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直流放电

二、直流放电

●典型放电位形

●放电电压-电流特性

●放电特征区间

(1)暗放电区

(A)本底电离:

宇宙射线和其它形式的电离。

弱,但可以测量。

①电流形成:

没有电场加速电子产生的电离,辐射电离产生的离子、电子被电场加速。

②验证方法:

测量辐射放电的中和作用。

 

(B)饱和区:

电子仍然没有得到产生电离的足够能量。

但所有的电子、离子被收集。

典型饱和电流值在pA或nA数量级上,与辐射强度成正比,可以用于辐射计数器。

(C)汤生区:

电子可以电离中性本底气体。

①电子来源:

光电子或二次电了发射,电子碰撞电离

②电流增加过程:

电子雪崩倍增,指数增加(C—E段)

③汤森第一电离系数

英国物理学家汤生(J.S.Towsend)20世纪初提出第一个定量的气体放电理论,即电子雪崩理论。

适用范围:

非自持到自持的转变,仅仅考虑外部电场,没有考虑等离子体带电粒子对电场的影响。

汤森第一电离系数

,是一个电子沿电场走过单位长度时平均电离碰撞的次数。

推导说明:

(a)电子不是每次碰撞都能产生电离

(b)能电离的碰撞---->电子在两次碰撞间从电场加速获得的能量eEλi≥电离能Vi,即自由程足够大。

(c)N次碰撞中,自由程大于λi的碰撞次数为

Nexp(-λi/

为平均自由程。

(d)单位长度内的电子碰撞次数N:

N=

(e)汤森第一电离系数

(f)换成放电参数:

气压、电场

B=AVi

参数A、B必须由实验来确定。

每—种气体的A、B不同。

 

④不同气体的汤森第一电离系数

气体

A

离子对/(Torr•m)

B

(V/(Torr•m))

Air

1220

36500

CO2

2000

46600

H2

1060

35000

HCI

2500

38000

He

182

5000

H2O

1290

28000

Kr

1450

22000

N2

400

10000

Hg

2000

37000

低折合电场下,He的第一汤森第一电离系数

最大

He最容易击穿放电---->最佳的大气压辉光放电气体。

⑤汤森判据---自持放电条件

考虑离子轰击阴极产生的二次电子,忽略离子碰撞电离,分析自持放电条件:

自持放电:

不需要其他辅助电离,因靠自身能量维持,产生的电子数与损失的电子数相同。

 

⑥汤森判据---放电电压与pd值的关系

 

的表达式带入自持放电条件得

两边再取对数得帕邢公式

[曲线特性理解]高pd值;低pd值。

[应用]屏蔽----->小d值----->低pd值

视为pd的函数,可得最小

对应的pd值

最小击穿电压为:

[应用指导]:

(1)降低等离子体彩电微腔放电电压

MgO:

大,溅射产额低。

(2)降低照明放电电源的工作电压

充入杂质气体---->杂质气体的电离电位低于基本气体的亚稳态激发电位,潘宁效应使放电气压降低。

[电负性气体对放电电压的影响]

(D)电晕区:

(电晕:

单极放电,不完全放电)

(1)产生条件及特征:

在高气压或电极距离较大等条件下,不能产生自持击穿(!

)放电。

当一个或两个电极表面曲率半径很小时,电极间的存在极不均匀的电场,在局部强电场区(电极尖端、线、电极边缘)产生不完全击穿的自持放电。

 

电晕层

在局部强电场区,中性气体被电子激发和电离,产生发出微光的薄层---->晕(晕之本意:

日月周围形成的光圈)。

由点产生的晕---->电晕层。

电晕外区

电晕层以外的区域,电场强度小,不能引起激发和电离,时不发光的暗区,称为电晕外区。

若电晕电流比较高,电晕发出眼睛可见的辉光。

(2)典型放电位形

电场径向分布:

----(内半径处场强最大)

[问题]电晕空间电荷对电场的影响?

放电体积(活性体积):

活性半径处场强

击穿场强

(3)典型放电电压、电流:

电压大于辉光放电;

电流低于辉光放电,典型值:

微安----毫安级

(4)电晕分类

按电压分:

直流、交流电

按极性:

正电晕、负电晕

按电极:

单电晕,双电晕

正电晕:

放电产生(电晕存在)极性为正的电极附近。

在电晕区,电子被加速获得足够能量,激发、电离中性原子。

正离通过电晕区向阴极运动。

由于电晕外区的电场强度弱,离子不能被加速获能而产生电离(问题:

离子原始能量?

)----->电晕外区只存在正离子。

临界电极半径:

半径阳极电极半径处的电场

当电压和接地极半径b一定时,阳极半径a增加,

减小-----〉

存在极值

b/a=2.712为电晕放电的临界值。

b/a>2.712,dEa/da<0,在该区域,a增大,Ea减小。

b/a>2.712是稳定电晕放电条件:

电流增加---->电晕厚度增加----->等效阳极半径增加----Ea下降----电流降低(负反馈)

b/a<2.712不稳定放电):

负电晕:

小电极作负极,大直径圆筒。

放电发生在阴极附近,离子轰击阴极,产生二次电子,维持放电进行。

电晕外区的电场强度弱,电子不能被加速获能而产生电离(问题:

电子原始能量?

),电子可以电负性气体俘获,形成负离子。

该区域内,负离子、电子为传导电流。

 

(5)放电电极种类

●尖针--平面电极

●丝--丝电极

●丝—筒电极

●丝阵列

比较:

丝比尖针好。

 

 

(6)电晕应用

●静电除尘器

●干式复印技术

●表面改件--湿润粘着性染色抗静电

●臭氧---消毒、灭菌、水处理

●化学合成

(7)电晕的危害

●高压输电损

●合成有害物质:

臭氧、NO2、硝酸。

●电晕放电电磁辐射干扰

 

 

 

(2)辉光放电

●辉光解释:

该区内电子能量和电子数密度已足够高,等离子体发光足够强。

照明用传统放电荧光管就是辉光放电。

●电源特性对电晕---辉光跃迁的影响:

电源内阻很高,放电管电晕区。

电源内阻低,放电将从暗放电区跃迁到低压正常辉光放电.

●辉光放电分区与特征:

(F-G)正常辉光放电:

放电电流增加由等离子体面积增大产生。

电流密度、放电电压近似不变。

(G-H)反常辉光放电:

在G点,等离子体覆盖了整个阴极表面。

导电面积没有增加的余地,放电电流增加只能来源于电流密度增加,要求对应的放电电压也增加。

辉光强度增加。

E---F为非连续变化。

F’:

辉光放电的滞后点,由此点跃迁返回汤生区

 

●辉光放电参数

 

参数

低值

典型值

高值

中性气体压力(torr)

10-6

0.5

760

电极电压(V)

100

1000

50000

电极电流(A)

10-1

0.5

20

等离子体密度(个/cm-3)

108

5*109

6*1012

电子温度(ev)

1

2

5

功率水平(W)

10-2

200

250000

●辉光光强度、等离子体电位、电场和净电荷密度的轴向分布,

 

●不同放电模式下辉光强度的径向分布

●放电电压与二次电子发射系数的关系

 

●有辉纹的辉光放电(动辉纹、不动辉纹(几Hz-几十kKz))

 

●阻碍放电----短间隙放电

放电的pd小于帕邢最小值,放电电压高于最小电压,等离子体密度相对较高。

优点:

工作于高电压下,离子轰击基片的能量高。

---刻蚀、表面改性。

●相似放电---放大、缩小(等离子体彩电微腔放电)

相似放电条件:

放电相同点:

击穿电压、电子温度,折合电场

●直流辉光放电等离子体源

1圆筒形辉光放电源

应用:

照明器件,如荧光管和“氖”广告牌。

运行范围:

正常、反常辉光放电状态。

2平行板源

应用:

等离子体加工和等离子体化学。

运行范围:

无阻碍放电区(图(a))---等离子体化学---等离子体体积大。

阻碍放电区(图(b))-----等离子体加工---阴极偏置电压高。

●简单直流辉光放电的优、缺点:

优点:

设备简单、易于大面积均匀[氮化处理]

缺点:

放电气压高

等离子体密度低

有溅射污染(尤其是反常辉光区)

溅射沉积速率低

 

改进方法:

(如下)

 

3电子轰击等离于体源

通常名称:

考夫曼(Kaufman)源,196l-1963为研制高强度离子源而发明。

放电条件:

电子发散磁场约束,磁场强度:

5至15mT。

放电位形:

柱对称

特点:

功率利用高(>90%),高于其他大部分辉光放电。

电子被—个数值约为5至15mT的发散磁场磁化.

4彭宁(Penning,)放电等离子体源

彭宁放电:

Penning,1936,1937。

放电条件:

轴向磁场:

0.05<B<0.2特斯拉,阳极电压:

0.5<Vad5kV;阴极接地。

放电气压:

10-6<P<10-2torr。

特点:

运行气压低(轴向磁场约束电子、离子);等离子体密度高(轴向静电场捕获电子);离子能量高(?

离子磁化判据)。

强磁场作用:

阻止电子被阳极捕获,电子在阴极之间往复反射,增加电离几率,保证低气压放电。

不同电极形式的彭宁放电:

(见图)

应用:

科研、军事。

大规模的商业应用较少(?

)。

 

5“磁控管”(交叉场)放电

磁控管:

能产生微波的一种真空管。

“磁控管”(交叉场)放电位形:

(见图)

电子、离子状态:

电子被磁化,做封闭漂移运动。

离子为磁化。

优点:

运行气压低;等离子体密度高;基片加热小。

缺点:

放电局域化,等离子体空间均匀性差。

靶材利用率低。

应用:

薄膜的溅射沉积、等离子体刻蚀(离子铣)

[补充介绍]二次离子质谱SIMS(SecondaryIonMassSpectrory)

------>薄膜成分分析---不同厚度处。

不同的交叉场放电位形:

平面形:

圆柱形:

多极磁场:

溅射枪:

⑥空心阴极放电

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