锗硅集成电路芯片生产线项目可行性研究报告文档格式.docx

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SiGe高频器件是一种利用硅基片及能带工程的新型异质结双极器件,由于具有优良的高频特性同时又具有价格低廉以及同硅集成电路兼容集成的优点,因而深受各国重视。

尽管1987年第一只SiGeHBT诞生,并经历了十几年的研究及发展,但一直到1998年真正的SiGe产品才问世。

本项目利用韩国合资方XXXXX公司掌握的先进SiGe器件及电路工艺技术生产的SiGe器件及集成电路,使我国能在最短的时间内填补这种器件及电路的空白,推动我国SiGe集成电路生产赶上国际先进水平。

(2)满足我国高频应用领域的需求,促进相关应用领域的发展

随着我国光纤通信、航天科技及军事科技的迅速发展,对高频电路不仅在数量上有更多的要求,而且希望电路满足低成本、小体积及能同硅电路兼容集成,从而构成系统集成芯片。

SiGe技术正好满足这些要求,因而建立6英寸0.35μmSiGe集成电路生产线,能扭转我国目前高频电路主要依赖GaAs器件及大部分靠进口的状态,从而促进我国相关应用领域的发展。

(3)拓宽我国微电子产品的领域,形成我国SiGe集成电路生产及研发基地。

多年来我国微电子工业的发展缓慢,尽管截止2000年我国已共有25条微电子生产线,但除了上海华虹NEC的8英寸0.25μm产品刚进入当代国际硅主流技术水平以外,其它生产线以生产低中档产品为主。

近年来我国微电子工业发展速度有所加快,特别上海“中心国际”及“宏力”8英寸0.25生产线的建立,扩充了我国集成电路的生产能力,提高了我国集成电路的产品水平。

但是上述所有微电子生产线均未考虑SiGe器件的生产。

因此本项目SiGe集成电路生产线的建立,可以拓宽我国微电子产品的领域,本项目第二期工程拟升级成8英寸加工线,并将建立SiGe集成电路研究及发展中心,最终形成我国SiGe集成电路生产及研发基地。

(4)带动我国高频电路及系统集成芯片设计行业的发展

多年来我国从事高频电路设计的科技人员均以GaAs器件为主要对象,原因是缺乏新的高频器件,本项目SiGe器件生产线的建立,为建立SiGe高频电路及系统集成芯片设计平台提供了一个验证及保证的条件,从而带动我国高频电路及系统集成芯片设计行业的发展。

(5)推动深圳市电子信息产业的进一步发展

电子及通信设备制造业是深圳工业的主导行业,但是深圳市的微电子工业由于起步较晚相对落后。

据统计2000年深圳直接使用的集成电路50亿美元中,90%依靠进口。

在高频应用的电路中,由于采购困难更限制了相关电子产品的发展。

本项目利用少量投资,购置以翻新设备为主的6英寸0.35μm设备,建立一条相对水平较高的SiGe集成电路生产线,不仅具有很好的经济意义,而且能缓解上述矛盾,并推动深圳市电子信息产业的发展。

1.3.2项目建设的有利条件

(1)深圳具有建设高技术集成电路芯片项目的良好环境

深圳与上海、北京一样,是国内最有条件发展集成电路芯片制造业的城市之一。

深圳市为加速和鼓励发展集成电路芯片制造业,配合国务院18号文精神,对该项目提出了包括地租、贴息贷款和水电价格等多项优惠政策,为本项目的实施创造了有利条件。

深圳及周边珠江三角洲地区是国内集成电路主要的集散地之一,华南地区集成电路消耗量占国内的一半以上,同时也是中国最大的光通讯、无线通讯、网络设备生产开发中心,占据中国该类产品生产的70%以上。

2000年中国电子信息百强前30名中有超过1/3在深圳及其附近地区,包括华为、中兴、康佳、德塞、长城等,这些大公司使用大量集成电路,使得广东的电路进口数量占全国的60-70%。

项目具有良好的投资环境和市场环境。

此外,深圳作为中国最年轻和最具活力的国际化大都市,毗邻香港,利用靠近香港、交通便利的地理优势,容易吸引优秀的国际人才,产品可方便地面向海外市场。

(2)本项目合作方XXXXX公司充分提供工艺技术、人员培训、工艺设备维护以及具有丰富经验的集成电路生产管理技术团队支持。

目前XXXXX公司董事长吴之植先生是韩国电子部品研究院研究员,担任深港韩国电子商会会长(该会成员多达100多家)。

本项目韩国方面组织了具有国际大公司背景和6″、8″生产线建设与运营经验的技术团队,团队成员分别具有IBM公司、AMD公司、三星电子、现代半导体公司、韩国电子部品研究院(KETI)和韩国电子通讯研究院(ETKI)等国际大公司或知名院所的工作背景和经历,这为本项目实施提供了强有力的保障。

(3)本项目生产线建设的一大特点是采用与技术引进相结合的整条线成套设备引进的方式,这使得相应的服务、维修及备件供应有保障,这对本项目生产线能够长期稳定、可靠的运行极为重要,对本项目实施极为有利。

1.4可行性研究报告编制依据

1.4.1国务院2000年《鼓励软件产业和集成电路产业发展的若干政策》(国发[2000]18号文)以及2001年《国务院办公厅关于进一步完善软件产业和集成电路产业发展政策有关问题的复函》。

政策规定鼓励发展集成电路产业,并提出多项优惠政策。

1.4.2国家发展计划委员会和科学技术部1999年7月颁发的《当前优先发展的高技术产业化重点领域指南》第34条规定,集成电路是信息化产业发展的基础。

集成电路产业包括电路设计、芯片制造、电路封装、测试等,需重点发展。

1.4.3《外商投资产业指导目录》2002年版3.20.4条鼓励“集成电路设计与线宽0.35微米及以下大规模集成电路生产”。

1.4.4深圳市XX实业有限公司与XXXXX(亚洲)集团有限公司关于在深圳市成立合资公司的协议书。

1.4.5深圳市政府关于建设超大规模集成电路生产项目优惠政策的相关文件。

1.4.6深圳市XX实业有限公司和XXXXX公司提供的基础资料。

1.4.7信息产业电子第十一设计研究院基础资料。

1.4.8深圳市XX实业有限公司委托深圳市xx咨询有限公司编制该项目可行性研究报告的协议

1.5研究结果

1.5.1主要技术经济指标

本项目主要技术经济指标见表1-2。

表1-2主要技术经济指标

序号

名称

单位

数据

备注

1

生产规模

片/月

5000

达产年

·

6″SiGeHBT芯片

1500

6″SiGeVCO芯片

3500

2

年销售收入

万美元

9633.82

达产年平均

3

固定资产总投资

2998.90

4

职工人员

104

5

用地面积

m2

200000

其中一期116000

6

新建建筑面积

26600

7

新增生产设备、仪器数量

台(套)

51

8

变压器装设容量

KVA

9

自来水消耗量

t/d

2460

10

主要动力消耗

工艺循环冷却水消耗用量

m3/h

150

氮气(GN2)消耗量

450

工艺氮气(PN2)消耗量

200

工艺氧气(PO2)消耗量

工艺氢气(PH2)消耗量

工艺氩气(Ar)消耗量

压缩空气(CDA)消耗量

520

高纯水系统

m3/d

600

冷冻水(CHW)

KW

4600

11

达产年利润

2848.96

12

销售税金及附加

317.92

13

总投资回收期

3.23

含建设期

14

财务内部收益率

%

57.26

税后

15

总投资利润率

67.70

16

销售利润率

29.57

17

盈亏平衡点

38.88

生产能力计算

18

贷款偿还期

2.36

1.5.2研究结论

该项目是6″、0.35μmSiGe集成电路芯片生产线项目,SiGeHBT是一种新型的超高频半导体器件,近年来已成为集成电路技术发展的一个热点,得到了日益广泛的应用,产品方向符合国家产业导向,是国家高新技术产业目录指导发展产品和国家2002年度鼓励外商投资产品。

本项目的实施对填补我国SiGe高频器件生产的空白,推动我国SiGe集成电路生产赶上国际先进水平具有重要意义。

目前SiGe产品种类不多,生产量也少,但从其应用用途分析,一般推测其未来发展空间甚大,根据ITIS及ICInsight資料,SiGe半导体1999年市场规模约为0.25亿美元,预测至2004年将有9亿美元的市值,年平均增长104%,产品具有广阔的市场前景。

SiGe集成电路的市场虽然发展十分迅速,但对本项目而言仍有一个逐步开拓的过程,因此,本项目确定的生产规模(月投5000片)是合适的。

同时为进一步减小市场风险,本项目考虑在投产初期,利用生产线的部分生产能力,进行工艺兼容、市场成熟的硅MOS功率器件与集成电路的生产,项目初期产品是采取定向委托加工方式,产品市场有保障。

本项目设备配置采用翻新设备,以很低的投资建立起一条有一定规模的6英寸锗硅生产线,产品技术含量高。

同时减少了投资风险,降低运营成本和费用。

根据XX公司与XXXXX公司签订的合资协议,生产技术由XXXXX公司负责提供,并作为韩方的技术入股,项目实施具有技术保障。

—XXXXX公司组织了具有国际大公司背景和6″、8″生产线建设与运营经验的技术团队。

团队成员分别有IBM、AMD、三星电子、现代公司、韩国电子部品研究院和韩国电子通讯研究院等国际大公司或知名院所的工作背景,是本项目建设运营的有力支撑。

该项目投资回收期3.23年、财务内部收益率57.26%、总投资利润率67.70%、销售利润率29.57%,盈亏平衡点38.88%。

项目具有良好的投资效益和抗风险能力。

综上所述,项目建设是可行的。

第二章投资方简介

2.1深圳市XX实业有限公司

2.1.1公司概况

深圳市XX实业有限公司是于2000年12月29日成立的有限责任公司,公司注册资本为10800万元。

本公司的股东为中国高科集团股份有限公司(以下简称:

中国高科)和上海高科联合生物技术研发有限公司(以下简称:

高科生物)。

中国高科占本公司注册资本的68.125%,高科生物占31.875%。

公司的经营范围是:

兴办实业;

电子通讯产品及智能系统等相关产品的技术开发、销售;

国内商业、物资供销业;

经营进出口业务。

2002年,公司实现主营收入11.6亿元,实现净利润3600万元。

目前,公司的总资产已超过5亿元人民币,净资产为1.6亿元人民币。

2.1.2股东背景

中国高科是由国内众多知名高校共同发起设立并于1996年7月在上海证券交易所上市的股份有限公司(证券代码为600730)。

2001年底,中国高科注册资本17460万元,总资产达135554万元,净资产37015万元。

高科生物是由中国高科控股的有限责任公司(中国高科占56.7%),公司的注册资本为人民币15000万元,主要从事新型生物化学药物系列、新型药物制剂、基因工程药物、新型卫生材料等新型药品的研发、新药项目的技术转让。

2.1.3下属企业介绍

XX公司自成立以来,在中国高科的支持下,积极进行资本运作。

截止2002年底,公司控股和参股的企业已达7家。

他们分别是深圳市高科智能系统有限公司(占注册资本的51%)、深圳仁锐实业有限公司(占注册资本的75%)、深圳市高科新世纪贸易有限公司(占注册资本的65%)、深圳市高科通讯电子有限公司(占注册资本的40%)、深圳市华动飞天网络技术开发有限公司(占注册资本的32%)、深圳市金开利环境科技有限公司(占注册资本的60%)、深圳市星伦网络科技有限公司(占注册资本的84%)。

2.2XXXXX(亚洲)集团有限公司

XxxxxAsiaHoldingsCo.,Ltd.于2000年12月22日在香港注册成立,注册地址:

FLAT/RMN9/FINTERNATIONALINDUSTRIALCTR2-8KWEITEISTREETFOTANSHATIN,HK。

公司一直致力于电子通信领域的发展,并与韩国电子部品研究院(KETI)、韩国电子通信研究院(ETRI)、NEXSO等研究机构、公司进行了多方面的合作。

2002年5月:

公司与韩国电子部品研究院(KETI)签署了“中国技术合作战略伙伴”协议,内容涉及OLED驱动芯片、OLEDpanel、无机EL制造技术、LOCOS驱动芯片等。

目前,于2003年1月16日在与韩国SoC风险企业(e-MDT,Wisdom)和韩国电子部品研究院(KETI)业共同投资成立“深圳华韩集成电路科技有限公司”。

2002年6月,在深圳投资注册了以利亚电子科技(深圳)有限公司。

主要从事OLED有机电致发光材料、屏板(panel)、驱动IC、批量生产生产工艺流程及设备的高科技公司,并与韩国电子部品研究院(KETI)建立了OLED的技术合作关系。

2003年1月2日与韩国电子通讯研究院(ETRI)签署了“SiGe技术转移合同”,技术内容涉及SiGeHBT工艺、SiGe集成电路制造等有关的技术专利100多项。

公司将继续在半导体、芯片设计等领域发展,并将韩国的先进技术继续引进到中国,与本地的技术融合,愿成为中、韩技术交流的一个桥梁。

第三章该产业国内外发展情况

3.1产品主要应用领域和意义

项目主要产品SiGe器件的特点是利用廉价的硅基片同硅集成电路兼容的加工工艺生产新型的高频器件及电路,器件和电路产品的应用目前主要集中在2GHz到10GHz的范围内,并可能扩展到40GHz以上,图3-1示出SiGe器件的可能应用范围。

图3-1SiGe器件应用范围

如果将其应用具体化,至少可以举出以下一些射频应用领域的例子:

蜂窝电话和PCS电话

接收器用低噪声放大器(GSM、DCS、PCS、CDMA)

发送器用功率放大器(GSM、PCS、CDMA、AHPS)

压控振荡器(每个发送/接收装置的基本部件)

廉价的2.4GHz碰撞报警雷达系统

1GHz以上的单片无线话音和数据电话系统

数据采集,直接-基带无线接收器和信号合成专用高速模数转换和数模转换器

廉价高可靠的全球定位(GPS)接收器

互动式电视

早期高频无线应用的电路例如混频器、调制解调器和压控振荡器等都是用硅双极技术设计的,同时功率放大器和低噪声放大器等前端电路主要用GaAs技术设计。

随着应用要求的频率提高,硅双极器件已力不从心,因而GaAs便逐渐成为高频应用的主流。

这主要是因为GaAs材料具有高的电子迁移率及快的漂移速度,因而适用于制作高频器件,但是GaAs存在诸多缺点,例如GaAs单晶材料制备工艺复杂因而价格昂贵;

GaAs材料的机械强度低,晶片易碎尺寸做不大;

GaAs的热导率低因而散热不良;

GaAs器件工艺同硅器件工艺不具有兼容性等。

这些缺点限制了GaAs器件的发展,特别限制了器件的大规模生产。

具有优良特性的SiGe技术(见表3-1)正在扫除上述障碍,并有可能开发出一种集成的高频无线电路,例如可以将压控振荡器、功率放大器及低频噪声放大器集成在一起,构成完整的无线前端产品。

除此以外,SiGe技术可以将BiCMOS电路集成在一起,形成速度、功耗、性能、集成度和成本最佳组合的系统集成芯片,从而完成更加复杂的功能,这样的芯片可直接用于先进的无线通信产品中,例如用于第二代、第三代手机及宽带局域网(WLAN)中。

毫不夸张,SiGe器件的应用及开发,将使微电子学在通信领域中参数一次新的飞跃,具有十分重要的意义。

表3-1Si器件、SiGeHBT和GaAsHBT特性的比较

器件

fT(GHz)

室温增益

低温增益

同Si工艺兼容性

规模生产性

芯片成本

目前工艺水平(μm)

Si

60

下降

0.09

SiGe

210

上升

0.18

GaAs

160

一般

0.25

注:

SiGeHBT的fT据报道已达360GHz

本项目投产的初期以生产SiGeHBT及压控振荡器(VCO)为主,它是SiGe的基础产品同时又是有广阔市场的产品,它将为今后扩展其它SiGe集成电路的生产铺平道路。

本项目加工的功率MOS器件是硅器件中广泛应用的产品,国际上由于产业调整加工有逐渐移向我国的趋势,例如日本GlobalFoundry公司在我国曾同一些4”生产线合作过该器件生产。

但由于生产效率偏低未能成功,这次该公司作为本项目韩方股东,在项目投产的前两年将安排约4000片/月的生产量生产功率MOS器件,这对项目建立的生产线迅速达产及提高经济效益起到保证作用,同时作为补充我国及深圳地区微电子产业也将作出贡献。

3.2国际-国内技术水平发展情况

SiGeHBT从材料外延开始到商业生产经历了近20年左右发展的道路。

表2列出了1982年开始研究低温UHV/CVD外延SiGe材料工艺,到1998年第一代SiGe产品问世的主要发展历程。

表3-2SiGeHBT的主要发展历程

时间

发展内容

1982

开始研究低温UHV/CVD工艺

1986

UHV/CVD外延Si成功

1987

第一个SiGeHBT制作成功(采用HBE方法外延)

1990

fT~75GHz

1993

fT>100GHz

1995

fmax~160GHz

1998

第一代SiGe产品问世(LNA低噪声放大器)

由于SiGeHBT的工艺同Si工艺具有兼容性,因此在材料研究取得突破以后,其器件及电路的水平迅速提高,表3-3列出了截止2000年SiGeHBT的器件研究水平。

表3-3SiGeHBT的研究水平

器件结构

SiGe生长方法

增益β

发射极面积(μm2)

fT/fmax(GHz)

实验室

双台面

MBE

9~200

0.8×

30/160

DailerBenz

双多晶自对准

UHV/CVD

113

2.5

48/69

IBM

45000

0.3×

9.55

154/-

Hitachi

300

0.2×

76/180

近年来器件水平又有很大提高,最近报导的SiGeHBTfT达360GHz,SiGe器件商业生产水平的fT和fmax分别在30GHz和60GHz左右,采用的工艺水平为1~0.5μm工艺。

商业上主要用SiGe技术生产低噪声放大器(LNA),压控振荡器CVCO等电路,除此以外,利用SiGeHBT同CMOS工艺兼容集成的水平在不断提高,利用SiGeBiCMOS工艺已试制出集成180万晶体管道ASIC芯片。

作为例子表3-4列出无线通信用SiGeLNA的水平,表3-5列出一些具有代表性的SiGeHBT集成电路。

表3-4无线通信用SiGeLNA的水平

性能

TEMIC

MAXIM

Infinon

RFMO

conexant

工作频率(GHz)

1.8

1.9

工作电压(V)

电流(A)

3.5

噪声系数(dB)

1.3

0.65

1.5

1.7

增益

20

14.4

21

 

表3-5有代表性的SiGeHBT集成电路

电路

时间/公司

DAC

12位,1.2GHz,750mW

1994/IBM

分频器

8分频,50GHz

1998/Hitachi

单片VCO

17GHz,-110dBc/Hz

1997/IBM

5.5GHzLNA/VCO

LNA:

14.1dB(增益)

2.4dB(噪声系数)

VCO:

15%调谐范围,在100KHz偏移时噪声比

-90dBc/Hz

1998/IBM

多路复用器

2:

1,40Gb/s

多路分解器

1:

2,60Gb/s

1997/Siemens

前置放大器

带宽2.5GHz,输出阻抗43Ω,功耗17mW

2003/ETRI

SiGe器件的技术虽然发展迅速,但主要掌握在国际上少数公司手中,特别是生产技术掌握在少数像I

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