溅射镀膜操作流程Word格式文档下载.docx
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所以在确定水箱充有足够水的前提下还要确保泵的正常工作。
2、抽真空：
1.开机械泵开关；
2.开旁抽阀V1（V7），开复合真空计，对溅射真空室（进样室）进行抽真空（粗抽真空）；
3.当气压低于20Pa时，关旁抽阀V1（V7）；
4.开电磁阀DF1（DF2），开闸板阀G2（G3），启动分子泵T1（T2）；
5.开电离真空计（细抽真空）。
真空区域可划分为五类：
粗真空区域1.103×
105Pa—1.3×
103Pa
低真空区域1.3×
103Pa—1.3×
10-1Pa
高真空区域1.3×
10-1Pa—1.3×
10-6Pa
超真空区域1.3×
10-6Pa—1.3×
10-12Pa
极高真空区域＜1.3×
10-12Pa
这种气体的量的变化也会对各类生产过程产生很大影响。
对镀膜过程也不例外。
例如物质在真空中的沸点比在大气中的低，在真空条件下可以降低物质大量蒸发所需的温度，因而在真空镀膜室镀膜材料可以在较低的温度下大量蒸发。
在低真空区域中氧气相应少了，物质被氧化的可能性大大的变小，因而真空镀膜时能够得到纯度较高的有实用价值的镀膜层。
所以稳定的真空度能有效保证各实验参数的进行，保证镀膜质量。
三、装样
1.检查闸板阀G3是否关闭，确认G1，V7，V5确实关闭；
2.缓慢打开放气阀V6，向进样室充气；
3.充气完成后，打开带窗活开门，将放好样品的样品托一一放入样品库（一次可放置6个样品托）；
4.关闭放气阀V6，对样品室抽真空。
四、处理样品（进样室中，退火炉在上，反溅靶在下）
1.用磁力传递杆取下样品托，将样品托放置在反溅靶表面；
2.将复合真空计由自动调为手动；
3.稍关闭闸板阀G3，打开截止阀V5；
4.开流量计，预热3min；
5.开气瓶开关，调节流量阀MFC3，通过调节流量以及闸板阀开关控制真空到3~5Pa；
6.打开RF电源，预热5min，调节功率对样品进行反溅清洗；
7.关闭RF电源，关气瓶开关，关闭流量阀MFC3，关闭V5，打开G3；
8.取下样品托，放入退火炉托座；
9.调节退火温度对样品热处理。
五、送样
1.当进样室真空度低于5*10-4Pa时，关闭G3，打开G1；
2.取下样品托并旋转180度，送入溅射室，并交接到转盘上（可通过侧壁上的样品叉辅助交接）；
3.抽出传递杆，关闭G1，对溅射室抽真空。
（1）采用传递杆传送样品，可以保持真空卫生，首先是腔气体卫生。
即腔气体应该有足够的纯度和稳定的比例。
其次是腔体卫生。
腔体应该保持相应的洁净度。
采用传递杆可以避免灰尘、废金属屑等进入腔体。
只有保证了真空卫生才能保证镀膜的质量。
（2）基片应与靶材平行,因为在与靶材不同的距离上金属蒸气的密度、温度情况、磁力强度等镀膜条件是不相同的。
如果不平行的话，不仅会使镀膜厚度不均匀，也会使膜所受的应力不一致，有可能导致开裂、翘曲或脱落等附着强度问题。
（3）基片表面应洁净，基片表面的洁净与否会直接影响镀膜的均匀性、附着强度。
严重时还会使镀膜开裂、翘曲或脱落。
以玻璃基片为例，如果基片清洗效果不达标，表面存有灰尘、油脂或油的薄层，那么就会严重影响镀层的光学透射率、反射率、色调均匀性等基本性质。
六、溅射镀膜
1.稍关闭G2，关闭电离真空计；
2.缓慢打开V4，过一段时间后按实验要求打开V8，V9，V10；
3.打开流量计，预热3min；
4.开气瓶开关，将流量计打到阀控档；
5.调节流量计以及闸板阀G2，控制压强至实验要求（如气压低于1*10-1Pa可打开电离真空计检测压强）；
6.打开直流或射频电源（射频电源需预热5min），调节功率开始溅射，可通过程序控制转盘以及挡板位置；
7.镀膜完成后，关闭直流或射频电源；
8.关闭气瓶开关，关流量计，关V8，V9，V10，关V4，打开G2；
取样与送样操作步骤一样。
实验注意事项：
①靶材质量应能足够保证镀膜质量。
②基片应与所镀产品的镀膜表面平行。
③产品表面在镀膜前应清洗干净。
④真空腔应时常清洁，保持真空环境的卫生。
⑤稳定的真空度。
⑥稳定的气体流量。
⑦循环水能及时降温（主要是抽水泵能正常工作）。
⑧腔温度应自然冷却后才可以取出产品。
⑨操作人员应及时通过监视窗口观察真空腔部工作状况，阳极光线应明亮，若昏暗（此时辉度指示灯一般会闪烁）应及时查找原因。
⑩升降机在上升到可以打开密封盖时应及时停止。
⑪各种开关、旋（按）钮使用完毕后应及时关闭或恢复到初始状态。
⑫整理实验室，关闭空调和室灯光，并且把门锁好。
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