分光测试监控，设置警戒分光曲线，实时调整膜系.

五、测试比较片办理增强，确保进罩镀膜的测试比较片概略无污染、新鲜、外不雅达到法则要求.在使用前，对比较片作一次测试，测定其反射率（仅测一个波长点就可以）测定值与理论之比较，一般测定值小于理论值（腐化层影响），如果二值之间差别较大（比方大于1%）就应该考虑对比较片再复新、或改换.

六、镜片的分光测试要在基片完全冷却落后行.

七、掌握晶控片敏感度变更纪律，实时修正控制数据.晶控片在新的时候与使用了若干罩后的敏感度是不完全一样的，芯片的声阻抗值会有微小变更.有些晶控仪（如IC5）可以设置自动修正，而大部分晶控仪没有自动修正声阻抗值的功效.掌握了晶片敏感度的纪律，可以在膜厚设置上矫正.

八、改良晶控探头的冷却效果，