第二章第二章 近代材料分析仪器近代材料分析仪器五 俄歇谱仪一、俄歇谱仪原理EEEKL1L1L1M1M1L2,3VVMg俄歇谱电子逃逸深度各种电子的发射深度电子逃逸深度与动能的关系俄歇电子能量图二、俄歇谱仪框图AESAuger Electron Spectroscopy俄歇谱仪结构框图AES谱EbEELS三、应用:AuNiCu合金300氧化的AES谱AuNiCu合金氧化富Ni区深度剖图溅射时间/minNi1Au3InP沉积Ni膜的AES剖图沉积态沉积态退火态退火态Ta-Si膜界面的AES剖图304不锈钢真空加热表面成分535745不同Ni材断裂表面的AES谱真空熔炼区域熔炼黄铜应力腐蚀断裂的AES谱韧性区韧性区穿晶区穿晶区O浓度随距离变化Cu/Zn比随浓度变化回火脆研究Gr/Ni多层膜的深度剖图625合金极化后的元素浓度剖图0.3V0.6V0.9VMo/SiO2多层膜的AES剖图Al2O3和Al的AES谱17ev18ev碳不同化学态的KVV俄歇峰