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摄像镜片加工技术论文教材

天津职业大学

毕业论文

摄像镜片加工技术

年级

学号:

姓名:

专业:

指导老师:

二零一二年六月

序言…………………………………………………………………2

一、研磨抛光技术分类与特点……………………………………3

二、准球心法和传统法比较………………………………………3

三、切削工序的要求………………………………………………3

四、粗磨工序的要求………………………………………………4

五、如何保持粗磨皿表曲率半径的精度…………………………4

六、影响抛光的因素………………………………………………5

七、抛光剂（研磨粉）的影响……………………………………5

八、研磨皮及选择…………………………………………………6

九、传统加工要求…………………………………………………7

十、光圈识别与修整措施…………………………………………7

十一、机床的选择…………………………………………………9

十二、机床的调整………………………………………………10

十三、光学清理工艺……………………………………………11

十四、抛光常见弊病产生原因及克服方法……………………12

十五、工艺规程的设计…………………………………………14

结论

致谢

参考文献

序言

摄像镜片的加工技术，主要被分为：

热加工、冷加工和特种加工三种。

热加工当前多采用于光学零件的坯料备制；

冷加工主要是以散粒磨料或固着磨料进行锯切、粗磨、精磨、抛光和定心磨边。

特种加工仅改变抛光表面的性能，而不改变光学零件的形状和尺寸，它包括镀膜、刻度、照相和胶合等。

本文所探讨的主要是摄像器材镜片的冷加工技术。

冷加工各工序的主要任务是：

粗磨（切削）工序：

是去除镜片表面凹凸不平的气泡和杂质,起到成型作用.

精磨（粗磨）工序：

是将铣磨出来的镜片将其的破坏层给消除掉,固定R值.

抛光（精磨）工序：

是使零件表面光亮并达到要求的光学精度。

定心工序：

是相对于光轴加工透镜的外圆。

胶合工序：

是将不同的光学零部件胶合在一起，使其能够达到光轴重合或按一定方向转折。

球面光学零件现行加工技术三大基本工序为：

1、范成法原理的铣磨（切削--国内叫“粗磨”，国外叫NCG，为英文“球面创成”之缩写）

2、压力转移原理的高速粗磨

3、压力转移原理的高速抛光。

一、研磨抛光技术分类与特点

1.传统研磨

传统研磨也叫古典研磨，它是一种历史悠久的加工方法

其主要特点是：

（1）采用普通研磨机床或手工操作；

（2）要求人员技术水平较高；

（3）研磨材料多采用散砂（研磨砂）抛光沥青

（4）抛光剂是用氧化铈或氧化铁；

（5）压力用加荷重方法实现虽然这种方法效率低,但加工精度较高所以，目前仍被采用。

2.高速研磨抛光

一般是指准球心法（或称弧线摆动法）。

其主要特点是：

（1）采用高速、高压和更有效的利用抛光模，大大提高了抛光效率

（2）压力头围绕球心做弧线摆动，工作压力始终指向球心，也是靠球模

成型的。

3.范成法

准球心法对机床的精度要求较低,加工方法和传统法相近，易于实现，用的较广；范成法对机床精度及调整要求较高，目前很少采用。

二、准球心法和传统法较

1.准球心法

抛光模（或镜盘）绕镜盘（或抛光模）的曲率中心作弧线摆动，而压力方向始终对准球心，因此镜盘所承受的是恒压，给均匀抛光创造了条件。

2.传统法

是平面摆动，重压块垂直加压，其压力随摆角而变化，因而容易造成不均匀抛光。

加压采用弹簧或气压方式，力比较恒定.平稳。

而传统研磨抛光法用重压块加压，体积大，振动大。

三、对切削工序的要求

一是切削出的球面面形要规则，曲率半径要达到工艺规定的公差范围；

二是表面粗糙度要符合粗磨的要求；

三是要去除一定的余量，保证将毛坯杂质层去除干净。

如果镜片抛光后合格率降低，检查切削面的面形精度也许会找出问题的症结。

切削设备精度：

工件轴全跳动：

3um

磨轮轴全跳动：

3um

工件轴母线精度:

1um

工件轴移动精度:

3um

工件、磨轮轴面等轴度：

1um

对球面来讲，既不产生非球面度，同表面又不会产生超菊花纹和过深碎裂层。

四、粗磨工序的要求

获得合理的粗磨表面结构对精磨过是极其重要的,它直接影响着精磨效率及其加工质量。

粗磨表面的性质可由宏观的和微观的表面不规则性来表示。

宏观不规则性是由磨削过程中磨具的偏差引起的,在精磨中通过选择合适的抛光模材料能大大减少这种宏观不规则性。

微观不规则性是由玻璃磨削的本质决定的。

表面结构对精磨过程的影响

玻璃磨削后留下凹凸层和裂纹层，抛光工序的效率就取决于这两层的性质。

一般的错误概念是认为抛光时粗磨表面的凹凸层越小越好，这是忽略了粗磨表面的微观结构对抛光过程的作用。

抛光模，特别是热固性塑料模，在抛光过程中易于钝化而失去抛光能力。

而凹凸层有利于减少或消除这种钝化现象。

抛光过程基本上可分成两个阶段，第一阶段去除凹凸层，第二阶段去除裂纹层。

第一阶段开始时，抛光模和玻璃的凹凸层顶峰接触，压强很大，而凹谷为抛光液进入整个表面又提供了良好的条件，因此抛光十分迅速。

随着抛光过程的继续，接触面积增大，压强减小，抛光液的附着能力降低，使抛光过程减慢。

当抛光面达到裂纹层时，玻璃表面同抛光模表面全部接触，抛光过程趋于稳定缓慢，而抛光模开始钝化，抛光继续，钝化加剧，抛光效率进一步下降。

钝化程度随过程的持续时间而定，而持续时间直接决定于裂纹层的深度。

这个凹凸层厚度的最佳值主要由抛光模材料的性质，以及与这个材料配合使用的抛光剂而定，其他因素还有主轴转速、压力和抛光液的进入能力等。

采用不同的粗磨方法，或者在同一方法中随磨具的钝化程度、冷却的润滑状态不同，所得的裂纹层也不同。

实践证明，用钝化了的金刚石磨具加工的工件，虽然凹凸层较小，但裂纹层却很深。

因此，不光要考虑凹凸层对抛光的影响，同时也要把裂纹层的深度作为粗磨工序的重要指标来考虑。

五、如何保持粗磨皿表面曲率半径的精度？

粗磨是用磨皿与镜片面接触的方式进行。

虽然，磨皿表面的曲率半径在开始使用时是修改得很好的，但是随着镜片的磨削，磨皿也在不断磨损，逐渐地就不一定能保证镜片的加工精度。

保持粗磨皿曲率半径不变或少变，就应采取：

1.合理选择工治具

凡是位于上面的治具总要比下面治具的尺寸小，这是因为上面治具要摆动的关系。

假如上面治具尺寸与下面治具的尺寸相同，上面治具的边缘磨削机会太少，上面治具有翘边的趋势。

假如上面治具尺寸比下面治具的尺寸小得太多，超过了规定的数据，上面治具在摆动过程中，其边缘不露出来，上面治具的边缘会磨损过甚，上面治具有塌边的趋势。

假如上面治具尺寸比下面治具的尺寸大，则在摆动时，下面治具的边缘露出的机会又会太少，下面治具的边缘磨损过甚，下面治具有塌边的趋势。

六、影响抛光的因素

抛光的结果好坏受许多因素影响：

工件的粗糙度

空气的温度及相对湿度

空气含尘量

玻璃种类

零件大小

1.零件与治具大小比列

2.抛光剂的性质

3.工作轴转速

4.摆动的频率、摆幅及摆幅中心位置

5.抛光面的温度、压力

6.抛光剂的输入量及温度

七、抛光剂（研磨粉）的影响

研磨粉对不同类型的光学材料,或光学材料相同但表面质量要求不同的光学零件有着不同的影响。

研磨粉的不同制法和不同的工艺处理，以及它的物理性能，对研磨效率有很大的影响，不同制法的氧化铁其结晶结构不同，其研磨能力不同；不同制法的氧化铈，其研磨效率不同,相同制法而得的研磨粉，经过烧制工艺处理后,其研磨能力比未经过烧制工艺处理的高。

研磨粉颗粒的硬度应与玻璃的硬度、研磨皮的硬度、研磨压力等相适应。

硬度太大会在玻璃表面产生擦痕，硬度太低会将低研磨效率。

（1）研磨液的浓度

对于氧化铁（红粉）研磨液，采用氧化铁与水的重量之比为1：

3~1：

4。

对于氧化铈（黄粉、白粉）研磨液，

采用氧化铈与水的重量之比为1：

5或稍稀。

研磨液的浓度与理想值不符，将导致研磨效率的降低。

当浓度过高时，研磨效率反而降低，因为水量不足，导致热量难以散发。

过多的研磨粉堆积在玻璃表面上，研磨压力不能有效地挥作用。

当浓度过低时，则表面温度下降，同时减少微小切削作用。

（2）研磨液的供给量

在一定工艺条件下，使研磨效率最高所需的研磨液用量，为研磨液的适中量。

研磨时保持适中的研磨液供给量。

抛光液参数

液温低易起划痕，过高易使抛光层变形，一般控制在30~38℃之间，流量为900~1000L/min，PH值为3~9。

研磨液供给量太小，不利于机械磨削和散热；研磨液供给量过大时，则表面温度下降，不利与化学作用，同时使吻合度变差。

（3）研磨液的PH值

不同类型的光学玻璃对研磨液的PH值要求不同的。

一般情况下氧化铁研磨液为中性（PH=7）；化铈研磨液略偏酸（PH=6~6.5）为好用。

光学研磨中，添加在研磨液中能够改变研磨工艺性能的物质，称为添加剂。

使玻璃稳定，减少对腐蚀的敏感，从而进一步改善光学表面质量的，称为稳定剂。

添加剂

对氧化铁研磨液，能提高研磨效率和改善光学表面质量的添加剂：

硝酸锌[Zn（NO3）2]、硫酸锌[ZNSO4]、氯化镍[NICL3]、氯化铁[FECL3]等。

对于氧化铈研磨液，能提高研磨率和改善光学表面质量的添加剂：

硝酸铈铵[（NH4）2CE（NO3）6]、硫酸锌[ZNSO4]。

添加剂的加入量不是任意的，每一种添加剂对于不同品位的抛光粉，不同类型的光学玻璃都有其理想的加入量。

影响表面光洁度的因素

镜片边缘有砂眼一种是因为细磨后光圈高（正），当中间已抛亮时，边缘尚有砂眼，另外，当镜片发生“走动”时，也会引起边缘有砂眼。

镜片中间有砂眼另一种是因为细磨后光圈低得太多，边缘已抛亮中间尚未抛到，镜片“走动”也会有可能造成镜片中间有砂眼。

镜片表面有粗砂眼则往往是细磨不充分所造成。

抛光过程中有时会在镜片表面产生油斑似的东西，这与玻璃的化学稳定性、抛光粉的性能、抛光模得到吻合情况有关，可以在抛光粉悬浮液中加少量硫酸锌加以消除（约每升6克）。

在用原器（样板）检验镜片表面光圈时，如果没有仔细地将原器（样板）和镜片表面擦干净，也容易使镜片表面受到损伤。

八、研磨皮及选择

抛光模：

聚氨酯（聚氨基甲酸乙酯），按使用的原料不同，分为聚醚型和聚酯型。

但当配料和制模工艺稍有偏差时，性能差异则很大。

研磨皮（抛光模）

由于不同的聚氨酯抛光材料吸水性不同，达到吸水平衡的时间差别很大，所以，在修模前应把抛光模放在抛光液中浸泡，达到吸水平衡后再修模否则，会引起抛光模的面形变化；使用后应浸泡在抛光液中，否则，由于水份蒸发，造成面形变化，再次使用时会降低抛光模镜片的吻合性。

聚氨酯抛光模必须与光学玻璃的牌号、氧化铈磨粉的规格,相互匹配好。

抛光模的选择

1.太厚，则硬度太小，容易变形、加工的零件易塌边；

2.太薄，又使抛光模与镜片的吻合性不好，零件表面易产生划伤

九、传统加工要求

抛光胶的选择

抛光胶的硬度对抛光工作能否顺利进行是十分重要的，当单位面积的压力大及转速快、室温高时，抛光胶选用硬些；相反，则选用软些的。

抛光直径大的镜盘所用抛光胶应选择软一些。

抛光胶硬度是否合适，可根据抛光一段时间后，抛光模层表面情况确定。

在掠射光下，当抛光模层表面有些微微的发亮，胶层颜色同抛光粉相近，则硬度较合适；当抛光模层表面发毛时，则胶层太硬；当抛光模层表面发亮呈油光的沥青色时，则胶层太软。

另一种方式：

用小刀在抛光模层表面划出浅槽后的变化情况，当抛光胶太软时，浅槽很快被磨平。

十、光圈的识别

什么是光圈？

被检查镜片表面面形与标准曲率半径的原器面形有偏差时，它们之间含形成对称的契形空气间隙，从而形成等厚干涉条纹，有日光照射下可见到彩色光环（此时空气隙，呈环形对称），这种彩色的光环称为光圈，我们通常观察光圈数（即面本数）以红色光带为准。

这是因为红色光带较宽（波长范围为0.62um~0.78um），看起来清晰明亮。

光圈（失高）检查方法

光圈的检查可以用：

千分表、贴皿、原器来检测，不管用哪一种方式，后道工序一定要与第一道工序一致。

原则是：

前道要符合后道要求，应在0.03㎜以内。

用千分表

切削——粗磨——精磨（抛光）

-10～-6-5～0

用贴皿

切削—水迹—粗磨———精磨（抛光）

-10～-6（2/3）-5～0

修整措施

使用聚氨酯抛光模面形常出现的问题

（1）光圈椭圆与局部不规

（2）光圈花，干涉条纹带锯齿状

（3）光圈中心高或低

光圈椭圆与局部不规

在抛光模修得比较规则的前提下，主要是治具与非抛光面吻合性不好，或治具夹持零件过紧，或是零件不圆。

在抛光过程中，研磨杆摆动到抛光模中间或边缘，治具旋转速度应相差不多，如果相差很多，甚至有停滞现象，光圈会出现椭圆。

光圈“花”，干涉条纹带锯齿状

主要是抛光模面形不规则，在修正时用力过重。

在室温很冷的情况下，抛光需加温至30℃左右。

光圈中心高或低

研磨杆摆动偏中心，光圈中心会变高；研磨杆摆动偏边缘，光圈中心会变低。

零件光圈有很细的塌边（边缘R值）

那是聚氨酯抛光模的弱点，聚氨酯抛光模有一定的弹性，零件受压后，压到的部分与压不到的部分聚氨酯抛光模的弹性不一样，压不到的部分聚氨酯抛光模高出压到的部分，促成零件塌边。

光圈修整措施

在改光圈的过程中，最重要的是先要知道所用的抛光模的特征和造成光圈不好的原因及其变化规律。

这样就可根据光圈的不同情况，进行修整抛光模和调整摆幅、位移、转速等。

例如：

在抛光凸镜片时，若抛光皮弹性太强（软），就容易出现中间部分凹下去和边缘塌边。

这是因为镜片和抛光模之间摩擦力的合力着力点和顶点着力点之间有一定距离，由于力矩作用，使抛光模发生径向流动。

如果抛光模

在上方，流动方向是向心的，结果使中间部分凸起，在镜片中间磨成一个凹穴。

镜片边缘塌边，是当抛光时摆动到镜片边缘，抛光模表面与镜片边缘接触部分，因受压力产生较大变形，而镜片露出部分没有变形，并高于变形部分，因此，当再摆向中心时，镜片边缘碰到未变形的凸出部分而产生多磨，结果形成塌边。

修改的方法首先是更换合适的抛光皮，抛光模直径比镜片直径小一些（抛光模在上），同时在抛光摸中心开槽和边缘修刮，摆幅中等，摆速稍慢。

但有时相同的面形却有不一样得到情况。

如同样是中间凹穴，边缘塌边的面形，有时可能由于改低得很多的光圈时，边缘磨削量太大即所谓改得“太急”了，结果形成边缘塌边和中间尚未“起来”。

这时修改的方法可以将抛光模重新贴或少许刮一刮边缘，摆幅和位移不要太大（镜片在下）。

另一种镜面是中心和边缘凸起，“中腰”凹下去，形成所谓“山”字形。

当中间凸起的抛光模在上，并对镜片有位移时，是造成“山”字形面形的原因之一。

此时，修抛光模应该结合位移和摆幅大小一起考虑。

当位移调整为零且摆幅不大时，可以适当地修抛光模中腰部分。

当镜片在下，抛光模在上时，中腰的凹陷有时还与抛光模直径太小有关。

这时抛光模边缘速度较大部分经常与镜片中腰接触，造成中腰多磨损。

修改光圈的办法是换一个相对尺寸合适的抛光模和将摆幅增大一些。

从以上分析来看，同样的不规则情况而造成的原因可能不一样。

因此，要区别不同情况，采取不同措施，特别是要根据光圈变化情况，判断出抛光模的面形，这样，改光圈就能取得主动权。

十一、机床的选择

传统研磨抛光机床种类很多，形式各异。

如S12、M8、UDA6、S6、S4及修皿机两台、（技研）脚踏修皿机。

球心研磨机床，如LP330、SSP6、MF2、光进及仿光进机台。

传统研磨抛光机床，转速不高于1800转/分,一般转速为700~900转/分；球心研磨机床，转速为1800~3000转/分。

加工平面镜盘时的机床选择，一般机床的加工范围为主，较少的考虑到平面镜盘的大小。

而加工球面镜盘时的机床选择，要考虑到机床的加工范围、球面镜盘的大小。

因大球面镜盘需有较慢的转速、摆速，较大的摆幅和较大的功率，而小镜盘则相反。

故加工大小不同的球面镜盘就应选择相应的机床。

十二、机床的调整

对于镜片失高为0.85R时或半球，可取偏角15°,摆幅40°～50°,即左摆5°～10°、右摆35°～40°比较合适。

准球心机床：

（1）根据工件球面半径，配上相应高度的接头（或治具），使球心与摆架的摆心重合。

若不准球心摆动，会使压力不均匀，使光圈难以控制。

一是摆架的偏角;

二是摆架的摆幅。

这两个因素的选择对光圈影响很大。

（2）松开偏心盘（摆动部位）的螺帽，调节摆架的摆幅，合适后拧紧螺帽。

（3）改变摆架的摆动位置时，松开摆架各辅助锁紧手柄（螺帽），调整摆架到需要的角度后，再紧固手柄（螺帽）。

正确地调节摆幅

是控制光圈的重要因素之一。

对于半球或超半球的镜片，一般可取偏角15°,摆幅50°,即左摆10°,右摆40°比较合适。

工艺过程

1.检查弧线摆动时的准球心程度，抛光液在缸内不得少于缸体积的3/4；

2.调节好抛光液温，检查是否畅通无阻；

3.按开关，观察机床运行情况，调节抛光时间和抛光液的流量，开空车1分钟；

4.调节好主轴转速、摆臂摆幅、摆速，压力，在抛光过程中按质量情况可再进行修正。

同时应按需要修、刮抛光模及视批量大小更换抛光液，以使抛光液保持清洁。

机床的调整

（4）装上工件及模具，调节研磨杆的长度，使之达到需要的压力。

传统研磨抛光机床：

（1）以机床主轴为原点将研磨杆向主轴外侧（靠近操作者）和向内侧移动时，都可以达到加大其与主轴的距离。

但向主轴外侧移动研磨杆，上架摆动的弧线距离加大，光圈变化速度比向内侧移动时快些。

（2）从法向分力的角度考虑，改变高光圈时宜轻，改变低光圈时宜重。

机床调整是否正确是影响光圈不稳定的主要因素。

机床调整包括：

转速、压力、镜与工具的相对转速、相对位移等方面。

摆幅的大小（针对上摆机床）

摆幅越大，上面治具的中部与下面治具的边缘会磨损较多，所以，摆幅的大小应当合适。

对于球模来说，上面治具摆动的角度约为下面治具张角的0.4～0.55范围内。

研磨杆的前后调整

研磨杆的前后调整是指上面治具的中心偏离下面治具的中心，向着垂直于摆幅方向的位移，此位移量对于球面为0～0.4。

主轴转速与上摆转速之比

主轴转得越快，下面治具的边缘磨削较多，上摆转速越快，上面治具的中心与下面治具的中心部分磨削较多。

对于球面为1~2.5倍。

十三、光学清理工艺

影响清洗的因素：

A，清洗工艺的技术关键：

光学玻璃经过清洗后能否达到表面不留任何油污，污迹，表面光滑，水膜完好！

B，影响清洗后玻璃质量的因素及相应的解决方法：

（1）玻璃本身的质量及被污染的情况，主要为：

表面有霉点，气泡，划伤等，在机械处理中，如：

研磨，搽试，测应力时，人为导致的污染情况不一；

（2）清洗剂的选择其能动及温度，水质；

国际上应用最广的清洗剂为CFC-113，四氯化炭，1-1-1三氯乙烷（简称ODS）等，此类清

洗剂对臭氧层有破坏，属于非环保性清洗剂；我们采用非ODS的水类碱性清洗剂，主要由

水，碱，表面活性剂，防锈材料组成，化学式C3H8，具有侧链的环状烯烃，具有较强的

溶油能力；特点：

低毒，不燃，清洗成本低等特点；

（3）溶液的浓度直接影响清洗度的大小；

通常清洗液的PH值一般在8.5-12之间，若PH值大于10，侧表面活性物质作用要削弱，当PH

值大于12时，侧清洁度下降。

在实际使用中发现当溶液浓度过大，超过15%，清洗效果不好

，不易漂洗，而浓度约为4%-7%时，侧清洗效果较佳。

（4）溶液温度及浸泡时间也同样影响去污效率；

当温度上升，溶液的反应速度也上升，污染物的粘度下降，便于污染物脱离，但溶液的稳定

度下降。

实际发现溶液温度50度，浸泡30分钟后，清洗效果最好！

（5）在清洗过程中，还应注意必须使用纯水或去离子水，若使用自来水等硬水侧很难除去玻璃上的油污，且水中所含的Ca,Na离子等杂质会在烘干后的玻璃表面形成一层白色雾状膜，污染玻璃；

（6）玻璃经清洗后需漂洗，漂洗后的清洁度，除与清洁剂的漂洗性和清洗液中的清洁剂浓度有关外，还与漂洗工序的多少，漂洗供水量的大小，温度及循环使用的纯水是否干净有关；

（7）清洗环境的清洁程度；

（8）清洗后的干燥工艺及温度：

应尽量保证玻璃垂直，可在玻璃下垫陶瓷柱，避免烘干后玻璃下沿有水印；烘箱温度控制在70度左右，时间在20分钟左右。

若温度过高，会在玻璃边角上产生花纹。

十四、抛光常见弊病产生原因及克服方法

印迹

1）抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹

2）玻璃化学稳定性不好

3）水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净

克服方法

1）选用合适的抛光胶,修刮或对改（聚胺脂）抛光模使之吻合_

2）抛光中产生的印迹可以选用适当的添加剂;而完工后产生的印迹可以保护

3）避免对着工件讲话,如下盘擦不干,应擦净,对化学稳定性不好玻璃还应烘

光圈变形

1）粘结胶粘结力不适

2）光圈未稳定既下盘

3）刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测（沉孔脏或变形）

4）刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等

克服方法

1）光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法

2）应按工件大小给予一定的光圈稳定时间

3）刚盘定期进行检测和修正_

4）严格按工艺和上盘操作规程加工

麻点

产生原因

1）精细磨、抛光时间不够

2）精细磨面立不均匀或中间与边缘相差大

3）有粗划痕抛断后的残迹

4）方形或长方形细磨后塌角

5）零件在镜盘上由于加工造成走动

6）精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分

7）抛光模加工时间过长或抛光液使用时间长而影响抛光效率

克服方法

1）精细磨应除去上道粗砂眼,抛光时间应足够

2）精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工

3）发现后应作出标识单独摆放或重抛

4）用开槽平模细模、添加砂要均匀

5）选用适当的粘结胶，控制工序温度和镜盘忽冷忽热,粘结胶厚度应符合标准

6）精细磨各道光圈匹配应严格按工艺操作指导卡操作

7）更换抛光皮及抛光液的各项指标（比重、PH值等）周期性管理

划痕

产生原因

1）抛光粉粒度不均匀或混有大颗粒机械杂质

2）工房环境不洁净

3）抛光材料（抛光胶或聚胺脂及粘贴胶等）不洁

4）擦布不洁及操作者带入灰尘

5）精细磨遗留划痕未抛掉或清洗不彻底

6）检查光圈工件或样板不干净、方法不当

7）抛光材料（抛光胶或聚胺脂）偏硬、使用时间长表面起硬壳或边缘有干硬堆积物

8）抛光模与镜盘不吻合

9）辅助工序（下盘、清洗、周转、保护漆未干等）造成

克服方法

1）选用粒度均匀和与玻璃材料对应抛光粉

2）做好“5S”工作

3）保管好所需用品

4）擦布清洗保管及操作者穿戴好工作服和帽子

5）应自检

6）正确使用样板

7）选用合适抛光材料（抛光胶或聚胺脂），周期更换，对改或修刮抛光模

8）对改或修刮、重新制作抛光模

9）按各辅助工序操作规程加工

十五、工艺规程的设计

一、光学零件图、技术条件、生产设备性能等是设计工艺规程必须具备的原始资料。

二、加工若是小量生产，可选用块料毛坯，采用弹性加工法；若为成批生产，则选用压型毛坯，采用钢性加工法。

三、确定加工顺序必须遵循多、快、省、好的原则。

根据毛坯类型、零件形状与技术要求、技术水平和生产类型拟出主要的顺序，一般为：

球面零件，平面先于球面；凹面先于凸面；