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场效应管及其放大电路

第三章场效应管及其放大电路

因为半导体三极管工作时,必须保证发射结正向偏置,故输入端始终存在输入电流,改变输入电流就可改变输出电流,所以三极管是电流控制器件,因而三极管组成的放大器,其输入电阻不高。

场效应管是通过改变输入电压(即利用电场效应)来控制输出电流,属于电压控制器件,它不吸收信号源电流,不消耗信号源功率,因此其输入电阻十分高,可高达上百兆欧。

除此之外,场效应管还具有温度稳定性好、抗幅射能力强、噪声低、制造工艺简单、便于集成等优点,所以得到广泛的应用。

因为半导体三极管参与导电的是两种极性的载流子:

电子和空穴,所以又称半导体三极管为双极性三极管。

场效应管仅依靠一种极性的载流子导电,所以又称为单极性三极管。

场效应管分为结型场效应管(JFET)和绝缘栅场效应管(又称为MOS管)。

第一节结型场效应管

一、结构

结型场效应管有两种结构形式。

下图(a)为N型沟道结型场效应管,图(b)是P型沟道结型场效应管,其电路符号如图(c)、(d)所示。

以N沟道为例。

在一块N型硅半导体材料的两边,利用合金法、扩散法或其它工艺做成高浓度的P+型区,使之形成两个PN结,然后将两边的P+型区连在一起,引出一个电极,称为栅极G。

在N型半导体两端各引出一个电极,分别作为源极S和漏极D。

夹在两个PN结中间的N型区是源极与漏极之间的电流通道,称为导电沟道。

因为N型半导体多数载流子是电子,故此沟道称为N型沟道。

同理,P型沟道结型场效应管中,沟道是P型区,称为P型沟道,栅极与N+型区相连。

电路符号中栅极的箭头方向可理解为两个PN结的正向导电方向。

二、工作原理

本节只讨论N沟道结型场效应管的工作原理,P沟道结型场效应管的导电机理和工作原理与N沟道型场效应管类似。

从结构图(a)可看出,在D、S间加上电压UDS,则在源极和漏极之间形成电流ID。

通过改变栅极和源极的反向电压UGS,则可以改变两个PN结阻挡层(耗尽层)的宽度。

因为栅极区是高掺杂区,所以阻挡层主要降在沟道区。

故改变UGS,就可以改变沟道宽度,其沟道电阻也随之而变,从而改变漏极电流ID。

如|UGS|上升,则沟道变窄,电阻增加,ID下降,反之亦然。

所以,改变UGS的大小,可以控制漏极电流,这是场效应管工作的核心部分。

1.UGS对导电沟道的影响

为便于讨论,先假设UDS=0

当UGS由零向负值增大时,PN结的阻挡层加厚,沟道变窄,电阻增大。

如下图(a)、(b)所示。

当UGS的负值再进一步增大,当UGS=UP时,两个PN结的阻挡层相遇,沟道消失,我们称为沟道被“夹断”了,UP称为夹断电压,此时ID=0,如图(c)所示。

2.ID与UDS、UGS之间的关系

假定栅、源电压|UGS|<|UP|,如UGS=-1V,而UP=-4V,当漏、源之间加上电压UDS=2V时,沟道中将有电流ID通过,此电流将沿着沟道的方向产生一个电压降,这样沟道上各点的电位就不同,因而各点与栅极之间的电位差也就不相等。

漏极D端与栅极G之间的反向电压最高,如UDG=UDS-UGS=2-(-1)=3V,沿着沟道向下逐渐降低,使源极端为最低,如USG=-UGS=1V,两个PN结的阻挡层将出现楔形,使得靠近源极端沟道较宽,而靠近漏极端的沟道较窄。

如下图(a)所示。

此时,若增大UDS,因为沟道电阻增长较慢,所以ID随之增加。

当UDS进一步增加到使栅、漏间电压UGD等于UP时,即

UGD=UGS-UDS=UP

则在D极附近,两个PN结的阻挡层相遇,如上图(b)所示,我们称为预夹断。

如果继续升高UDS,就会使夹断区向源极端方向发展,沟道电阻增加。

因为沟道电阻的增长速率与UDS的增加速率基本相同,故这一期间ID趋于一恒定值,不随UDS的增大而增大,此时,漏极电流的大小仅取决于UGS的大小,

UGS越负,沟道电阻越大,ID便越小,直到UGS=UP,沟道被全部夹断,ID=0,如上图(c)所示。

因为结型场效应管工作时,我们总是在栅、源之间加一个反向偏置电压,使得PN结始终处于反向接法,故IG≈0,所以,场效应管的输入电阻rgs很高。

三、特性曲线

1.输出特性曲线

下图为N沟道场效应管输出特性曲线。

以UGS为参变量时,漏极电流ID与漏、源电压UDS之间的关系,称为输出特性。

根据工作情况,输出特性可划分为4个区域,即:

可变电阻区、恒流区、击穿区和截止区。

(l)可变电阻区。

可变电阻区位于输出特性曲线的起始部分,图中用阴影线标出。

此区的特点是:

固定UGS时,ID随UDS增大而线性上升,相当于线性电阻;改变UGS时,特性曲线的斜率变化,即相当于电阻的阻值不同,UGS增大,相应的电阻增大。

因此在此区域,场效应管可看作一个受UGS控制的可变电阻,即漏、源电阻RDS=f(UGS)。

(2)恒流区。

该区的特点是:

ID基本不随UDS变化,仅取决于UGS值,输出特性曲线趋于水平,故称为恒流区或饱和区。

当组成场效应管放大电路时,为防止出现非线性失真,应使工作点设置在此区域内。

(3)击穿区。

位于特性曲线的最右部分,当UDS升高到一定程度时,反向偏置的PN结被击穿,ID将突然增大,因为UGS越负时,达到雪崩击穿所需的UGS电压愈小,故对应于UGS越负的特性曲线击穿越早。

其击穿电压用BUDS表示,当UGS=0时,其击穿电压用BUDSS表示。

(4)截止区。

当|UGS|≥|UP|时,管子的导电沟道处于完全夹断状态,ID=0,场效应管截止。

2.转移特性曲线

上右图所示为N沟道结型场效管的转移特性曲线。

当漏、源之间的电压UDS保持不变时,漏极电流ID和栅、源之间电压UGS的关系称为转移特性。

它描述了栅、源之间电压UGS对漏极电流ID的控制作用。

由图可见,UGS=0时,ID=IDSS称为饱和漏极电流。

随|UGS|增大,ID愈小,当UGS=UP时,ID=0。

因此UP称为夹断电压。

结型场效应管的转移特性在UGS=0~UP范围内可用下面近似公式表示:

转移特性和输出特性同是反映场效应管工作时,UDS、UGS和ID三者之间的关系的,所以它们之间是可以相互转换的。

如根据输出特性曲线可作出转移特性曲线,其作法如下:

在输出特性曲线上,对应于UDS等于某一固定电压作一条垂直的直线,将垂线与各条输出特性曲线的交点所对应的ID、UGS转移到ID-UGS坐标中,即可得转移特性曲线,如下图所示。

因为在恒流区内,同一UGS下,不同的UDS,ID基本不变,故不同的UDS下的转移特性曲线几乎全部重合,因此可用一条转移特性曲线来表示恒流区中UGS与ID的关系。

在结型场效应管中,因为栅极与沟道之间的PN结被反向偏置,所以输入端电流近似为零,其输入电阻可达107Ω以上。

当需要更高的输入电阻时,则应采用绝缘栅场效应管。

第二节绝缘栅场效应管

绝缘栅场效应管通常由金属、氧化物和半导体制成,所以又称为金属-氧化物-半导体场效应管,简称为MOS场效应管。

因为这种场效应管的栅极被绝缘层(SiO2)隔离,因此其输入电阻更高,可达109Ω以上。

从导电沟道来区分,绝缘栅场效应管也有N沟道和P沟道两种类型。

此外,无论是N沟道或P沟道,又有增强型和耗尽型两种类型。

下面,以N沟道增强型的MOS场效应管为主,介绍其结构、工作原理和特性曲线。

一、N沟道增强型MOS场效应管

1.结构

N沟道增强型MOS场效应管的结构示意图如下图所示。

把一块掺杂浓度较低的P型半导体作为衬底,然后在其表面上覆盖一层SiO2的绝缘层,再在SiO2层上刻出两个窗口,通过扩散工艺形成两个高掺杂的N型区(用N+表示),并在N+区和SiO2的表面各自喷上一层金属铝,分别引出源极、漏极和控制栅极。

衬底也接出一根引线,通常情况下将它和源极在内部相连。

2.工作原理

结型场效应管是通过改变UGS来控制PN结的阻挡层的宽窄,从而改变导电沟道的宽度,达到控制漏极电流ID的目的。

而绝缘栅场效应管则是利用UGS来控制“感应电荷”的多少,以改变由这些“感应电荷”形成的导电沟道的状况,然后达到控制漏极电流ID的目的。

对N沟道增强型的MOS场效管,当UGS=0时,在漏极和源极的两个N+区之间是P型衬底,因此漏、源之间相当于两个背靠背的PN结。

所以,无论漏、源之间加上何种极性的电压,漏源总是不导通的,ID=0。

当UGS>0时(为方便假定UDS=0),则在SiO2的绝缘层中,产生一个垂直半导体表面,由栅极指向P型衬底的电场,这个电场排斥空穴吸引电子,当UGS≥UT时,在绝缘栅下的P型区中形成了一层电子数为主的N型层,因为源极和漏极均为N+型,故此N型层在漏、源极间形成电子导电的沟道,称为N型沟道。

UT称为开启电压,此时在漏、源极间加UDS,则形成电流ID。

显然,此时改变UGS则可改变沟道的宽窄,即改变沟道电阻大小,从而控制了漏极电流ID的大小。

因为这类场效管在UGS=0时,ID=0,只有在UGS>UT后才出现沟道,形成电流,故称为增强型。

上述过程如下图所示。

3.特性曲线

N沟道增强型场效应管,也用输出特性、转移特性表示ID、UGS、UDS之间的关系,如图所示。

由图(a)的转移特性曲线可见,当UGS<UT时,因为尚未形成导电沟道,因此ID基本为零。

当UGS≥UT时,形成导电沟道才形成电流,而且UGS增大,沟道变宽,沟道电阻变小,ID也增大。

通常将ID等于某一数值(例如10μA)时的UGS定义为开启电压UT。

MOS场效应管的输出特性同样可以划分为4个区:

可变电阻区、恒流区、击穿区和截止区,如图(b)所示。

二、N沟道耗尽型MOS场效应管

耗尽型MOS场效应管,是在制造过程中,预先在SiO2绝缘层中掺入大量的正离子,因此,UGS=0时,这些正离子产生的电场也能在P型衬底中“感应”出足够的电子,形成N型导电沟道,如图所示。

所以当UDS>0时,将产生较大的漏极电流ID。

如果使UGS<0,则它将削弱正离子所形成的电场,使N沟道变窄,从而使ID减小。

当UGS更负,达到某一数值时沟道消失,ID=0。

使ID=0的UGS我们也称为夹断电压,仍用UP表示。

N沟道MOS耗尽型场效应管的特性曲线如下图所示。

为便于比较,将各种场效应管的符号和特性曲线列于下表中。

注:

流入漏极的ID方向为ID的正方向。

耗尽型MOS管的电路符号中没有断续线,这表示在没有加UGS时,已经有了导电沟道。

第三节场效应管的主要参数

场效应管主要参数包括以下几项:

一、直流参数

1.饱和漏极电流IDSS

这是耗尽型和结型场效应管的一个重要参数,它的定义是当栅源之间的电压UGS=0,而漏极、源极之间的电压UDS大于夹断电压UP时对应的漏极电流。

2.夹断电压UP

UP也是耗尽型和结型场效应管的重要参数,其定义为当UDS一定时,使ID减小到某一个微小电流(如1μA或50μA)时所需的UGS值。

3.开启电压UT

这是增强型场效应管的重要参数,它的定义是当UDS一定时,漏极电流ID达到某一数值(例如10μA)时所需加的UGS值。

4.直流输入电阻RGS

RGS是栅、源之间所加电压与产生的栅极电流之比。

因为栅极几乎不索取电流,因此输入电阻RGS很高。

二、交流参数

1.低频跨导gm

此参数是描述栅源电压UGS对漏极电流的控制作用。

它的定义是当UDS一定时,ID与UGS的变化量之比。

跨导gm的单位是mA/V。

gm反映了栅源电压UGS对漏极电流ID的控制作用,体现了场效应管的放大能力。

gm表现在转移特性上就是静态工作点处特性曲线的斜率。

2.极间电容

场效应管三个电极之间的电容,包括CGS、CGD和CDS,这些极间电容愈小,则管子的高频性能愈好。

一般为几个pF。

3.交流输出电阻rds

rds的大小说明了uDS对iD的影响程度。

在恒流区,漏极电流基本上不受漏源电压的影响,一般rds在几千欧姆到几百千欧姆范围内。

三、极限参数

1.漏极最大允许耗散功率PDm

PDm与ID、UDS有如下关系:

PDm=IDUDS

这部分功率将转化为热能,使管子的温度升高。

PDm决定于场效应管允许的最高温升。

2.漏、源击穿电压BUDS

在场效应管输出特性曲线上,当漏极电流ID急剧上升,产生雪崩击穿时的UDS。

工作时外加在漏、源之间的电压不得超过此值。

3.栅极击穿电压BUGS

结型场效应管正常工作时,栅、源之间的PN结处于反向偏置状态,若BUGS过高,PN结将被击穿。

对于MOS场效应管,因为栅极与沟道之间有一层很薄的二氧化硅绝缘层,当UGS过高时,可能将SiO2绝缘层击穿,使栅极与衬底发生短路。

这种击穿不同于PN结击穿,而和电容器击穿的情况类似,属于破坏性击穿,即栅、源间发生击穿,MOS管立即被损坏。

除了上述参数之外,场效应管还有低频噪声系数NF、最高工作频率等参数,使用时可根据需要查阅手册。

第四节场效应管的特点

场效应管具有放大作用,可以组成各种放大电路,它与双极性三级管相比,具有如下几个特点:

(1)场效应管是一种电压控制器件,即通过UGS来控制ID。

双极性三极管是电流控制器件,通过IB来控制IC。

(2)场效应管输入端几乎没有电流,所以其直流输入电阻和交流输入电阻都非常高。

而双极性三极管,e结始终处于正向偏置,总是存在输入电流,故be极间的输入电阻较小。

(3)因为场效应管是利用多数载流子导电的,因此,与双极性三极管相比,具有噪声小,受幅射的影响小,热稳定性较好,而且存在零温度系数工作点,如图为同一场效管在不同温度下的转移特性,几条特性曲线有一个交点,若放大电路中场效应管的栅极电压选在该点,则当温度改变时ID的值不变,该点称为零温度系数工作点。

(4)因为场效应管的结构对称,有时漏极和源极可以互换使用,而各项指标基本上不受影响,因此应用时比较方便灵活。

但是,有的绝缘栅场效应管,制造时源板已和衬底连在一起,则漏极和源极不能互换。

(5)场效应管的制造工艺简单,有利于大规模集成。

特别是MOS电路,每个MOS场效应管的硅片上所占的面积只有双极性三极管的5%,因此集成度更高。

(6)因为MOS场效应管的输入电阻可高达1015Ω,因此,由外界静电感应(或人体接触栅极)所产生的电荷不易泄漏,而栅极上的SiO2绝缘层又很薄,这将在栅极上产生很高的电场强度,以致引起绝缘层击穿而损坏管子。

为此,在存放时管子时,应将各电极引线短接。

焊接时,要注意将电烙铁外壳接上可靠地线,或者在焊接时,将电烙铁与电源暂时脱离。

目前,一些MOS管子采用如图所示的栅极保护电路,正常工作时,稳压管D1、D2都截止,R上压降为零,对MOS管的工作无影响。

(7)场效应管的跨导较小,当组成放大电路时,在相同的负载电阻下,电压放大倍数比双极型三极管低。

第五节场效应管放大电路

场效应管具有放大作用,它的三个极与双极性三极管的三个极,存在着对应关系,即:

栅极G对应基极b;源极S对应发射极e;漏极D对应集电极c。

所以根据双极性三极管放大电路,可组成相应的场效应管放大电路。

但因为两种放大器件各自的特点,故不能将双极性三极管放大电路的三极管,简单地用场效应管取代,组成场效应管放大电路。

双极性三极管是电流控制器件,组成放大电路时,应给双极性三极管设置偏流。

而场效应管组成放大电路时,也应给场效应管建立合适的静态工作点,因为场效应管是电压控制器件,故应设置偏压,即需要建立合适的栅源电压(也叫栅极偏置电压UGSQ),以保证放大电路具有合适的工作点,避免输出波形产生严重的非线性失真。

一、静态工作点与偏置电路

因为场效应管种类较多,故采用的偏置电路,其电压极性必须考虑。

下面以N沟道场效应管为例进行讨论。

因为场效应管又分为耗尽型和增强型,因此偏置电路也有所区别,耗尽型场效应管只能工作在uGS<0的区域。

下图为自给偏压电路,它适用于结型场效管或耗尽型场效应管。

该电路是依靠漏极电流ID在RS上的电压降提供栅极偏压,即UGS=-IDRS

(1)

为减少RS对放大倍数的影响,在RS两端并联一个足够大的旁路电容CS,该电容对静态工作点没有影响,但是对交流信号是短路的。

由场效应管工作原理可知,ID是随UGS变化的,而现在UGS又取决于ID的大小,怎样确定静态工作点ID和UGS的值呢?

一般可采用两种方法:

图解法和计算法。

1.图解法

首先,由漏极回路写出方程

UDD=IDRD+UDS+IDRS

就是UDS=UDD-ID(RD+RS)

(2)

由此式在场效应管的输出特性曲线上作出直流负载线AB,将此直流负载线逐点转到uGS~iD坐标,得到对应直流负载线的转移特性曲线CD,如图所示。

再由

(2)式在uGS~iD坐标系中作另一条直线,两线的交点即为Q点。

2.计算法

场效应管的ID和UGS之间的关系可用下式近似表示,即

(3)

IDSS为饱和漏极电流,UP为夹断电压,可由手册查出。

联立解式

(1)、(3)即可求得静态时的ID和UGS值。

例:

电路如上图所示,场效应管为3DJ6,其输出特性曲线如下图所示。

已知RD=2kΩ,RS=1.2kΩ,UDD=15V,试用图解法确定该放大器的静态工作点。

解:

写出输出回路的电压电流方程,即直流负载线

UDS=UDD-ID(RD+RS)

设UDD=0时:

ID=0时:

UDS=15V

在输出特性图上将上述两点相连即得直流负载线。

再将上述直流负载线与输出特性曲线族的交点,在uGS~iD坐标系中画出该直流负载线的转移特性曲线,见图。

在转移特性曲线上,作出UGS=-IDRS的曲线,它在uGS~iD坐标系中是一条直线,找出两点即可:

令ID=0,则UGS=0;令ID=3mA,则UGS=3.6V

连接该两点,在uGS~iD坐标得一直线,此线与转移特性曲线的交点,即为Q点。

对应Q点的值为:

ID=2.5mA,UGS=-3V,UDS=7V

另一种常用的偏置电路为分压式偏置电路,如下图所示。

该电路适合于增强型和耗尽型MOS管和结型场效应管。

为了不使分压电阻R1、R2对放大电路的输入电阻影响太大,故通过RG与栅极相连。

该电路栅、源电压为

UGS=UG-US=

-IDRS

为使工作点受温度的影响最小,应尽量将栅偏压设置在零温度系数附近。

利用图解法求Q点时,此方程的直线不通过uGS~iD坐标系的原点,而是通过ID=0,UGS=

点,其它过程与自偏电路相同,此处不赘述。

利用计算法求解时,需联立解下面方程组

UGS=UG-US=

-IDRS

请参考P.92例2

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