整理循环伏安法细则.docx

1、整理循环伏安法细则利用循环伏安确定反应是否为可逆反应1.氧化峰电流与还原峰电流绝对值相等，即二者绝对值比值始终为 一，与扫描速率，换向电势，扩散系数无关。2. 氧化峰与还原峰电位差约为 59mV 利用循环伏安确定反应是否为可逆反应 1.氧化峰电流与还原峰电流之比的绝对值等于 12. 氧化峰与还原峰电位差约为 （59/n）mV （25 摄氏度时 ） 一般这两个条件即可判断扩散反应或者是吸附反应： 改变扫描速率，看峰电流是与扫描速率还是它的二次方根成正比 若是与扫描速率成线性，就是表面控制过程 与二次方根成线性，就是扩散控制 偶认为，给 6 楼纠正下，是 59/n,n 为电子转移量（亚铁 -铁，

2、n=1 ）温度一般 是 293K 下确定，但是一般我们实验时候不是在这个温度下，因此用 这个算是有误差的，一般保证其值在 100mv 以下都算合理的误差， 随着扫描速度的变大，这个值 .循环伏安测试的基本电位条件设定是根据你的研究电机与参比电极 决定利用循环伏安确定反应是否可逆 1：氧化峰和还原峰的电流比是否相等，若相等则可逆。有时对同一体系， 扫描速率不同也会在一定程度上影响其可逆性的一般而言，扫速越大其电化学反应电流也就越大。2:氧化峰和还原峰 电位差等于59/nmV ,若大于，则是准可逆体系。这种确定on set pote ntial的方法的依据是什么呢？我看有的文献上 直接是作一条切线

3、，但这样误差也很大，很主观随意。不知道Electrochimica Acta 53 (2007) 811 - 822 这篇文献中的这种求 on set potential的方法的依据是什么。Quote:Origi nally posted by crossi n at 2009-4-28 17:29:The on set is defi ned as the pote ntial at which 10% or 20%of the curre nt value at the peak pote ntial was reached.(Electrochimica Acta 53 (2007) 8

4、11 - 822)不是“依据accord),而是“定义(define)”以前我们老师上电极过程动力学的时候说准确的 on set pote ntial其实是很难被确定的。只能估计大致的范围。求法可以说有好几种，据我所知就有两种，一种是楼上说的切线法， 一种是我说的10 %或20 %法哪种方法不重要，重要的只在自己的样品之间比。另外， 我不知道你的样品是什么，就我所熟知的电催化剂而言， 其实评价它的好坏， 起始电位固然重要， 但更看重它的峰形以及质量 单位电流密度。、切线法是有这个问题，所以用峰高的 10来定，人为因素要小一 些啦。其实说来说去又变成了起始电位测不准啦！ 所以起始电位只能拿来作

5、一个辅助的参考指标具体到发文章，具体样品的表征还是要根据文献中人家通用的标准是 什么。你说对吧！？求助 循环伏安曲线 已有 7 人参与问一下循环伏安曲线中， 正电流对应着是氧化峰还是还原峰， 没转过 弯来。谢谢很多书上都把还原反应电流规定为正， 一般不说正电流或负电流， 而 说阳极电流或阴极电流。 阳极反应的电流是阳极电流， 对应的峰为氧 化峰，阴极反应的电流是阴极电流，对应的峰为还原峰。电流的正负是人为规定的， 习惯上还原峰电流规定为正， 氧化峰电流 为负，但是也有相反的情况， 不能按照电流的正负来区分氧化峰或还 原峰，从电位上可以判断， 通常氧化峰位于还原峰较正的位置上，也 就说，峰电位较

6、正的峰是氧化峰，峰电位较负的峰是还原峰，这是极 化造成的结果。看扫描方向， 由正向负方向扫出的峰就是还原峰， 由负往正方向扫就 是氧化峰，也就是对应的负扫和正扫 我们用的是上海辰华的工作站， 也是颠倒的， 一般我们把数据导出再 用 ORIGIN75 处理数据，把图形倒过来。习惯上，将流入电极表面的电流，定义为负，流出电极表面的电流定 义为正，前者为阴极，还原，后者为氧化。仪器的 cv 图，可以根据扫描电位的方向，向负电位方向扫，肯定是 先出现的还原电流峰，所以哪个先出来，就是还原峰，不用拘泥于坐 标轴。请问，怎么求循环伏安过程中的总电荷，是曲线下的面积吗，谢谢660C 是可以直接读取过程中的总

7、电量的，这个数值它会自动记录下 来的，数据文件里就有。 如果要自己求可以用软件里自带的求积分的 命令，实在不会还可以导出到 origin 里求积分660C 每个数据都是这样的Potential/V, Current/A, Charge/CSegment 1:0.050, 2.389e-5, 4.779e-7最后一个就是电量， 是这个电位以前的积分而不是对应这个电位下的 电量。跟你自己积出来的结果应该是一样的。借你的楼层说说循环伏安测试的原理：1.若电极反应为0 + e-R，反应前溶液中只含有反应粒子 0、且0、R在溶液均可溶，控制扫描起始电势从比体系标准平衡电势 （平）正得多的起始电势（囲）处

8、开始势作正向电扫描，电流响应曲线则如附图 所示。2.当电极电势逐渐负移到（平!附近时，O开始在电极上还原，并有 法拉第电流通过。由于电势越来越负，电极表面反应物 0 的浓度逐 渐下降，因此向电极表面的流量和电流就增加。当 0 的表面浓度下 降到近于零，电流也增加到最大值 Ipc,然后电流逐渐下降。当电势 达到（W）后，又改为反向扫描。3.随着电极电势逐渐变正，电极附近可氧化的R粒子的浓度较大，在 电势接近并通过（平）时，表面上的电化学平衡应当向着越来越有利 于生成 R 的方向发展。于是 R 开始被氧化，并且电流增大到峰值氧 化电流Ipa，随后又由于R的显著消耗而引起电流衰降。整个曲线称 为“循

9、环伏安曲线。”循环伏安应用还是很多的（1） 电极可逆性的判断 循环伏安法中电压的扫描过程包括阴极与阳 极两个方向，因此从所得的循环伏安法图的氧化波和还原波的峰高和 对称性中可判断电活性物质在电极表面反应的可逆程度。 若反应是可 逆的，则曲线上下对称，若反应不可逆，则曲线上下不对称。（2） 电极反应机理的判断循环伏安法还可研究电极吸附现象、电化 学反应产物、电化学化学耦联反应等 ,对于有机物、金属有机化合 物及生物物质的氧化还原机理研究很有用。测试的时候， 以等腰三角形的脉冲电压加在工作电极上， 得到的电流 电压曲线包括两个分支， 如果前半部分电位向阴极方向扫描， 电活性 物质在电极上还原， 产

10、生还原波， 那么后半部分电位向阳极方向扫描 时，还原产物又会重新在电极上氧化，产生氧化波。因此一次三角波 扫描，完成一个还原和氧化过程。循环， 你好，循环伏安法是一种测试方法，不是电镀的一种手段。 循环伏安一般是给电极施加恒定扫描速度的电压持续的观察电极表面电流和电位的关系，可以用来表征电极表面发生的反应以及探讨电 极反应的机理。而电镀是给电极施加恒定的电流使得金属离子在镀件表面沉积， 现在常见的电镀锡、电镀铜、电镀锌、电镀镍、电镀铬和电镀贵金属等。你说的电镀铂就是贵金属一种。所以说，两者没有必然的关系。一般是先进行电镀，然后进行循环伏 安表征。这可能是他们之间的一点联系吧。这是电分析方面的，

11、标准曲线还是通过紫外或者红外等其他手段测量 比较好，通过CV测量的话，得需要做一批不同浓度的 CV曲线，通 过曲线特征峰的积分面积从而确定浓度与峰面积之间的关系， 然后绘制出标准曲线。这样就可以用来测定未知物的浓度了！Quote:Originally posted by 紫魂 at 2010-03-16 09:09:51:大家好！我也是做循环伏安的。我最近再做一个制作电极的 实验，测一种生物分子，老师让我做个样品分析，我看文献， 它就说标准曲线和标准加入，我看不懂它到底是怎么测得， 回收又是怎么算的，请高手不吝赐教！谢谢！物理吸附是通过范德华力之间作用的，不能通过 CV曲线来测量。化学吸附是分

12、子之间的相互作用，是可以通过 CV曲线测量的。般的，如果峰值电流与浓度之间呈现线性关系， 则可以认为是化学吸附。当然通过特征峰分析也是可以的。希望能对你有帮助，你可以查看一些电化学测量方面的书籍。Quote:Originally posted by 那个 at 2010-03-16 10:44:00:搭车问下能否设计循环伏安实验，测量一种离子在电极表面的吸附状况吸附可能会有物理吸附，化学吸附两种循环伏安可以用于电沉积金属的，实际是就是在 CV过程中，金属盐或者酸发生还原被还原成单质的。Quote:Origi nally posted by zlin at 2010-03-15 20:16:16

13、:你好，循环伏安法是一种测试方法，不是电镀的一种手段。循环伏安一般是给电极施加恒定扫描速度的电压持续的观 察电极表面电流和电位的关系，可以用来表征电极表面发生 的反应以及探讨电极反应的机理。而电镀是给循环伏安法，这里有篇很好的综述介绍，我这里再把链接发下，这是 前不久有站友问到这个问题我发上来的，链接是 http:/emuch. net/bbs/viewthread.php?tid=1837824 看第二楼的回复附件.我来回答你的问题脱落或发白是结合力不好的原因，降低扫速对于沉积当然有利，这样 也能够提高镀层的结合力。最后，你说的那个线性扫描的测试选用的方法是对的Quote:Origi nal

14、ly posted by tia nll06 at 2010-04-11 21:47:46:我做的是循环伏安法镀镍钻薄膜，衬底是导电玻璃，镀液硫 酸钻硫酸镍硼酸还有糖精，为什么我的薄膜镀出来以后不是 脱落就是发白呢，是不是扫描电位太高，这个方法镀膜是不 是不能太急，扫描速度慢一点时间长一点比较好 恒电位沉积和CV沉积的结果是不一样的恒电位是在恒定电位下进行沉积，这个电位可以是极化后的金属沉积 电位，而CV中电位一直在变化，也就是说溶解和沉积过程一直进行, 这可能是导致你试验结果不同的原因Quote:Origi nally posted by tia nll06 at 2010-04-12 08

15、:40:38:谢谢你的回答，按照你说的是结合力的问题，像导电玻璃这种表面平滑的衬底，是不是有些附着力差的薄膜根本就无法 沉积呢，我永恒电位方法已经做出来比较不错的样品了， 尝试了一下循环伏安法镀膜，结果很多薄膜发白， 请问你这是要测量什么呢？一般对电极（辅助电极）是研究电极3倍以上的面积就可以了Quote:Origi nally posted by roseyy at 2010-04-12 10:27:58:请问大家，做循环伏安曲线使用的工作电极和辅助电 极都是铂电极，其中辅助电极要求面积较大一些，那 工作电极的面积相对来说就要小一些， 具体应小到什么程度，如果面积较大（但仍小于辅助电极）会对

16、循 环伏安曲线由什饱和甘汞电极电极电位为0.242V，相对于SHE的话，是0.4V加上0.242V，即 0.642V vs SHEQuote:Origi nally posted by Izx9968 at 2010-04-14 20:41:21:请教个问题，如果使用甘汞电极做参比，测试中发生反应的 电位是0.4V，那么实际反应电位应该是多少呢，就是 0.4V 还是要加上或者减去参比电位？我先问一个， 单电子过程扫循环伏安， 氧化还原电位差不在 59mv ， 那么主要影响电极的界面因素有哪些？ 是什么扩大了电位差？ 另一个问题， 氧化还原峰电流的左右 来回电流差（残余电流）相差 比较大，怎么解释， 扫铁氰化钾出现这种情况， 我的电极可能出了 生么问题？尝试回答一下 1、关于楼主的问题：循环伏安测试的基本电位条件怎么设定？ 首先明确你的体系中活性物种的氧化还原电位，然后设定参数将该点位包括在内，还要避免过高或过低电位引起的副反应。2、关于 bioconnor 的问题 界面因素：电极表面的亲疏水性、所选的电解质体系本身的性质 电位差应该和循环伏安扫速有关， 由相关公式为证， 可以查阅参考书