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按照光的波动说:

缝光源A和B在空间中传播的电磁场分布值,不会随光源A或B的存在与否而变化,即从A和B所发出的光波在整个光路传播过程中是相互独立的。

这样,单缝场和被认为与双缝场和是相同的,如图一中(b)和(c)。

参见

(1)式。

图二干涉光的成像分离

我们在干涉区后增加一个正透镜,用于对逢AB进行成像,如图二。

这样单缝成像和双缝成像的像A`或B`位置和能量分布是不变的。

它们分别由和决定,也可以说由和决定。

但是,在实际中,像A`或B`的特性是变化的,

(1)式并不成立,即:

(3)

由于这种在干涉区内的电磁场分布发生了变化,导致像位置和能量分布是变化的,我们不妨将这种现象称之为“变场”。

这种变化量有多大?

下面的干涉光源的成像实验可以证明这种现象的存在。

在论述光学系统中干涉光源的成像问题之前,我们先回顾一下目前有关光学理论的成像原理。

二、物光源在共轴球面系统中的成像规律

图三双缝光源A和B成像光学图

物体或像箭头由纸面向上物体或像箭头向纸面里

按高斯光学,物空间中的一个点、一条直线或平面经光学系统后,在像空间中有其一一对应的点、线或面存在。

例如,有缝光源A、B和正透镜L组成一个成像光学系统,L的焦距为f[正透镜为圆形,在空气介质中],物、像距离正透镜L的物、像方主平面K和K’分别为u和v,如图三。

在图三中,缝A、B对称垂直于主光轴Z,但不与主光轴Z相交,且偏离主光轴Z都为d。

定义AB缝所在平面为Q面。

我们在Q面上建立x-y坐标系,y轴平行于光缝,x轴方向向纸外且垂直于主光轴Z,其坐标原点在主光轴Z与Q面的交点上,如图三中(a)。

在距正透镜主平面K前(左侧)s处取一平面P,P面与主光轴Z垂直,则P面到Q面的间距为。

在P面上建立x-y坐标系,如图三中(b),图中x轴方向向纸外,y轴平行于AB缝,并且方向相同,其原点在主光轴Z上。

同样,在像平面R上建立x-y坐标系,如图三中(c)。

我们将图中的物空间、像空间和正透镜区加以放大画出,各参量的关系如下:

(4)

(5)

u是物体(双缝光源AB)所在平面Q到物方主平面K的距离

v是像平面R到像方主平面K’的距离

f是正透镜L的焦距

h和H分别是物体的高度和像高度

d和D分别是物体和像偏离主光轴的距离

按照几何光学来说:

不论双缝光源A和B是相干光或非相干光,它们在像空间中所成像的特性[像位置和像的能量分布]不变,这是由光线传播过程中的三个基本定理决定的:

直线传播定理、独立传播定理、反射和折射定理。

另一方面,按照光的波动说:

缝光源A和B在物空间和像空间中传播的电磁场分布值,不会随光源A和B的相干性与否而变化,即从A和B所发出的光波在整个光路传播过程中是相互独立的,在空间任意一点的总场值是两者之和。

定义它们的各自波动方程为:

A缝光源的波动方程:

(6)

B缝光源的波动方程:

(7)

rA或rB是空间任意观测点到缝A或缝B的矢径

A(rA)和B(rB)是空间该观测点的场强,A(0)和B(0)是各自缝源的场强初值

是缝光源A和B的光波角频率,它们对应的波长为

k是波数

A和B是光波的初相角

设p(x,y)为P平面上任意一点,如图三中(b)。

那么,在近轴,且A=B=0的情况下,P面上两光源的波动方程由(6)和(7)式变为:

A缝光源在p(x,y)点的波动方程:

(8)

B缝光源在p(x,y)点的波动方程:

(9)

其中:

波函数EA(t)经正透镜L后,会在像空间的成像平面R上的xA处成倒像A’,像A’的特性只与(8)式有关,而与(9)式无关,如图三中(c);

同样波函数EB(t)在像空间R平面上的xB处成倒像B’,像B’的特性只与(9)式有关,而与(8)式无关。

重申:

(8)式和(9)式描述的场分布是相互独立的。

那么,在P面上的相干光EA和EB的相位差δ为:

(10)

Δ是光程差

当我们在P面上加入光阑,并限制部分EA和EB的能量通过后,EA和EB同样会在像空间内的R平面上xA、xB处成倒像A’和B’,这是由于光在传播过程中的独立性所决定的。

我们可以画出在Q面上AB缝光源的位置,如图四中(a)。

图四QPR平面上的光源图、干涉图和成像图

图中:

w为A和B的缝宽

h为A和B的缝高

2d为AB双缝内边间距,2d的中心在x-y坐标系的原点上

假设AB缝在P面的干涉条纹如图四中(b)。

x为相邻干涉极大值或极小值的间距

y为单亮纹或暗纹的高度

光阑的宽度为a,高度为b

图五P平面上的电磁场强度分布图

我们可以画出相干光缝AB在P面x轴上的电磁场功率密度分布图,如图五中(a)。

在图中,画出了x和光阑的宽边位置。

在光阑的b>y和a>nx(n是可观测干涉条纹个数。

在图四中,我们取n=5)的条件下,AB对应的成像图如图四中(c)。

W为像A’和B’的像宽

H为像A’和B’的像高

xA和xB为像A’的左边位置和B’的右边位置

2D为双像A’B’的内边间距,

由于电磁场EA[或EB]在传播过程中的独立性,见(8)式[或(9)式]。

因此,当我们遮挡缝B时,缝A在Q面、P面和R面的条纹如图六中的(a)、(b)和(c)。

我们在P面上会观测到缝A对应的连续光带。

图六单逢A的QPR面上亮暗条纹图

当我们遮挡缝A时,缝B在Q面、P面和R面的条纹类似如图六中的(a)、(b)和(c)。

图七窄光阑时,QPR平面上的光源图、干涉图和成像图

那么,当我们减小光阑的宽度a=nx[在这里,我们取n=3],并使a>

>

λ(光波长),而高度b不变时,双缝AB的干涉QPR图的结果如图七。

由于光阑的作用,光阑与R面组成一个相当于夫琅和费单缝衍射。

这样,单缝A或B在R面上各自的光纹宽度为:

(11)

W是成像光条A’(或B’)两边的光强零值到零值的宽度

λ是光波波长,对应的角频率为ω

a是光阑的宽度

w是缝A(或B)的缝宽

u和v分别是Q面到主平面K和R面到主平面K’的距离

(11)式说明:

在有光阑存在时,在R面上衍射成像条纹的宽度要大于无光阑时的成像条纹宽度。

如图七中(c)所示。

光阑衍射的三个次极大光强为:

,,

I0是衍射中心光强极大值。

当时,(11)式就变为成像放大公式:

(12)

我们可以看出(12)式与(5)式相一致。

在单缝A或B成像情况下,其结果与图六类似,不再画出,只是像A’和B’条纹的宽度增加了,如(11)式。

我们可以画出相干光缝AB在P面x轴上的电磁场强度图,如图五中(b)。

注意:

我们可以选择适当的f、a、v和u值,使成像条纹A’和B’不相重合,即,使光阑的宽度a和像A’B’的间距2D足够大,让像A’的光强主极大值对像B’无影响,反之依然。

在下面的讨论中,都满足以上条件,我们忽略光强的次极部分,而不再考虑它们的相互影响。

这样,不论是单缝成像或双缝成像,我们都有如下的结论:

像A’的场分布值域范围都为:

(13-1)

像B’的场分布值域范围都为:

(13-2)

为固定不变域。

三、干涉光在窄光阑成像中的悖论

上面是从目前的理论框架下得出的结论。

现在,我们可以从理论上推导出一个悖论。

在P面上,我们在习惯上只关心光强度的相对值,因此将同一介质中描述电磁场的系数略去。

单缝A和B在P面x轴上的光辐照度(光强)和为:

(非相干情况下)

AP是逢光源投射在P面上的振幅[在近轴Z情况下]

图八功率密度和功率图

光强IS代表逢光源A和B发射出的总功率之和,如图八中(a)。

我们只求单缝A和B投射在P面[0,x]之间的光功率之和为:

(14)

S是积分面积,。

ES如图八中(b)。

如果A和B缝在R面成像,则(14)式也是R面上像A’B’的功率和。

当x=L时,(14)式变为:

(15)

在另一种情况下──在双缝干涉情况下,干涉光在P面x轴上的光强为:

(相干情况下)(16)

,见(10)式。

由于,,我们有:

是P面与Q面之间的距离

2d是缝AB间距

λ是相干光的波长

那么,(16)式变为:

光强ID如图八中(a)。

当ID=IS时,可以解得。

我们求相干光在[0,x]之间的功率之和为:

(17)

ED如图八中(b)。

那么,我们取(17)式与(14)式之比为:

(18)

我们将B与x之间的关系绘于图九中(a)。

我们有;

上式说明:

以L为周期,相干与非相干光在[n,(n+1)L]区段内的功率积分是相等的(n∈整数)。

图九功率比值与功率总和

图十干涉区中的透光光阑位置

如果场EA(t)和EB(t)在空间中的传播是独立的,即不随单缝或双缝的成像条件变化而改变,那么,取光阑缝的位置为,其中:

成立,如图十。

我们可以求得对应光功率成像在R面上之和为:

(19)

是P面光阑区的积分面积,。

即在R面上的像功率和等同于电磁场分别穿过P面光阑所对应分量的功率和,(19)式既适用于单缝成像,也适用于双缝成像的条件。

这样,在双缝干涉成像,并取光阑的位置取为时,我们计算在P面上之间的功率与像A’B’的功率和为:

(20)

将E(x)画于图九中(b)。

那么,当我们考察的时,有:

(21)

我们会得到这样的结论:

当光阑缝取为,即时,能量E(x)将最大限度地大于由AB缝发出的总能量之和ESL,能量有“超生”现象!

其超出的功率如图九中(b)的阴影部分。

同样地,当我们取光阑缝为时,会得出能量“隐含”的现象!

但是,实际情况并非如此,这是一个悖论!

问题出在哪?

那么,我们以实验来测量(13)式的结果,以判断像A’B’的域值范围。

四、干涉光的窄光阑成像实验

我们用实验来观测上面的结论,可以得到一个新现象。

在双缝平面Q上的左侧沿中轴Z放置一个半导体激光器Las,其光束的发散角近似为零,波长为λ=750nm。

半导体激光器Las使用恒流源IL为驱动。

我们在Q面上安装一个档片,它可以在Q面上沿x方向左右移动,以遮挡缝A或B,可以完成单缝或双缝成像的选择,如图十一。

我们在干涉面P上取部分光阑的透光区进行成像。

我们在成像面R上沿x轴上放置一个线阵ICCD接收单元,共有2048个光电单元,以测量倒像A’和B’在x轴向上的位置和能量分布状况。

图十一激光器Las和Q面上的档片

图十二ICCD采用原理框图和电路原理图

(a)原理框图(b)部分主要电路图

ICCD的输出电压再经放大器Ampl和A/D转换后,得到数据Da,电路的原理框图和部分电路图如图十二。

实验条件:

u是物方距离,u=131.1cm

v是像方距离,v=233.5cm

w是A和B的缝宽,w=0.1mm

f是正透镜的焦距,f=1.0m

h和H分别是缝AB的高度和像高度,h=1.0mm,H=45mm

d和D分别是缝AB物体和像偏离主光轴Z的距离,2d=0.70.8mm,2D=1.52.0mm

x为干涉面上相邻极大值或极小值的间距,x=1.1mm

实验测量的过程如下:

用ICCD测双缝A’B’像为曲线测单缝A’像为曲线测单缝B’像为曲线移去R面上的挡片后,再测双缝A’B’像为曲线,以这个测量循环作为一组数据,则记录测量结果如下:

1.当a=1.5x时,相干光的成像结果

⑴当相干光的暗纹在光阑中间时。

在这种情况下,测量到ICCD的数据如图十三。

(a)图的曲线是双缝A’B’的像。

(b)图的曲线是单缝A’的像。

(c)图的曲线是单缝B’的像。

(d)图的曲线是再测双缝A’B’的像。

(e)图是曲线和合并。

(f)图是曲线和合并。

我们画出图(e)和(f),是为了比较曲线方便。

图十三光阑的宽度a=1.5x,相干光的暗纹在光阑中心

⑵当相干光的明纹在光阑中间时。

测量到ICCD的数据如图十四。

图(a)至(f)定义同上。

图十四光阑的宽度a=1.5x,相干光的明纹在光阑中心

2.当a=2.0x时,相干光的成像结果

在这种情况下,测量到ICCD的数据如图十五。

测量到ICCD的数据如图十六。

图(a)至(f)定义同上。

3.当a=3.0x时,相干光的成像结果

图十六光阑的宽度a=2.0x,相干光的明纹在光阑中心

在这种情况下,测量到ICCD的数据如图十七。

图十五光阑的宽度a=2.0x,相干光的暗纹在光阑中心

测量到ICCD的数据如图十八。

由以上三组数据,我们可以得到以下三点:

.曲线、与的能量分布位置不同。

.曲线的峰值位置与光阑的宽度和位置有关。

.当暗纹在光阑中心时,曲线的峰值间距2DL与明纹在光阑中心时的峰值间距2DH之差最大,即:

(22)

如图十三和十八中(a)所示。

这三组数据对应的值见表一。

其相对变化量R为:

(23)

图十八光阑的宽度a=3.0x,相干光的明纹在光阑中心

图十七光阑的宽度a=3.0x,相干光的暗纹在光阑中

这两组数据对应的R值见表一。

表一不同光阑位置下的成像能量峰值的变化量

第一组数据第二组数据第三组数据

峰值变化量的绝对值1.3mm0.5mm0.4mm

峰值变化量的相对值R78.72017

如果采样一个长焦距、多透镜的组合成像系统,来代替正透镜L和成像区,我们会得到更好的实验结果,如图十九。

通过这种成像分离方法,使我们可以看到实测值与(13)式有>

17的偏差。

实验结果说明:

在P面上光阑区的场EA(t)和EB(t)分布已发生变化,不在由(8)式和(9)式描述,即单缝时A的场分布不同于双缝时A的场分布,同样单缝时B的场分布不同于双缝时B的场分布!

我们不妨称这种场分布的变化为“变场”现象。

图十九改进的相干光成像实验方案

这是一种值得再探讨的新现象。

五、微观世界中的幽灵

波粒矛盾仍然是科学界十分关注的问题之一,它引发出一系列争论与矛盾,波粒二难问题的起源是人们对光本性的不同认识。

在经典物理学中,波和粒子是两个尖锐对立的、互不相容的概念。

所谓粒子性是指物质的质量、能量在空间的集中,物质有明显的界面和精确的空间位置,其运动有一定的轨迹,不同粒子相遇时发生碰撞,并具有不可入侵性等等。

所谓波动性是指物质的能量在空间连续分布、传播和扩散,物质的运动状态和空间分布状态的变化呈现周期性,不同的波相遇遵循迭加原理,没有不可入侵性等等。

在杨氏干涉实验中,如图一。

光源的光束通过屏幕Q上的两个狭缝后,投射在干涉屏幕P上形成干涉条纹。

在屏幕P上,当某点的两束光是同步时,形成亮纹;

当某点的两束光是异步时,形成暗纹。

在这个实验中,即使光源的光强减弱到按一个光子接一个光子发射时,尽管任何一个光子只能通过屏幕Q上的两个狭缝中的一个,并且它也没有邻近的光子可与其进行同步或异步干涉,但是,在足够长时间积累后,我们仍能在相干区P内得到相干条纹,而非两个单缝图象的简单叠加。

令人难解的是,一个光子是如何判断在实验中使用的是双缝还是单缝呢?

且如何进行自我干涉?

在量子论中,按照几率波的诠释:

量子粒子在空间不是有确定的路线,而是同时通过无限多条路径。

这些路径通过双缝孔后,在相干区内相互作用,从而使量子粒子能够“察觉出”我们是在做双缝实验还是单缝实验。

粒子的几率波在传播过程中充斥了整个实验空间,当一个观察者进行测量时,几率波“缩编”到相干区内某个量子态,才完成一个光子的传递过程,这种将人类精神或认识的属性置于物理学在微观世界中有重要地位,是量子学为我们提供了在微观与宏观图象之间的不同之处。

六、结论

通过这种成像分离方法,使我们可以看到成像能量分布的位置出现变动。

实验结果说明前述的(3)式成立,

(1)式不成立!

而干涉光在窄光阑成像中的悖论也是在

(1)式成立的前提条件下得出!

对于这个实验,我把它公布于世,就是希望其他人也能去重复做它,以验证实验的正确性。

如果这个世界上的任何人,在任何地点和任何时间下,都与我的实验结论相同或相近。

那么,这个实验才是正确的,才是真正有意义的一件事。

这种变场效应是一种值得再探讨的新现象。

它能为我们带来什么新概念,我们将拭目以待。

参考文献:

尹学志,申先甲,《科学悖论集》,湖南科学技术出版社,98年

[英]戴维斯,布朗,《原子中的幽灵》,湖南科学技术出版社,92年

Abstract:

InthispaperanimagingsystemcanbeusedtoseparatetheinterferencebeaminThomasYoungInterferenceExperiments.Thenwewillobservethechangeinthepositionandenergydistributionofimagery.Thisisanewphenomenontobediscussed.

Keywords:

Interference,Imagery,Separation.

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