电子显微分析试题集CSUkey.docx

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电子显微分析试题集CSUkey

一、名词解释

1、球差:

由于电子透镜中心区域和边缘区域对电子会聚能力不同而造成的

2、色差：

是电子能量不同，从而波长不一造成的

3、景深：

在保持像清晰的前提下，试样在物平面上下沿镜轴可移动的距离

4、焦深：

在保持像清晰的前提下，象平面上下沿镜轴可移动的距离

5、分辨率：

指所能分辨开来的物面上两点间的最小距离

6、衬度：

像面上相邻部分间的黑白对比度或颜色差

7、明场像：

让透射束通过物镜光阑所成的像

8、暗场像：

仅让衍射束通过光阑所成的像

9、消光距离：

描述电子束强度在由极大到极小又到极大完成一变化周期沿入射方向所经历的距离

10、菊池花样：

由亮暗平行线对组成的一种花样，由经过非弹性散射失去很少的能量的电子随后又与一组反射面满足布拉格定律发生弹性散射产生的。

11、衍射衬度：

由于晶体薄膜的不同部位满足布拉格衍射条件的程度有差异而引起的衬度

12、双光束条件：

电子束穿过样品后，除透射束外，只存在一束较强的衍射束精确的符合布拉格条件，其他大大偏离布拉格条件，结果衍射花样除了透射斑外，只有一个衍射斑强度较大，其他衍射斑强度基本忽略，这种情况为双光束条件

13、电子背散射衍射：

在扫描电子显微镜中，利用非弹性散射的背散射电子与晶体衍射后，在样品的背面得到的菊池衍射结果

14、二次电子：

被入射电子轰击出来的离开样品表面的核外电子

15、背散射电子：

指被固体样品原子反弹回来的一部分入射电子，其中包括弹性散射电子和非弹性散射电子

二、简答

1、透射电镜主要由几大系统构成?

各系统之间关系如何?

四大系统:

电子光学系统,真空系统,供电控制系统,附加仪器系统。

其中电子光学系统是其核心，提供电子束并与试样发生相互作用。

其他系统为辅助系统。

2、照明系统的作用是什么?

它应满足什么要求?

照明系统由电子枪、聚光镜和相应的平移对中、倾斜调节装置组成。

它的作用是提供一束亮度高、照明孔经角小、平行度好、束流稳定的照明源。

它应满足明场和暗场成像需求。

3、成像系统的主要构成及其特点是什么?

试样室，物镜，中间镜，投影镜

物镜：

强励磁短焦透镜。

中间镜：

弱磁长焦的透镜。

投影镜：

短焦、强磁透镜

4、分别说明成像操作与衍射操作时各级透镜（像平面与物平面）之间的相对位置关系，并画出光路图。

答：

如果把中间镜的物平面和物镜的像平面重合，则在荧光屏上得到一幅放大像，这就是电子显微镜中的成像操作，如图（a）所示。

如果把中间镜的物平面和物镜的后焦面重合，则在荧光屏上得到一幅电子衍射花样，这就是电子显微镜中的电子衍射操作，如图（b）所示。

5、射花样的特征及形成原理。

答：

单晶花样是一个零层二维倒易截面，其倒易点规则排列，具有明显对称性，且处于二维网络的格点上。

因此表达花样对称性的基本单元为平行四边形。

单晶电子衍射花样就是（uvw）*0零层倒易截面的放大像。

多晶面的衍射花样为：

各衍射圆锥与垂直入射束方向的荧光屏或照相底片的相交线，为一系列同心圆环。

每一族衍射晶面对应的倒易点分布集合而成一半径为1/d的倒易球面，与Ewald球的相惯线为园环，因此，样品各晶粒{hkl}晶面族晶面的衍射线轨迹形成以入射电子束为轴、2q为半锥角的衍射圆锥，不同晶面族衍射圆锥2q不同，但各衍射圆锥共顶、共轴。

非晶的衍射花样为一个圆斑。

6、薄膜样品的基本要求是什么?

具体工艺过程如何?

双喷减薄与离子减薄各适用于制备什么样品?

答：

样品的基本要求：

1）薄膜样品的组织结构必须和大块样品相同，在制备过程中，组织结构不变化；

2）样品相对于电子束必须有足够的透明度

3）薄膜样品应有一定强度和刚度，在制备、夹持和操作过程中不会引起变形和损坏；

4）在样品制备过程中不允许表面产生氧化和腐蚀。

样品制备的工艺过程

1）切薄片样品2）预减薄3）终减薄

离子减薄：

1）不导电的陶瓷样品

2）要求质量高的金属样品

3）不宜双喷电解的金属与合金样品

双喷电解减薄：

1）不易于腐蚀的裂纹端试样

2）非粉末冶金试样

3）组织中各相电解性能相差不大的材料

4）不易于脆断、不能清洗的试样

7、什么是衍射衬度?

它与质厚衬度有什么区别?

衍射衬度：

主要是由于晶体试样满足布拉格反射条件程度差异以及结构振幅不用而形成电子图像反差。

质厚衬度：

由于试样的质量和厚度不同，各部分对入射电子发生相互作用，产生的吸收与散射程度不同，而使得透射电子束的强度分布不同，形成反差，称为质厚衬度。

与质厚衬度的差别：

1.质厚衬度建立在对原子散射的理论基础上，衍射衬度是利用电子通过不同位相晶体的衍射成像原理获得的，利用了布拉格衍射；

2.质厚衬度利用样品薄膜厚度差别和平均原子序数差别获得衬度，衍射衬度利用不同的晶体学位相获得；

3.质厚衬度应用于非晶体，衍射衬度适用于晶体。

8、图说明衍衬成像原理，并说明什么是明场像、暗场像和中心暗场像。

答：

设薄膜有A、B两晶粒

B内的某（hkl）晶面严格满足Bragg条件，或B晶粒内满足“双光束条件”，则通过（hkl）衍射使入射强度I0分解为Ihkl和IO-Ihkl两部分

A晶粒内所有晶面与Bragg角相差较大，不能产生衍射。

在物镜背焦面上的物镜光阑，将衍射束挡掉，只让透射束通过光阑孔进行成像（明场），此时，像平面上A和B晶粒的光强度或亮度不同，分别为

IA»I0

IB»I0-Ihkl

B晶粒相对A晶粒的像衬度为

明场成像：

只让中心透射束穿过物镜光栏形成的衍衬像称为明场镜。

暗场成像：

只让某一衍射束通过物镜光栏形成的衍衬像称为暗场像。

中心暗场像：

入射电子束相对衍射晶面倾斜角，此时衍射斑将移到透镜的中心位置，该衍射束通过物镜光栏形成的衍衬像称为中心暗场成像。

9．什么是消光距离?

影响晶体消光距离的主要物性参数和外界条件参数是什么?

消光距离:

由于透射波和衍射波强烈的动力学相互作用结果，使I0和Ig在晶体深度方向上发生周期性的振荡，此振荡的深度周期叫消光距离。

影响因素:

晶胞体积,结构因子,Bragg角,电子波长。

10、衍衬运动学理论的最基本假设是什么？

怎样做才能满足或接近基本假设？

答：

1）入射电子在样品内只可能受到不多于一次散射

2）入射电子波在样品内传播的过程中，强度的衰减可以忽略，这意味着衍射波的强度与透射波相比始终是很小。

可以通过以下途径近似的满足运动学理论基本假设所要求的实验条件：

1）采用足够薄的样品，使入射电子受到多次散射的机会减少到可以忽略的程度。

同时由于参与散射作用的原子不多，衍射波强度也较弱。

2）让衍射晶面处于足够偏离布拉格条件的位向，即存在较大的偏离，此时衍射波强度较弱。

11、举例说明理想晶体衍衬运动学基本方程在解释衍衬图像中的应用。

（等厚，等倾）

12、什么是缺陷不可见判据?

如何用不可见判据来确定位错的布氏矢量?

答：

缺陷不可见判据是指：

。

确定位错的布氏矢量可按如下步骤：

找到两个操作发射g1和g2，其成像时位错均不可见，则必有g1·b＝0，g2·b＝0。

这就是说，b应该在g1和g2所对应的晶面（h1k1l1）he（h2k2l2）内，即b应该平行于这两个晶面的交线，b＝g1×g2，再利用晶面定律可以求出b的指数。

至于b的大小，通常可取这个方向上的最小点阵矢量。

13．写出电子束入射固体晶体表面激发出的三种物理信号，它们有哪些特点和用途?

背散射电子:

能量高；来自样品表面几百nm深度范围；其产额随原子序数增大而增多.用作形貌分析、成分分析以及结构分析。

二次电子:

能量较低；来自表层5－10nm深度范围；对样品表面状态十分敏感.不能进行成分分析.主要用于分析样品表面形貌。

吸收电子:

其衬度恰好和SE或BE信号调制图像衬度相反;与背散射电子的衬度互补.吸收电子能产生原子序数衬度，即可用来进行定性的微区成分分析.

透射电子：

透射电子信号由微区的厚度、成分和晶体结构决定.可进行微区成分分析.

特征X射线:

用特征值进行成分分析，来自样品较深的区域

俄歇电子:

各元素的俄歇电子能量值低；来自样品表面1－2nm范围。

适合做表面分析.

14、扫描电镜的成像原理与透射电镜有何不同?

扫描电镜的成像原理，和透射电镜大不相同，它不用电磁透镜来进行放大成像，而是象电视系统那样，逐点逐行扫描成像

扫描电子显微镜（SEM）：

利用细聚焦电子束在样品表面逐点扫描，与样品相互作用产生各种物理信号，这些信号经检测器接收、放大并转换成调制信号，最后在荧光屏上显示反映样品表面各种特征的图像。

透射电子显微镜（TEM）：

入射电子束透射试样后，将与试样内部原子发生相互作用，使其能量及运动方向发生了改变。

由于试样各部位的组织结构不同，因而透射到荧光屏上的各点强度是不均匀的，这种强度的不均匀分布现象称为衬度，所获得的电子象称为透射电子衬度象。

电子探针（EPMA）：

主要功能是进行微区成分分析。

原理：

用细聚焦电子束入射样品表面，激发出样品元素的特征X射线，分析特征X射线的波长（或能量）可知元素种类；分析特征X射线的强度可知元素的含量。

15．二次电子像和背散射电子像在显示表面形貌衬度时有何相同与不同之处?

都可用于表面形貌分析，但BE还可用于结构和成分分析

用BE进行形貌分析时，其分辨率远比SE像低。

BE能量高，以直线轨迹逸出样品表面，对于背向检测器的样品表面，因检测器无法收集到BE而变成一片阴影，因此，其图象衬度很强，衬度太大会失去细节的层次，不利于分析。

因此，BE形貌分析效果远不及SE，故一般不用BE信号。

16．当电子束入射重元素和轻元素时，其作用体积有何不同?

各自产生的信号的分辨率有何特点?

（书上有有一个水滴状图示，是与表层深度有关的）可以见后面补充3题

入射轻元素的作用体积大。

二次电子分辨率高于背散射电子，因为背散射电子的作用体积大，有效束斑直径大，分辨率低

17．二次电子像景深很大；样品凹坑底部都能清楚地显示出来，从而使图像的立体感很强，其原因何在?

因为背离探测器的二次电子也能够被探测器接受到，因此二次电子像显示细节的能力好。

二次电子能量低，其运动轨迹可呈曲线，故凹坑也能显示。

答：

二次电子像立体感很强这是因为1）凸出的尖棱，小粒子以及比较陡的斜面处SE产额较多，在荧光屏上这部分的亮度较大。

2）平面上的SE产额较小，亮度较低。

3）在深的凹槽底部尽管能产生较多二次电子，使其不易被控制到，因此相应衬度也较暗。

18.要在观察断口形貌的同时，分析断口上粒状夹杂物的化学成分，选用什么仪器?

用怎样的操作方式进行具体分析?

能谱仪，对样品表面没有要求；先用扫描电镜看断口形貌，打点测成分。

19．举例说明电子探针的三种工作方式（点、线、面）在显微成分分析中的应用。

（1）.定点分析：

将电子束固定在要分析的微区上用波谱仪分析时，改变分光晶体和探测器的位置，即可得到分析点的X射线谱线；

用能谱仪分析时，几分钟内即可直接从荧光屏（或计算机）上得到微区内全部元素的谱线。

（2）.线分析：

将谱仪（波、能）固定在所要测量的某一元素特征X射线信号（波长或能量）的位置把电子束沿着指定的方向作直线轨迹扫描，便可得到这一元素沿直线的浓度分布情况。

改变位置可得到另一元素的浓度分布情况。

（3）.面分析：

电子束在样品表面作光栅扫描，将谱仪（波、能）固定在所要测量的某一元素特征X射线信号（波长或能量）的位置，此时，在荧光屏上得到该元素的面分布图像。

改变位置可得到另一元素的浓度分布情况。

也是用X射线调制图像的方法。

20.电子探针仪与扫描电镜有何异同?

电子探针仪如何与扫描电镜和透射电镜配合进行组织结构与微区化学成分的同位分析?

相同点：

镜筒和样品室一样；都是利用电子束轰击样品表面产生物理信号进行分析。

不同点：

1.前者利用X射线为检测信号，后者可以检测多种信号。

2.前者得到的是元素分布图像，用于成分分析，后者得到的是表面形貌图像，用于形貌分析

21、波谱仪和能谱仪？

说明其工作的三种基本方式，并比较波谱仪和能谱仪的优缺点。

答：

波谱仪：

用来检测X射线的特征波长的仪器

能谱仪：

用来检测X射线的特征能量的仪器

优点:

1）能谱仪探测X射线的效率高。

2）在同一时间对分析点内所有元素X射线光子的能量进行测定和计数，在几分钟内可得到定性分析结果，而波谱仪只能逐个测量每种元素特征波长。

3）结构简单，稳定性和重现性都很好

4）不必聚焦，对样品表面无特殊要求，适于粗糙表面分析。

缺点：

1）分辨率低.

2）能谱仪只能分析原子序数大于11的元素；而波谱仪可测定原子序数从4到92间的所有元素。

3）能谱仪的Si（Li）探头必须保持在低温态，因此必须时时用液氮冷却。

22.某多晶体的电镜衍射图中，有八个衍射环，R从小到大读数依次等于6．28、7．27、10．29、12．05、12．57、14．62、15．87、16．31mm，若该晶体属于立方晶系，能否判断该样品的点阵类型?

3:

4:

8:

11fcc

23.透射电镜的电子光学系统（镜筒）包括哪几个部分，分别指出电子枪、聚光镜、物镜、中间镜、投影镜和照相机各属于哪个部分；指出物镜光阑和选区光阑所在的位置。

电子光学系统：

照明系统、成像放大系统、显像系统。

前两个属于照明系统，中间三个属于成像系统，最后一个属于显像系统。

物镜光阑位于物镜后焦面，选区光阑位于物镜像平面上。

24.电磁透镜的像差包括哪几种，分别说明它们产生的原因及消除的方法。

答：

像差分为球差,像散,色差.

球差是磁透镜中心区和边沿区对电子的折射能力不同引起的.增大透镜的激磁电流，减小孔径角

像散是由于电磁透镜的周向磁场不非旋转对称引起的.可以通过引入一强度和方位都可以调节的矫正磁场来进行补偿.（用消象散器进行校正）

色差是电子波的波长或能量发生一定幅度的改变而造成的.稳定加速电压和透镜电流可减小色差.

25.透射电镜中有哪些主要光阑，在什么位置？

其作用如何？

答：

主要有三种光阑：

①聚光镜光阑。

在双聚光镜系统中,该光阑装在第二聚光镜下方。

作用:

限制照明孔径角。

②物镜光阑。

安装在物镜后焦面。

作用:

提高像衬度；减小孔径角，从而减小像差；进行暗场成像。

③选区光阑:

放在物镜的像平面位置。

作用:

对样品进行微区衍射分析。

26.试画一张含有空洞、位错、层错（倾斜）和晶界的多晶薄膜衍衬像。

27.试分析位错线像总是出现在它的实际位置的一侧或另一侧的成因。

当衍射条件使基体偏离布拉格条件时（存在偏离矢量时），刃位错中多余半原子面的位向应该与基体相同，因而它并不满足布拉格条件。

而在位错的应变场中，有一个相当宽的范围内，晶面接近满足布拉格条件，接近产生衍射带。

因此在明场像下，这一个宽的衍射带实际上就是我们看到的暗的位错线。

因此这样的位错线往往看起来是很粗的，大约有80~120埃。

另外，位错像距离位错的真实位置也会比较远，大约在80~100埃。

补：

1、某一粉末相上背射区线条与透射区线条比较起来，其θ较高抑或较低？

相应的d较大还是较小？

答：

背射区线条与透射区线条比较θ较高，d较小。

产生衍射线必须符合布拉格方程2dsinθ=λ，对于背射区属于2θ高角度区，根据d=λ/2sinθ，θ越大d越小。

3、扫描电镜的分辨率受哪些因素影响?

给出典型信号成像的分辨率，并说明原因。

答：

影响因素:

电子束束斑大小,检测信号类型,检测部位原子序数.

信号二次电子背散射电子吸收电子特征X射线俄歇电子

分辨率5～1050～200100～1000100～10005～10

入射电子在被样品吸收或散射出样品表面之前将在这个体积中活动。

对轻元素，电子束与样品作用产生一个滴状作用体积。

AE和SE因其本身能量较低，平均自由和平度很短，因此，

俄歇电子的激发表层深度：

0.5～2nm，激发二次电子的层深：

5～10nm，在这个浅层范围，入射电子不发生横向扩展，因此，AE和SE只能在与束斑直径相当的园柱体内被激发出来，因为束斑直径就是一个成象检测单元的大小，所以它们的分辨率就相当于束斑直径。

BE在较深的扩展体积内弹射出，其分辨率大为降低。

X射线在更深、更为扩展后的体积内激发，那么其分辨率比BE更低。

因为SE或AE信号的分辨率最高，因此，SEM的分辨率是指二次电子像的分辨率。

对重元素样品，作用体积为“半球状”，因此分辨率较低，BE和SE分辨率差明显变小。

4、二次电子（SE）信号主要用于分析样品表面形貌，说明其衬度形成原理。

成像原理为：

二次电子产额对微区表面的几何形状十分敏感。

如图所示，随入射束与试样表面法线夹角增大，二次电子产额增大。

因为电子束穿入样品激发二次电子的有效深度增加了，使表面5-10nm作用体积内逸出表面的二次电子数量增多。

5、何为偏离参量S？

试分别画出s+g=s-g，s+g=0以及s+g>0时产生电子衍射的厄瓦尔德球构图。

答：

偏离矢量:

偏离θ时，倒易杆中心至爱瓦尔德球面交截点的距离

下图为s=0，s<0,s.>0三种情况下的爱瓦尔德球图。

6、请说明孪晶的一般衬度特征。

答：

孪晶的衬度特征是：

孪晶的衬度是平直的，有时存在台阶，且晶界两侧的晶粒通常显示不同的衬度，在倾斜的晶界上可以观察到等厚条纹。

7、磁透镜的像差是怎样产生的?

如何来消除和减少像差?

答：

像差分为球差,像散,色差.

球差是磁透镜中心区和边沿区对电子的折射能力不同引起的.增大透镜的激磁电流可减小球差.

像散是由于电磁透镜的周向磁场不非旋转对称引起的.可以通过引入一强度和方位都可以调节的矫正磁场来进行补偿.

色差是电子波的波长或能量发生一定幅度的改变而造成的.稳定加速电压和透镜电流可减小色差.

8、别从原理、衍射特点及应用方面比较X射线衍射和透射电镜中的电子衍射在材料结构分析中的异同点。

答：

原理:

X射线照射晶体，电子受迫振动产生相干散射；同一原子内各电子散射波相互干涉形成原子散射波；晶体内原子呈周期排列，因而各原子散射波间也存在固定的位相关系而产生干涉作用，在某些方向上发生相长干涉，即形成衍射。

特点:

1）电子波的波长比X射线短得多

2）电子衍射产生斑点大致分布在一个二维倒易截面内

3）电子衍射中略偏离布拉格条件的电子束也能发生衍射

4）电子衍射束的强度较大，拍摄衍射花样时间短。

应用：

硬X射线适用于金属部件的无损探伤及金属物相分析，软X射线可用于非金属的分析。

透射电镜主要用于形貌分析和电子衍射分析（确定微区的晶体结构或晶体学性质）

9、说明透射电子显微镜成像系统的主要构成、安装位置、特点及其作用。

答：

主要由物镜、物镜光栏、选区光栏、中间镜和投影镜组成.

1）物镜：

强励磁短焦透镜（f=1-3mm）,放大倍数100—300倍。

作用：

形成第一幅放大像

2）物镜光栏：

装在物镜背焦面，直径20—120um，无磁金属制成。

作用：

a.提高像衬度，b.减小孔经角，从而减小像差。

C.进行暗场成像

3）选区光栏：

装在物镜像平面上，直径20-400um，

作用：

对样品进行微区衍射分析。

4）中间镜：

弱压短透镜，长焦，放大倍数可调节0—20倍

作用a.控制电镜总放大倍数。

B.成像/衍射模式选择。

5）投影镜：

短焦、强磁透镜，进一步放大中间镜的像。

投影镜内孔径较小，使电子束进入投影镜孔径角很小。

小孔径角有两个特点：

a.景深大，改变中间镜放大倍数，使总倍数变化大，也不影响图象清晰度。

焦深长，放宽对荧光屏和底片平面严格位置要求。

10、什么是双光束衍射？

电子衍衬分析时，为什么要求在近似双光束条件下进行？

案答：

双光束衍射:

倾转样品，使晶体中只有一个晶面满足Bragg条件，从而产生衍射，其它晶面均远离Bragg位置，衍射花样中几乎只存在大的透射斑点和一个强衍射斑点。

原因：

在近似双光束条件下，产生强衍射，有利于对样品的分析

11、分析电子衍射与x射线衍射有何异同?

答：

电子衍射与X射线衍射相比具有下列特点：

（1）电子波的波长比X射线短得多，因此，在同样满足布拉格条件时，它的衍射角度很小，10-2rad，而X射线最大衍射角可达/2。

（2）电子衍射产生斑点大致分布在一个二维倒易截面内，晶体产生的衍射花样能比较直观地反映晶体内各晶面的位向。

因为电子波长短，用Ewald图解时，反射球半径很大，在衍射角很小时的范围内，反射球的球面可近似为平面。

（3）电子衍射用薄晶体样品，其倒易点沿样品厚度方向扩展为倒易杆，增加了倒易点和Ewald球相交截面机会，结果使略偏离布拉格条件的电子束也能发生衍射。

（4）电子衍射束的强度较大，拍摄衍射花样时间短。

因为原子对电子的散射能力远大于对X射线的散射能力。

12、为什么TEM既能选区成像又能选区衍射？

怎样才能做到两者的一致性？

实际应用方面有何作用？

TEM成像系统主要是物镜、中间镜和投影镜的组合。

如果把中间镜的物平面和物镜的像平面重合，则在荧光屏得到一幅放大象。

如果把中间镜的物平面和物镜的背焦面重合，则得到一幅衍射花样。

降低成像的相差，精确聚焦爱能做到两者所选区域的一致。

实际应用中通过选区衍射确定微小无相的晶体结构。

13、什么是衍射衬度?

它与质厚衬度有什么区别?

答：

由样品各处衍射束强度的差异形成的衬度称为衍射衬度。

或是由样品各处满足布拉格条件程度的差异造成的。

对于晶体薄膜样品而言，厚度大致均匀，原子序数也无差别，因此，不可能利用质厚衬度来获得图象反差，这样，晶体薄膜样品成像是利用衍射衬度成像，简称“衍射衬度”

非晶（复型）样品电子显微图像衬度是由于样品不同微区间存在原子序数或厚度的差异而形成的，即质厚衬度，质厚衬度是建立在非晶样品中原子对电子的散射和透射电子显微镜小孔径成像的基础上的。

14、说明影响光学显微镜和电磁透镜分辨率的关键因素是什么？

如何提高电磁透镜的分辨率？

答：

前者影响因素：

颜射效应；后者：

衍射效应加相差。

若只考虑衍射效应，在照明光源和介质一定的条件下，孔径角越大，透镜的分辨率越高。

若考虑到衍射效应和像差，两者必须兼顾

15、分别说明成象操作与衍射操作时各级透镜之间的相对位置关系，并画出光路图

成象操作时中间镜是以物镜的象作为物成像，然后由透射镜进一步放大投到荧光屏上，即中间像的物平面与物镜的像平面重合；衍射操作是以物镜的背焦点作为物成像，然后由投影镜进一步放大投到荧光屏上，即中间像的物平面与物镜的背焦面重合。

16、电子探针显微镜\扫描电镜加能谱仪有什么区别?

各自应用的场合是什么?

1）电子探针即EPMA（电子探针显微分析），最初的目的是以电子束为探测源来分析样品中微区的化学成分，一般配备波谱仪。

而扫描电镜SEM，其最初目的是为了观察样品表面形貌，一般配备能谱仪。

最近的发展，电子探针上也可配备能谱仪，扫描电镜上也可配备波谱仪，即在一台EPMA或SEM上可以同时配备WDS,EDS,EBSD.从仪器构造上，EPMA和SEM并不本质上的区别。

2）透射电镜TEM观察的样品是薄样品（厚度约200um），有成像模式和衍射模式两种工作方式。

可配备EDS和EELS（电子能量损失谱），用于分析微区形貌、成分、晶体结构、晶体缺陷等。

但薄样品制备较为困难，通常先将样品减薄到500um（用不用的砂纸），在用离子减薄到合适的厚度（如用离子束击穿样品，在孔的附近区域的厚度即可符合分析要求）。

（注：

可编辑下载，若有不当之处，请指正，谢谢!

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