第四章-纳米压印技术.pptx

1、微米纳米技术MicroNanoSystemResearchCenter2015.05纳米压印技术纳米压印技术MicroNanoSystemResearchCenter微米纳米加工技术微米纳米加工技术第三章：纳米压印技术第三章：纳米压印技术2MicroNanoSystemResearchCenter微米纳米加工技术微米纳米加工技术第三章：纳米压印技术第三章：纳米压印技术3 普林斯顿大学电机系华裔教授,1978年从中国科技大学物理系毕业；1986年获麻省理工学院博士后；先后在斯坦福大学及明尼苏达大学任教；1997年应聘至普林斯顿大学主持“纳米结构实验室”。2007年当选为美国国家工程院院士，被称为

2、改革开放后中国大陆高校毕业生获取美国国家工程院院士的第一人。Stephen Y.Chou（http:/www.princeton.edu/chouweb/）MicroNanoSystemResearchCenter微米纳米加工技术微米纳米加工技术第三章：纳米压印技术第三章：纳米压印技术4主要内容主要内容1 1.纳米压印技术简介 1.1 压印技术 1.2 纳米压印技术 1.3 纳米压印关键工艺步骤2 2.纳米压印工艺 2.1 热压印技术 2.2 紫外光固化压印（步进-闪光工艺）2.3 软模板压印技术（SCIL）2.4 逆压印技术 2.5滚筒压印技术3 3.纳米压印技术应用领域及前景MicroNa

3、noSystemResearchCenter微米纳米加工技术微米纳米加工技术第三章：纳米压印技术第三章：纳米压印技术51.纳米压印技术简介1.1 压印技术 说到压印技术，其实并不神秘，中国古代四大发明之一的活字印刷术就是最初压印技术的原型。通俗的说，压印就是把一个刻有凸凹图案的印章盖在橡皮泥上，然后在其上面留下与章的图形相反的图案。MicroNanoSystemResearchCenter微米纳米加工技术微米纳米加工技术第三章：纳米压印技术第三章：纳米压印技术6 优点：其加工分辨力只与模版图案的尺寸有关，而不受光学光刻的最短曝光波长的物理限制。普林士顿大学：Stephen Y.Chou 教授，

4、将一具有纳米图来的模版以机械力(高温、高压)在涂有高分子材料的硅基板上等比例压印复制纳米图案.1.2 纳米压印技术压印示意图压印示意图MicroNanoSystemResearchCenter微米纳米加工技术微米纳米加工技术第三章：纳米压印技术第三章：纳米压印技术7 日前，NIL技术已经可以制作线宽在5nm以下的图案。由于省去了光学光刻掩模版和使用光学成像设务的成本。因此NIL技术具有低成木、高产出的经济优势。广泛应用在纳米电子元件、生物或化学的硅片实验室、微流道装置，超高存储密度磁盘、微光学元件等领域;MicroNanoSystemResearchCenter微米纳米加工技术微米纳米加工技术

5、第三章：纳米压印技术第三章：纳米压印技术81.3 1.3 关键工艺步骤：关键工艺步骤：压模的制作通常用高分辨电子束刻印术(EBL)制备，压模通常用Si,SiO2.氮化硅、金刚石等材料制备。这些材料具有:高硬度、大压缩强度、大抗拉强可以减少压模的变形和磨损;高热导率和低热膨胀系数，使得在加热过程中压模的热变形很小。热压印模版的制备热压印模版的制备模版的制备：模版的制备：MicroNanoSystemResearchCenter微米纳米加工技术微米纳米加工技术第三章：纳米压印技术第三章：纳米压印技术9MicroNanoSystemResearchCenter微米纳米加工技术微米纳米加工技术第三章：

6、纳米压印技术第三章：纳米压印技术10MicroNanoSystemResearchCenter微米纳米加工技术微米纳米加工技术第三章：纳米压印技术第三章：纳米压印技术11电沉积电沉积Ni 模版模版MicroNanoSystemResearchCenter微米纳米加工技术微米纳米加工技术第三章：纳米压印技术第三章：纳米压印技术12模板材料的选择：模板材料的选择：选择模板材料的关键在于它们的机械特性。包括硬度，热膨胀系数和导热性。通常要求模板材料硬度和拉伸强度高，热膨胀系数小，抗腐蚀性好，确保模版耐磨，变形小，从而保证其压印精度和使用寿命。由于不同压印工艺对模板材料的要求不同，为了寻找使用周期更长

7、的模板材料作为大规模生产，研究人员研究更具灵活性和适应性的材料作为模板材料。一般通过实验来测试这些通过纳米加工技术得到的模板的耐用性。MicroNanoSystemResearchCenter微米纳米加工技术微米纳米加工技术第三章：纳米压印技术第三章：纳米压印技术13 1）硬度:分别进行不同的硬度试验测试，包括硬度划痕试验和压痕硬度试验.在硬度划痕试验中，测试莫式硬度。在压痕硬度试验中，测试维氏硬度和努普硬度。2)导热性:必须考虑到模板和基片这两种材料导热性的差异。在降温过程中，两者导热性过大的差异，会使图形产生扭曲变形。通常的选用原则是，导热性越强越好，可以缩短整个加工周期，这有利于产量的提

8、高.模板材料随压印工艺而不同:1）软压印术先用硅作为母板，然后采用聚二甲基硅氧烷（PDMS)浇铸母板，最后得到PDMS模板(或模具);2）热压印一般采用镍(Ni)、铬(Cr)或碳化硅(厚度5.5mm)作为模板;MicroNanoSystemResearchCenter微米纳米加工技术微米纳米加工技术第三章：纳米压印技术第三章：纳米压印技术142.纳米压印技术原理和分类近十年间,各种创新的NIL工艺的研究陆续开展，其实验结果越来越令人满意，目前，大概归纳出四种代表技术:热压印光刻技术、紫外硬化压印光刻技术、软压印、激光辅助直接光刻技术。热压工艺是在微纳米尺度获得并行复制结构的一种成本低而速度快的

9、方法，仅需一个模具，完全相同的结构可以按需复制到大的表面上。2.1.1热压印2.1 热压印(HE-NIL)MicroNanoSystemResearchCenter微米纳米加工技术微米纳米加工技术第三章：纳米压印技术第三章：纳米压印技术15基本基本概念概念：利用电子束刻印技术或其他先进技术，把坚硬的压模毛坯加工成一个压模:然后在用来绘制纳米图案的基片上旋涂一层聚合物薄膜，将其放人压印机加热并且把压模压在基片上的聚合物薄膜上，再把温度降低到聚合物凝固点附近并且把压模与聚合物层相分离，就在基片上做出了凸起的聚合物图案(还要稍作腐蚀除去凹处残留的聚合物)热压印示意图热压印示意图热压印法的工艺过程分三

10、步:压模制备、压印过程、图形转移。MicroNanoSystemResearchCenter微米纳米加工技术微米纳米加工技术第三章：纳米压印技术第三章：纳米压印技术16纳米压印与图形转移技术纳米压印与图形转移技术MicroNanoSystemResearchCenter微米纳米加工技术微米纳米加工技术第三章：纳米压印技术第三章：纳米压印技术17热压印工艺流程：热压印工艺流程：1.首先，利用电子束直写技术(EBDW)制作一片具有纳米图案的Si或SiO2模版，并且准备一片均匀涂布热朔性高分子光刻胶(通常以PMMA为主要材料)的硅基板；模版的制备模版的制备MicroNanoSystemResearc

11、hCenter微米纳米加工技术微米纳米加工技术第三章：纳米压印技术第三章：纳米压印技术182.将硅基板上的光刻胶加热到玻璃转换温度(Glass Transfer Temperature)以上，利用机械力将模版压入高温软化的光刻胶层内，并且维持高温、高压一段时，使热塑性高分子光刻胶填充到模版的纳米结构内;热压印流程热压印流程热压印温度与时间曲线热压印温度与时间曲线MicroNanoSystemResearchCenter微米纳米加工技术微米纳米加工技术第三章：纳米压印技术第三章：纳米压印技术194.最后对硅基板进行反应离了刻蚀（Reactive Ion Etching)去除残留的光刻胶，即可以复

12、制出与模版等比例的纳米图案。3.待光刻胶冷却固化成形之后，释放压力并且将模版脱离硅基板；脱模及刻蚀过程脱模及刻蚀过程热压印温度与时间曲线热压印温度与时间曲线 降低热压印时PMMA和模版的粘附，使之易于脱模。MicroNanoSystemResearchCenter微米纳米加工技术微米纳米加工技术第三章：纳米压印技术第三章：纳米压印技术20 1.在光刻胶中添加一种特殊的氟化物材料(如用三乙氧基硅烷作氟基添加剂)，以减小光刻胶与模板的粘附作用;2.预先在基片底部涂一层与基底粘接性好的聚合物(如PMGI:聚甲基戊二酞亚胺)，这样既有利于脱模，又可使基底平整化;3.用一种高抗粘连的材料涂镀在模板内表面

13、，以利于脱模;为避免压印时有机溶剂与模板腔体之间残留气孔，最好在真空状态下工作。多层结构压印依靠模板四角标记对准，对准精度比较差，通常在微米级，故多用于单层结构压印。为便于脱模应尽量减小有机溶剂和模板间的粘附力，常用方法有：MicroNanoSystemResearchCenter微米纳米加工技术微米纳米加工技术第三章：纳米压印技术第三章：纳米压印技术211.刻蚀技术刻蚀技术：刻蚀技术以聚合物为掩模，对聚合物层进行选择性刻蚀，从而得到图案；图案转移技术图案转移技术：纳米压印纳米压印/刻蚀工艺刻蚀工艺MicroNanoSystemResearchCenter微米纳米加工技术微米纳米加工技术第三章

14、：纳米压印技术第三章：纳米压印技术222.剥离技术剥离技术：先采用镀金工艺在表面形成一层金层，然后用有机济剂进行溶解，有聚合物的地方要被溶解，于是连同它上面的金一起剥离.这样就在衬底表面形成了金的图案层。纳米压印纳米压印/剥离剥离/刻蚀工艺刻蚀工艺MicroNanoSystemResearchCenter微米纳米加工技术微米纳米加工技术第三章：纳米压印技术第三章：纳米压印技术23实例实例 1 ：MicroNanoSystemResearchCenter微米纳米加工技术微米纳米加工技术第三章：纳米压印技术第三章：纳米压印技术24材料：50 nm mr-I 8030熱壓：(115+90)C,125

15、 bar,15 min材料：4 m Plex 6792熱壓：(79+90)C,125 bar,15 min实例实例 2 ：MicroNanoSystemResearchCenter微米纳米加工技术微米纳米加工技术第三章：纳米压印技术第三章：纳米压印技术25光胶线宽、残余厚度和热压（光胶线宽、残余厚度和热压（50bar）温度、时间之间的关系）温度、时间之间的关系MicroNanoSystemResearchCenter微米纳米加工技术微米纳米加工技术第三章：纳米压印技术第三章：纳米压印技术26PMMA热压后形状松弛热压后形状松弛模仁尺寸：44 mm熱壓溫度：175CPMMA厚度：270 nm熱壓

16、時間：30minMicroNanoSystemResearchCenter微米纳米加工技术微米纳米加工技术第三章：纳米压印技术第三章：纳米压印技术27优点：优点：热压印相对于传统的纳米加工方法，具有方法灵活、成本低廉和生物相容的特点，并且可以得到高分辨率、高深宽比结构。热压印的缺点是需要高温、高压、且即使在高温、高压很长时间，对于有的图案，仍然只能导致聚合物的不完全位移，即不能够完全填充印章的腔体。存在的问题：存在的问题：使用热压印光刻技术的热朔性高分子光刻胶必须经过高温、高压、冷却的相变化过程，在脱模之后压印的图案经常会产生变形现象，因此使用热压印技术不易进行多次或三维结构的压印，为了解决此问题，有人开始研发一些可以在室温、低压下使用的压印光刻技术。热压印的优点及存在的问题热压印的优点及存在的问题 ：MicroNanoSystemResearchCenter微米纳米加工技术微米纳米加工技术第三章：纳米压印技术第三章：纳米压印技术283.紫外光固化压印技术（UV-NIL）紫外纳米压印示意图紫外纳米压印示意图 M.Bender和M.Otto提出一种在室温、低压环境下利用紫外光硬化高分子的