中国第一届电子显微镜摄影大赛摄影展.docx

1、中国第一届电子显微镜摄影大赛摄影展2010年中国第一届电子显微镜摄影大赛摄影展 由中国电子显微镜学会及电子显微学报编辑部举办的第一届2010年首届中国电子显微摄影大赛评选出不同奖项，一等奖：照片名称：“绽放在纳米世界的火红玫瑰”照片描述：此照片为利用磁控溅射制备方法在单晶NaCl衬底上制作的Cu纳米薄膜，样品厚度约为15nm，靶材为纯度为99.995% 的纯铜靶材，操作电压为500V，氩气保护，气压值为510-1 Pa。利用去离子水将溅射在单晶NaCl衬底上的Cu纳米薄膜剥离并转移到TEM拉伸台上，放入透射电镜观察。本照片采用JEOL 2010F透射电镜在2000倍下拍摄，此样品质量并不是很理

2、想，其上有大量的看似裂纹的纹路，这是样品在溅射过程中由于功率不稳造成的样品制备不均匀所致。图中裂纹正好形成了看似玫瑰的形状，我们命名为“绽放在纳米世界的火红玫瑰”。作者信息：姓名：岳永海,在读博士生单位：北京工业大学固体微结构与性能研究所地址：北京市朝阳区平乐园100号北京工业大学固体微结构与性能研究所科学楼131室邮编：100124二等奖： ”照片名称：春芽照片简介：这是一张放大12000倍的扫描电子显微镜照片，由JEOL-6500F拍摄。如图所示是用热蒸发SiO粉末生长的二氧化硅纳米线。其中春芽的茎是二氧化硅纳米线，芽的顶部是含催化剂铁的SiOX小球。图中的春芽破土而出，生机勃勃，而所谓的

3、大地其实是硅(111)衬底，由图看出纳米线与硅衬底有良好的外延关系，这对二氧化硅纳米线的应用提供了一个良好的前提。作者信息：姓名：沈振菊（沈振菊 臧鹏 张晓娜 张泽）简历：山东省淄博市沂源县人。2004年入青岛大学物理系，2008年保送至北京工业大学固体微结构与性能研究所，导师张泽院士，现就读于所内凝聚态物理学专业硕士研究生。单位：北京工业大学固体微结构与性能研究所地址：北京市朝阳区平乐园100号北京工业大学固体微结构与性能研究所科学楼一层131室2、照片名称：“成长” 照片简介：水稻根毛生长过程（用冷冻台技术-180）SEM观察，根毛生长过程栩栩如生。 作者:陈汉民，浙江大学三等奖：1、 照

4、片简介：以上参赛图片为2010年6月通过日本电子JSM-T300扫描电镜拍摄，用PHOTOSHOP7染色处理。黄花菜为马氏青霉菌标本。 作者：广西医科大学电镜室李卫东 2、作品名称：“时空遂道” 照片简介：样品：CD34干细胞种植人工血管后管腔内皮细胞表面形态. 机型：日本日立S-2250N. 制作方法：HMDS方法（一种特殊的扫描电镜标本制备方法）详见电子显微学报：增刊155-155 2008年. 取图时间：2008年 放大倍数：x600 20kv 50um创作灵感：血管表面形态本身就有遂道的感觉，插入闪光的柱体后給视者带来一种时空遂道的印象。作者：彭玲、何雯（北京大学人民医院电镜室） 3、

5、作品名称：“花朵” 照片简介：通过CVD法制备的氧化锡纳米棒使用FEI Quanta 200 ESEM拍摄，然后通过Photoshop调节图片的色彩平衡，所得不同颜色的微观照片。作者简介：王学文：现工作于中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所，主要从事碳纳米管、金属氧化物等纳米材料的制备、表征及其气体传感性能的研究。包柳：陕西师范大学化学与材料科学学院在读硕士研究生。鼓励奖：1、作品名称：“月夜青竹”照片简介：这是一张放大八千倍的透射电子显微镜电子照片，由JEOL-2010拍摄。照片中是由热蒸发法制备的硅纳米线，再经过磁控溅射镀Ge2Sb2Te5膜后，Ge、Sb、Te中的Ge 元素进入了硅纳米

6、线里面形成了竹节状的结构。其中金黄色的月亮、灰色的云彩、褐色的山峦、深蓝色的天空都是普通碳膜微栅的碳膜，有厚薄的层次变化，而青色的竹子就是渗入了Ge元素的硅纳米线。硅和锗都是重要的半导体材料，是当今电子工业界的基础。纳米线由于其优异的力学、电学、光学特性引起科学各界的广泛关注，纳米线的制备的方法也有很多，其中硅纳米线的制备方法主要有激光烧蚀法、化学气相沉积法、热气相沉积法等。将热蒸发法制备的硅纳米线经过磁控溅射镀膜处理，引入了Ge的节点结构，这种特殊的实验方法为纳米线的制备工作引入了新的元素，而出现这种有趣的实验结果也为目前丰富多彩的纳米线的世界增添了一个新的成员。作者信息：姓名：成岩 单位：

7、北京工业大学固体微结构与性能研究所地址：北京市朝阳区平乐园100号北京工业大学固体微结构与性能研究所科学楼一层131室邮编：1001242、作品名称：“世界杯之后” 照片简介：拍摄于2010年7月，高分子微球样品放置了3年零8个月，原来饱满的球体已经萎缩变形，一层微球变为多边形颗粒状，似鹅卵石铺就的路，多层微球也像是瘪了的足球作者：胡玲 清华大学化工系反应工程实验室3、作品名称：“夏日海滩”照片简介： 这是一张放大六万倍的透射电子显微镜电子照片，由JEOL-2010拍摄。图中是由磁控溅射制备的金属钨的纳米晶体的薄膜，其中灰色的海边岩石部分为钨的纳米晶粒，黄色的沙滩部分为薄膜从溅射完并清洗的过程

8、中残留的树脂非晶，上面蓝色的海滩部分为电子直接穿过的空白处。磁控溅射技术是一种有效的镀膜技术，可以在较低的温度下以较高的速率镀膜，与其他的镀膜技术相比具有膜的纯度高，膜与基底结合性好，膜的结构均匀等优点。钨是一种重要的有色金属，其高熔点，高强度，高的热导率等优点，使钨及其合金在工业上得到广泛应用。而钨的纳米晶体具有更高的硬度，塑性变好等特性，使其应用具有更好的前景。目前直接用透射电镜研究钨的纳米晶薄膜的研究并不多，开展这方面的研究将会加深对磁控溅射镀钨膜的理解，促进钨的纳米晶体薄膜在实际中的应用。 作者信息：姓名：臧鹏 山东省聊城市东阿县人。2004年入山东大学物理学院物理系，2008年保送至北京工业大学固体微结构与性能研究所.单位：北京工业大学固体微结构与性能研究所地址：北京市朝阳区平乐园100号北京工业大学固体微结构与性能研究所科学楼一层131室 邮编：1001244、作品名称：“水立方” 照片简介：采取不同处理过的长在丝纤蛋白膜上的方解石，层状迭起，波澜起伏如同“水立方”；本照片采用真空喷金镀层，在高真空扫描电镜下拍摄完成。所用仪器：TESAN TS 5136MM