溅射靶材行业分析Word下载.docx

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1、PVD技术已成为目前主流镀膜方法，溅射靶材亦成为目前市场应用量最大的PVD镀膜材料

薄膜材料制备技术主要包括物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。

经过多年发展，PVD技术已成为目前主流镀膜方法，主要包括溅射镀膜和真空蒸发镀膜。

真空蒸发镀膜技术具有简单便利、操作方便、成膜速度快等特点，主要应用于小尺寸基板材料的镀膜。

溅射镀膜工艺可重复性好、膜厚可控制，可在大面积基板材料上获得厚度均匀的薄膜，所制备的薄膜具有纯度高、致密性好、与基板材料的结合力强等优点，已成为制备薄膜材料的主要技术之一，各种类型的溅射薄膜材料已得到广泛的应用。

2、全球溅射靶材市场规模较大，预计未来稳定增长

据立木信息咨询数据，2017年全球溅射靶材市场容量达132.5亿美元，预计2020年全球溅射靶材市场规模超过200亿美元。

3、溅射靶材主要应用在平板显示、光伏电池、半导体等领域

在溅射靶材应用领域中，半导体芯片对溅射靶材的金属材料纯度、内部微观结构等方面都设定了极其苛刻的标准，需要掌握生产过程中的关键技术并经过长期实践才能制成符合工艺要求的产品。

因此，半导体芯片对溅射靶材的要求是最高的，价格也最为昂贵。

高纯溅射靶材是伴随着半导体工业的发展而兴起的，集成电路产业成为目前高纯溅射靶材的主要应用领域之一。

随着信息技术的飞速发展，要求集成电路的集成度越来越高，电路中单元器件尺寸不断缩小。

每个单元器件内部由衬底、绝缘层、介质层、导体层及保护层等组成，其中，介质层、导体层甚至保护层都要用到溅射镀膜工艺，因此溅射靶材是制备集成电路的核心材料之一。

集成电路领域的镀膜用靶材主要包括铝靶、钛靶、铜靶、钽靶、钨钛靶等，要求靶材纯度很高，一般在5N（99.999%）以上。

4、中国半导体靶材市场增长迅速，预计未来仍将快速增长

据智研咨询数据，中国半导体靶材市场规模2019年达47.7亿元，同比增长35.9%。

随着智能手机、平板电脑、汽车电子等终端消费领域对半导体需求的持续增长，尤其是消费电子产品与互联网、移动互联网的紧密结合，导致手机、平板电脑、智能电视等网络接入终端产品的应用面持续扩大，预计全球半导体市场在未来将保持持续增长的态势。

芯片产业是大数据、云计算、互联网的基础产业。

这些产业的迅猛发展为芯片带来了强劲的市场需求。

由于半导体行业所需溅射靶材品种繁多，且每一种需求量都较大，稳定的下游市场增速将有力地促进溅射靶材销售规模的扩大，据智研咨询数据，中国半导体靶材市场规模2022年预计达75.1亿元。

镀膜是平板显示行业不可或缺环节之一。

平板显示器多由金属电极、透明导电极、绝缘层、发光层组成，为了保证大面积膜层的均匀性，提高生产率和降低成本，溅射技术越来越多地被用来制备这些膜层。

平面显示镀膜用靶材主要品种有：

铬靶、钼靶、铝靶、铝合金靶、铜靶、铜合金靶和掺锡氧化铟（ITO）靶材等。

5、平板显示靶材市场迅速增长，预计未来仍将快速增长

中国大陆在政府政策导向和产业扶植下，我国大陆液晶显示产业快速发展，而传统的液晶面板生产强国韩国、日本出于降低制造成本等因素的考虑，近年来加大在我国大陆投资设厂的力度，通过产业转移的方式提升全球市场竞争力。

因此，近年来国内的平板显示靶材产业规模迅速增长，据智研咨询数据，2018年中国平板显示靶材市场规模为120.7亿元，同比增长27.8%。

基于产品价格、采购本地化等考虑，面板制造商特别是液晶显示器对材料国产化的需求十分迫切，未来随着产能向国内转移，平板显示靶材需求规模有望进入长期增长，预计2022年国内平板显示靶材市场将达206.5亿元。

6、薄膜太阳能电池比传统的晶体硅太阳能电池具有更加广阔的市场空间

太阳能电池主要包括晶体硅太阳能电池和薄膜太阳能电池，其中，晶体硅太阳能电池按照生产工艺不同可分为硅片涂覆型太阳能电池以及PVD工艺高转化率硅片太阳能电池，硅片涂覆型太阳能电池的生产不使用溅射靶材，晶体硅太阳能电池转化效率较高、性能稳定，且各个产业环节比较成熟，在太阳能电站等主流领域已经得到了广泛的应用，占据了太阳能电池市场的主导地位；

与晶体硅太阳能电池相比，薄膜太阳能电池大大减少了材料用量，从而大幅降低了制造成本和产品价格，同时，薄膜太阳能电池还具有制造温度低、应用范围大等特点，从市场前景来看，薄膜太阳能电池在光伏建筑一体化、大规模低成本发电站建设等方面比传统的晶体硅太阳能电池具有更加广阔的市场空间。

7、全球光伏累计装机容量不断增长，未来预计仍将保持稳定增长

根据IRENA数据显示，2011-2018年全球光伏累计装机容量维持稳定上升趋势，2018年为97.3GW，同比增长25.0%，据前瞻产业研究院预计，未来全球光伏累计装机容量还将会继续保持增长，2025年将会达到1722.1GW。

中国光伏累计装机容量已突破200GW，预计未来仍将保持高速增长。

2019年，受到政策的影响，国内新增装机容量为30.1GW。

根据CPIA的预测，2020年国内新增装机容量在保守情况下可达到49GW，在乐观情况下有望达到50GW。

太阳能光伏产业的快速发展给太阳能电池用溅射靶材市场带来了巨大的成长空间，预计太阳能电池用溅射靶材市场未来仍有望高速增长。

现今制备太阳能电池较为常用的溅射靶材包括铝靶、铜靶、钼靶、铬靶以及ITO靶、AZO靶（氧化铝锌，AluminumZincOxide）等，纯度要求一般在99.99%以上，其中，铝靶、铜靶用于导电层薄膜，钼靶、铬靶用于阻挡层薄膜，ITO靶、AZO靶用于透明导电层薄膜。

据智研咨询数据显示，2014年-2018年我国太阳能电池用溅射靶材市场规模从4.6亿元增至23.3亿元，每年增速维持在30%以上。

未来伴随光伏行业的增长以及薄膜电池产量的提升，太阳能用溅射靶材也有望保持较高速度的增长。

二、全球靶材市场主要由日美公司所掌控，市场集中度较高

1、高纯溅射靶材是典型的技术密集型产业，产品技术含量高，研发生产设备专用性强

随着半导体工业技术创新的不断深化，以美国、日本为代表的半导体厂商需要加强对上游原材料的创新力度，从而最大限度地保证半导体产品的技术先进性，因此，美国、日本的半导体工业相继催生了一批高纯溅射靶材生产厂商，并于当前居于全球市场的主导地位。

2、全球靶材市场主要由日美公司所掌控，市场集中度较高

日矿金属、霍尼韦尔、东曹、普莱克斯、住友化学、爱发科等资金实力雄厚、技术水平领先、产业经验丰富的跨国公司居于全球高纯溅射靶材行业的领导地位，属于溅射靶材的传统强势企业，凭借其强大的技术研发实力和市场影响力牢牢占据全球溅射靶材市场的绝大部分市场份额，2019年全球靶材市场CR4达80%，其中日矿金属是全球最大的靶材供应商，靶材销售额约占全球市场的30%，霍尼韦尔在并购JohnsonMattey、整合高纯铝、钛等原材料生产厂后，占到全球市场约20%的份额，此外，东曹和普莱克斯分别占20%和10%。

3、受到技术、资金和人才的限制，国内专业从事高纯溅射靶材的生产厂商数量仍然偏少，主要集中在低端产品领域进行竞争

国内市场中，高纯溅射靶材产业起步较晚，主要高纯溅射靶材生产企业均由国有资本和少数民营资本所投资。

经过数年的科技攻关和产业化应用，国内高纯溅射靶材龙头企业已经逐渐突破关键技术门槛，拥有了部分产品的规模化生产能力，整体实力不断增强，形成了以江丰电子、有研新材等为代表的专业从事高纯溅射靶材的生产商，正在经历高速发展时期，上升势头较快，打破了溅射靶材核心技术由国外垄断、产品供应完全需要进口的不利局面，不断弥补国内同类产品的技术缺陷，进一步完善溅射靶材产业发展链条，并积极参与国际技术交流和市场竞争。

4、国产替代进行时，国家战略扶植溅射靶材产业发展壮大

为了促进我国溅射靶材产业规模较快增长，增强技术创新能力，加速溅射靶材供应本土化进程，近年来，国家制定了一系列产业政策引导溅射靶材工业健康稳定发展，同时，国家高技术研究发展计划（简称“863计划”）、国家科技重大专项“极大规模集成电路制造设备及成套工艺”专项基金（简称“02专项”）、发改委的战略转型产业化项目都有针对性地把溅射靶材的研发及产业化列为重点项目。

国家产业政策、研发专项基金的陆续发布和落实，均为溅射靶材行业的快速发展营造了良好的产业环境，将有力地引导溅射靶材产业持续健康发展，进一步增强企业实力。

三、受益企业：

江丰电子

公司是国内最大的半导体芯片用溅射靶材生产商，重视研发，取得了一系列研发成果，核心技术达到国际先进水平，承担多个国家级研究课题，显示出公司强大的技术优势。

客户认证壁垒较高突显了客户资源的重要性，公司客户资源丰富优质，相比国内同行具有较高的护城河。

公司集成电路28-7nm技术节点靶材技术关键已经突破，同时除平板显示用产业化项目外，其他募集资金使用项目已完成，未来增长可期。