电子科大微机电系统MEMS概论课件第一章Word下载.docx

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第一章

微机电系统(MEMS概论内容提要

MEMS的基本概念,与宏观机电系统的对比特征ü

MEMS技术的发展过程与大致技术现状ü

MEMS典型产品的应用

一、MEMS的形成与发展

1、MEMS的形成基础

机械电子学——机械学、电子学、计算机技术交叉MEMS——机/电/磁/光/声/热/液/气/生/化等多学科交叉

学科交叉的产物MEMS

传热学

力学

电/磁学光学化学生物学量子力学声学

流体

一、MEMS的形成与发展

1、MEMS的形成基础

与机械电子学的关系

•基本组成相同

•不是简单的提升

定子转子

扭矩传

递齿轮

LIGA工艺生成的微马达

MEMS系统框图

MEMS的组成要素:

微型传感器、微执行器、信号处理控制电路、通信系统、微电子电源

2、MEMS的特点

MEMS的定义

America——它是由电子和机械元件组成的集成微器件、微系统,它是采用与集成电路(IC兼容的工艺制造的,可批量生产。

Japan——微型机械是由只有几毫米大小的功能元件组成的,它能够执行复杂细微的工作。

Europe——微结构产品具有微米级结构并具有微结构所提供的技术功能。

China——微机电系统是一种由微机械和微电子组成的装置,其中微机械被微电子锁控制。

MEMS——21世纪微型化的前沿技术

2、MEMS的特点

MEMS的内涵•“微Micro”——小尺寸,微结构

•“机Mechanical电Electro”——拓展向更多物理量的融合•“系统Systems”——结构,设备,系统水

电学电子信号/控制(输入/输出

机械学(输入/输出

机械功能尺度效应

MEMS——21世纪微型化的前沿技术

A.微型机械

B.普通机械

零件微小,加工装配困难、

难以商品化。

人工操控触及不到,具有微机械自动化特性;

不与外部直接耦合微型机械易受环境影响,对

外界空间要求小

尺寸效应会引起力的尺

寸效应

按照传统产品设计、加工装

配工艺流程组织生产

需要人直接参与操作,通

过输出功率与外界联系

对环境变化不敏感,需要

一定的外界空间条件

忽略尺寸效应影响

设计制作方法

控制方法、工

作方式

与环境的关系

尺寸效应

微型机械VS普通机械2、MEMS的特点

长度1/r(m-1

••••1m

1mm

1um

1nm

1

1,000

1,000,000

1,000,000,000

具体展开

ato

m

DN

A

virus

cel

l

________________________

MEMS

hair

MEMS微机电系统

Wa

terdrop

hu

ma

n

MEMS的尺寸

机械按其特征尺寸可以做如下划分:

小型机械:

1~10mm;

微型机械:

1μm~1mm;

纳米机械:

1nm~1μm;

目前比较公认的MEMS尺寸量级是0.01μm~1mm;

MEMS的特点

特殊性能为前沿目标

•以实现新功能、殊性能

•微米量级空间里实现机电功能,提升已有性能(包括微型化、集成化、高可靠性等

•采用微加工,形成类似IC的批量制造、低成本、低消耗特征MEMS——21世纪微型化的前沿技术

1.体积小、精度高、质量轻,尺寸可达10nm级;

2.性能稳定,可靠性高。

由于体积小,几乎不受热膨胀、噪声等因素影

响。

3.能耗低,灵敏性和工作效率高。

MEMS能耗为传统机械的1/10,工作速度

为传统机械的十倍。

4.多功能及智能化。

由于集成度高,所以智能化高。

5.制造成本低。

采用IC工艺,能在一块硅片上同时制造上千个MEMS装置。

TheENIACComputer第一台计算机,1946年笔记本电脑,1996年尺寸:

106倍减少

能力:

106倍提升

计算机50年之内的微型化技术掌上电脑,2001年

电子计算机的微型化过程

-Aremarkablecaseofminiaturization!

尺寸减少:

108倍

能力提升:

108倍

手机的进化过程——MarketDemandforIntelligent,Robusting,Smaller,Multi-FunctionalProducts10年前的手机:

现在的手机:

只收发语音

收发语音+多媒体+其他功能(视频-摄像,emails,日历,

上网,GPSandaPCwithkeypadinput

尺寸减少

掌上无线PC

Theonlysolutionistopackmanyminiature

functioncomponentsintothedevice

微型化过程的功能集成

起源RichardFeynman的挑战

There'

sPlentyofRoomattheBottom

历史贡献

•首次制作了微机电系统实物(1959年12月26日,加州理工学院•激发了日后微机电系统制造技术的创新

•未能从根本上形成一种新的制造技术

19471954

19581962

1988发明半导体晶体管发现压阻效应生产出半导体应变片

硅压力传感器问世德国研究出LIGA

工艺1993美国研制出静电马达

谐振栅场效应晶体管(1969年,美国西屋公司•基于新的微机电系统制造技术

采用批量蚀刻硅晶片制造压力传感器(1970年代

KurtPetersen首次提出利用硅作为微机电系统的结构材料(1982年

•获得了硅的材料属性和腐蚀刻数据

表面微加工多晶硅工艺的早期试验(1980年代•首枚静电梳状光盘驱动器执行器-微定位读写头

微加工技术迅速提升微电子行业生产率(1980年代末

•大量的实验和技术文档的散播,增进了公众对MEMS的兴趣

硬币

参照物:

米粒

米粒之物,也放光华

20世纪60年代,集成电路制造工艺,CD目前已达22nm,在1mm2内有若干个G以上容量的单元电路

体微加工、深槽加工技术发展,形成MEMS制造技术。

典型代表:

德国LIGA技术(X光深度同步辐射光刻,电铸制模和注模复制三个工艺步骤

MEMS与国家战略

1950年年代钱学森在西北工业大学所提的交叉学科概念ü

MEMS在我国/我校的情况

硅微型机械振动陀螺仪,指标漂移率0.1-10度/小时,最大冲击加速度>

500,带宽100HZ等.

3、MEMS的发展

MEMS发展的重要标志

•制作水平方面——微马达(静电

•应用水平方面——Lab-on-a-Chip、微飞行器、微机器人

表面微机械马达

SurfaceMicromachinedMotor

FanL-S,TaiY-CandMullerRS1988

Integrated

moveablemicromechanicalstructures

for

sensorsandactuatorsIEEETrans.

Electron

DevicesED-35724–30

旋转式静电微电机RotaryElectrostaticMicromotor

FanLong-Shen,TaiYu-ChongandMullerRS1989IC-processedelectrostaticmicromotorsSensorsActuators2041–

7BerkeleySensor&

ActuatorCenter

静电摆动微电机ElectrostaticWobbleMicromotor

BerkeleySensor&

比较:

微机电系统与尘螨EntertainmentforDustMites

MEMS与NEMS的关系

——概念延伸、MEMS工艺为基础、对象向生物化学扩展•生物微马达

•生物工程操作

•碳纳米管

MEMS发展面临的机遇和挑战•MEMS工艺的可重复性

•MEMS产品性能的稳定性和可靠性•MEMS产品的成品率

•MEMS产品的封装和测试

•MEMS器件与电路集成形成微系统

二、MEMS设计的基本问题q工程技术的三要素

时间过程

衣食

住行

精神信息

能量

物质

生活

需求

供给

MEMS目前阶段关键要素:

材料、工艺、结构

qMEMS设计要求和设计基本思想

要求——高性能/智能化/高效率/低成本/高可靠性ü

方法——设计中必须考虑

分系统设计层次

按信息流程

建立统一物理特征参量

q按系统设计层次考虑设计

功能——MEMS主功能含变换、传输、存储三方面。

为便于研究、分析、设计……

层次——分系统、子系统、元件(元素三层次。

子系统和元件(元素之间必须平稳可靠地输入/输出物质、能量、信息……

接口——

硬接口——以硬件形式。

分零接口/主动接口/被动接口/智能接口

软接口——对信息进行平稳的传递、变换、调

整。

例如平稳地输入输出规格、标准、程序、法律、符号等。

q按信息、物质、能量流程考虑设计

信息流程、能量流程的概念

智能化的作用、内部构造、信息流程(见书

q建立统一的物理特征参量

作用——对机、电、磁、热、流、光等不同物理现象作统一方法的描述,从而纳入统一模型中进行分析原理——各物理分支特征参量关系均遵从阻量、容量、惯量(感量作用的相似规律

方法——都参照于同一概念的物理特征参量——电描述,因其分析方法较为成熟方便

阻量=势能变化/速度、电流或流量的变化

容量=质量或位移变化/势能变化

惯量=势能变化/流量(速度或电流每秒的变化

三、MEMS的制造方法概述

MEMS与IC工艺追求不同

•从二维到“假三维”、“真三维”

•以IC平台发展起来为主,非IC工艺日渐丰富

MEMS与IC之间的主要差别

1IC本质上是平面器件,典型的MEMS不是;

2IC依赖于隐埋于IC表面之下的效应,而MEMS通常是表面效应器件;

3IC无活动的零部件,而典型的MEMS是活动器件;

4IC的制作工艺方式使得它在以大圆片形式流入小心控制的IC标准生产线之前对环境相对地不敏感,而大圆片形式的MEMS到它封装好之前对环境都非常敏感。

这就使得MEMS制造的每道后工序-划片、装架、引线制作、封装密封等都与IC不同且花费非常昂贵;

5IC器件主要是电信号,而MEMS器件有机械、光、电、多种信号;

6IC主要是表面加工工艺,而MEMS有多种加工工艺;

7IC主要是半导体材料,而MEMS有多种加工材料。

1、在IC加工平台上发展的工艺

q体微加工技术

§

湿法加工(化学

原理:

局部区域化的电解电池作用。

特点:

质量控制难,对腐蚀速度及腐蚀结构质量的影响因素多§

干法加工(物理/化学

离子轰击、腐蚀分子与硅衬底表面反应

分辨率高,各向异性腐蚀能力强,腐蚀选择比大,能进行自动化操作,设备与工艺成本高等

混合加工法

先进性在于制造新的微结构装置,如波导

q高深宽比批量复制微加工技术

——专为MEMS的LIGA系工艺(LIGA/准LIGA/DEM

LIGA=X射线光刻+电铸制模+注塑复制

德文lithographgalvanformungundabformug

深度可达数百至1000μm,

高宽比大于200

侧壁平行线偏离在亚微米范围内

利用微电铸和微塑铸可大规模生产

DEM技术=深层刻蚀(Deepetching+微电铸(Electroforming+微复制工艺(Microreplication

q表面微加工技术

表面微加工是在基体上连续淀积结构层、牺牲层和图形加工制备微器件。

其应用材料为多晶硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃等。

2、非IC工艺

•微细电火花

•约束化学加工

•激光微加工

•微注塑、模压加工

•激光微固化等

特点

•可实现二维半、真三维加工

•与超精密机械加工互相借鉴,具有更广应用范围

•与IC兼容性问题不利于目前在MEMS中的应用,需要解决

3、封装(键合、封装、检测

键合

•基本原理

•是封装的主要手段

封装对于IC、MEMS的重要性

四、MEMS的应用qMEMS实例

InertiaSensorforAutomobile“AirBag”DeploymentSystemMicroinertiasensor(accelerometerinplace:

Sensor-on-a-chip:

(thesizeofaricegrain(CourtesyofAnalogDevices,Inc

本章重点难点q重点:

微机电系统的发展过程、实际意义与典型应用q难点:

MEMS比宏观机电系统优越的基本原理,结合尺度效应理解;

MEMS发展与加工技术的关系。

q作业:

教材第368页第1题

本章学习要求•理解MEMS的基本概念,明确其与宏观机电系统的对比特征。

•了解MEMS技术的发展过程与大致技术现状。

•了解MEMS在军事、汽车、医学等重要领域中的应用,特别是一些典型产品。

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