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1、用蚀刻系数的高低来衡量侧蚀量的大小。蚀刻系数越高，侧蚀量越少。在印制板的蚀刻操作中，希望有较高的蚀刻系数，尤其是高密度的精细导线的印制板更是如此。镀层增宽:在图形电镀时，由于电镀金属层的厚度超过电镀抗蚀层的厚度，而使导线宽度增加，称为镀层增宽。镀层增宽与电镀抗蚀层的厚度和电镀层的总厚度有直接关系。实际生产时，应尽量避免产生镀层增宽。镀层突沿:金属抗蚀镀层增宽与侧蚀量的总和叫镀层突沿。如果没有镀层增宽，镀层突沿就等于侧蚀量。蚀刻速率:蚀刻液在单位时间内溶解金属的深度（常以mmin表示）或溶解一定厚度的金属所需的时间（min）。溶铜量:在一定的允许蚀刻速率下，蚀刻液溶解铜的量。常以每升蚀刻液中溶解

2、多少克铜（g/l）来表示。对特定的蚀刻液，其溶铜能力是一定的。（关闭本窗口）【电镀铜中氯离子消耗过大原因分析】本文讨论印制线路板硫酸盐镀铜中出现氯离子消耗过大的现象，分析原因。目前随着印制线路板向高密度、高精度方向发展，对硫酸盐镀铜工艺提出了更加严格的要求，必须同时控制好镀铜工艺过程中的各种因素，才能获得高品质的镀层。下面针对镀铜工艺过程中出现氯离子消耗过大的现象，分析氯离子消耗过大的原因。出现氯离子消耗过大的前因镀铜时线路板板面的低电流区出现无光泽现象，氯方子浓度偏低；一般通过添加盐酸后，板面低电流密度区的镀层现象才能消失，镀液中的氯离子浓度才能达到正常范围，板面镀层光亮。如果要通过添加大量

3、盐酸来解决低电流密度区镀层现象，就不一定是氯离子浓度太低而造成的，需分析其真正的原因。如果采取添加大量盐酸：一来，可能会产生其它后果，二来增加生产成本，不利于企业竞争。正确分析低电流密度区镀层无光泽原因通过添加大量的盐酸来消除低电流密度区镀层不光亮现象，说明如是氯离子过少，才需添加盐酸来增加氯离子的浓度达到正常范围，使低电流密度区镀层光亮。如果要添加成倍的盐酸才能使氯离子的浓度达到正常范围？是什么在消耗大量的氯离子呢？氯离子浓度太高会使光亮剂消耗快。说明氯离子与光亮剂会产生反应，过量的氯离子会消耗；反过来，过量的光亮剂也消耗氯离子。因为氯离子过少和光亮剂过量都是造成低电流密度区镀层不光亮的主要

4、原因，因此可见，造成镀铜中氯离子消耗过大的主要原因是光亮剂浓度太高。【印制电路板镀槽溶液的控制】印制电路板镀槽溶液的控制主要目的是保持所有化学成分在工艺规定的范围内。因为只有在工艺规定的参数内，才能确保镀层的化学和物理性能。控制所采用的工艺方法有多种类型，其中包括化学分折、物理试验及溶液的酸值测定、溶液的比重或比色测定等。这些工艺方法都是为确保槽液的参数的准确性、一致性和稳定性。控制方法的选择是由积层类型而定。如高分散能力、光亮高酸低铜电镀槽液的参数确定，是通过化学方法所提供的分折数据进行调整或调节；化学沉铜溶液除化学分析外，还要进行PH酸值的或比色测定等。如果分析后其化学成分在工艺范围内；就

5、要非常注意其它参数的变化和被镀基板表面状态，如镀液的温度、电流密度、装挂的方法及基板表面处理状态对槽液的影响。特别是要控制光亮酸性镀铜液的无机杂质-锌，超过所容许的工艺规定数值，就会直接影响铜层的表面状态；电镀锡铅合金槽液必须严格的控制铜杂质的含量，如超过一定数量，就会影响锡铅合金镀层的润湿性和可焊性能及防护性。虽然分析方法对于镀液控制是可靠的，但也不能保证获得良好的镀覆层。因此，还必须借助于电镀试验。特别是很多电镀槽为确保镀层的具有良好的电气性能和机械性能，都添加有机添加剂以改善镀层结构和性能。这些添加剂靠化学分析的方法很难奏效，采用电镀试验的工艺方法进行分析和对比，它作为控制镀液化学成分的

6、重要的补充手段。补充控制包括测定添加剂含量并进行调整，过滤及净化，这些需要由霍氏电镀槽试验板上去进行认真的“观察”，再由样板镀层分布状态，进行研究和分析及推论，达到改进或改善工艺步骤目的。一、电镀试验电镀槽液的控制原则应当包括镀液的主要化学成分。要达到正确的判断，需采用先进的、可靠的试验仪器和分析方法，有些槽液还需采用辅助手段如：测定其比重、酸值（PH）等。为能直接观察镀层表面状态，现绝大部分生产厂家采用霍氏槽试验的工艺方法。具体的试验步骤是将试验板倾斜37与长边的长度相同，阳极垂直并沿着长边放。阳极到阴极距离的变化，将会沿着阴极作有规律的规距，其结果沿着试验板电流不断变换。从试验板电流分布的

7、状态，就能科学的判断电镀槽液所采用的电流密度是否在工艺规定的范围以内。同样也可观察添加剂含量对电流密度的直接影响及对表面镀层质量的影响。见图1：Hull试验槽平面透视图二、弯曲阴板试验法：采取此法是因为它能掩盖一个较宽的范围，它暴露一个角，由于垂直形它的上部与下部表面均能适应电介作用。由此可试验出电流范围、分散能力的优劣。见图2：弯曲阴极试验法示图 三、判断与推论：通过上述所采用的试验方法，就可以通过试验板的实际记录，首先就可以判断电镀时在试验板的低电流区出现的现象，就可以判断需在添加附加剂；而在高电流区，镀层就会出现表面粗糙、发黑及不规则的外观等缺陷，这说明槽液内含有无机金属杂质直接影响镀层

8、表面状态。如镀层表面呈现凹坑，即表示要减低表面张力。被破坏的电镀层常表现槽液内存有过量的附加剂和分解等。这类现象都充分说明要及时分析和调整，使槽液的化学成分符合工艺所规定的工艺参数。则过量的附加剂和分解的有机物都必须采用活性炭等进行处理、过滤和净化。总之，尽管采用电脑自动进行控制，但还必须借助于辅助手段进行试验，方可做到双保险。所以，过去常用的控制方法还需采用或者作进一步的研究和开发出新的试验工艺方法和仪器设备，使印制电路板的电镀和涂覆工艺更加完善。【电镀板孔边发生圈状水纹】现象：单板，全板，每个孔都有，孔边，水纹状，像水洗不洁的残留液自然风干后的情形。可能的原因和解决方案：该现象有人称为鱼眼

9、现象，是这个现象则和电镀的光泽剂及药液内的氯含量有关系，如果纯粹是水纹的残留，则较可能的原因是在烘干前的水洗不够完整，导致孔内的残液在烘干时流出干燥于板面导致水纹现象，这种现象尤其以小孔或深孔较容易发生，水纹应是呈泪滴状而非同心圆，而且杯孔边的区域也会有部份的烘干时所造成的漂散水滴痕迹，这样的现象原则上改善水洗会有帮助，仅供参考。【多层板孔金属化工艺探讨】本文主要论述了多层板的去钻污和沉铜工艺，剖析了各工步的原理及作用。一、前言众所周知，孔金属化是多层板生产过程中最关键的环节，她关系到多层板内在质量的好坏。孔金属化过程又分为去钻污和化学沉铜两个过程。化学沉铜是对内外层电路互连的过程；去钻污的作

10、用是去除高速钻孔过程中因高温而产生的环氧树脂钻污（特别在铜环上的钻污），保证化学沉铜后电路连接的高度可靠性。二、孔金属化多层板工艺分凹蚀工艺和非凹蚀工艺。凹蚀工艺同时要去除环氧树脂和玻璃纤维，形成可靠的三维结合；非凹蚀工艺仅仅去除钻孔过程中脱落和汽化的环氧钻污，得到干净的孔壁，形成二维结合，单从理论上讲，三维结合要比二维结合可靠性高，但通过提高化学沉铜层的致密性和延展性，完全可以达到相应的技术要求。非凹蚀工艺简单、可靠，并已十分成熟，因此在大多数厂家得到广泛应用。高锰酸钾去钻污是典型的非凹蚀工艺。工艺流程环氧溶胀二级逆流漂洗高锰酸钾去钻污二级逆流漂洗中和还原二级逆流漂洗调整二级逆流漂洗粗化二级

11、逆流漂洗预浸离子钯活化二级逆流漂洗还原水洗化学沉铜二级逆流漂洗预浸酸预镀铜工艺原理及控制溶胀目的：溶胀环氧树脂，使其软化，为高锰酸钾去钻污作准备。配方名称配比温度时间NaOH20g/l60-805min已二醇乙醚30g/l已二醇2g/l水其余环氧树脂是高聚形化合物，具有优良的耐蚀性。其腐蚀形式主要有溶解、溶胀和化学裂解（如：浓硫酸对环氧树脂主要是溶解作用，其凹蚀作用是十分明显的）。根据“相似相溶”的经验规律，醚类有机物一般极性较弱，且有与环氧树脂有相似的分子结构（R-O-R），所以对环氧树脂有一定的溶解性。因为醚能与水发生氢键缔合，所以在水中有一定的溶解性。因此，常用水溶性的醚类有机物作为去钻

12、污的溶胀剂。溶胀液中的氢氧化钠含量不能太高，否则，会破坏氢键缔合，使有机链相分离。在生产中，常用此中方法来分析溶胀剂的含量。去钻污利用高锰酸钾的强氧化性，使溶胀软化的环氧树脂钻污氧化裂解。35g/l7510minKMnO455g/lNaCIO 0.5g/l高锰酸钾是一种强氧化剂，在强酸性溶液中，与还原剂作用，被还原为Mn2+；在中性和弱碱性环境中，被还原为MnO2；在NaOH浓度大于2moL/L，被还原为MnO42-。高锰酸钾在强酸性的环境中具有更强的氧化性，但在在碱性条件下氧化有机物的反应速度比在酸性条件下更快。在高温碱性条件下，高锰酸钾使环氧树脂碳链氧化裂解：4MnO4-+C环氧树脂+40

13、H- = 4MnO42-+CO2（g）+2H2O同时，高锰酸钾发生以下副反应：4MnO4- +40H- = 4MnO42- + O2（g） + 2H2O MnO42-在碱性介质中也发生以下副反应：MnO42- + 2H2O + 2e- = MnO2（s） + 40H-NACIO作为高锰酸钾的再生剂，主要是利用其强氧化性使MnO42-氧化为MnO4-。还原去除高锰酸钾去钻污残留的高锰酸钾、锰酸钾和二氧化锰配方：H2SO4100mL/lNaC2O4 30g/l温度 40锰离子是重金属离子，它的存在会引起“钯中毒”，使钯离子或原子失去活化活性，从而导致孔金属化的失败。因此，化学沉铜前必须去除锰的存在

14、。在酸性介质中：3MnO42-+4H+ = 2MnO4-+MnO2（s）+2H2O2MnO4-+5C2O42-+16H+ = 2Mn2+10CO2（g）+8H2O5C2O42-+MnO2+4H+ = Mn2+2CO2+2H2O由以上反应可知，通过还原步骤，可完全去除高锰酸钾去钻污残留的高锰酸钾、锰酸钾和二氧化锰。有关资料中，也有用肼类化合物及其他一些强还原性物质进行还原处理的，这主要是从塑料电镀中处理残留的沿用过来的，也具有一定的效果，但对二氧化锰的作用，有待探讨，这就需要尽量避免二氧化锰的生成。调整调整孔壁电荷配方：阴离子型表面活性剂 0.5g/l为使环氧树脂表面在后序处理中吸附到均匀的钯离

15、子，必须把印制板津入到含有阴离子表面活性剂中，使其表面吸附到一层均匀负性的有机薄膜。粗化除去铜表面的有机薄膜；微观粗化铜表面。H2SO4100mL/lH2O280ML/lNH2CH2NH210g/l调整处理时，在环氧树脂吸附有机表面活性剂的同时，铜表面也形成了一层有机薄膜。如果不加以处理，这层薄膜将使铜表面在活化溶液中吸附大量的钯离子，造成钯离子的大量浪费，同时，由于薄膜的存在，将降低基体铜层与化学镀铜层的结合力。经粗化处理后，基体铜层形成微观粗糙表面，增加结合力。预浸预防带入杂质；润湿环氧树脂孔壁。1mL/l；有机碱络合剂20mL/l由于活化液的使用周期较长，且活性受杂质影响明显，所以在活化

16、前必须进行预浸处理，防止杂质积累，影响其活性。在预浸液中，络合剂和活化液中的络合剂相同，但由于预浸液呈酸性，络合剂以盐的形式存在，其并没有络合能力，仅是浸润孔壁，为络合钯离子作准备。活化为形成化学沉铜所需的活化中心做准备。PbCL20.3g/l络合剂X5g/lHBO3去离子水余量在活化溶液中，络合剂的选择和PH的控制十分重要。首先，铜比钯有更强的金属活性，PbCl2的标准氧化还原电位是-0.268V（PbCl2+2e-=Pb+2Cl-）,Cu2+的标准氧化还原电位是0.337V（Cu2+2e-=Cu），铜和钯离子是很容易发生置换反应的：Cu+PbCl2=CuCl2+Pb因此，作为离子型活化液，

17、要防止PCB上的铜箔和钯离子发生反应，必须加入能与钯离子形成稳定络合物的络合剂。根据软硬酸碱理论（硬亲硬，软亲软），属于交界酸的PB2+与交界碱能形成稳定的络合物，可提高钯的氧化还原电位，避免发生置换反应。另外，值对钯离子的活性影响很大，当PH二级水洗-微蚀-酸洗-DI水洗-成膜风干-干燥1、除油除油效果的好坏直接影响到成膜质量。除油不良，则成膜厚度不均匀。一方面，可以通过分析溶液，将浓度控制在工艺范围内。另一方面，也要经常检查除油效果是否好，若除油效果不好，则应及时更换除油液。2、微蚀微蚀的目的是形成粗糙的铜面，便于成膜。微蚀的厚度直接影响到成膜速率，因此，要形成稳定的膜厚，保持微蚀厚度的稳

18、定是非常重要的。一般将微蚀厚度控制在1.0-1.5um比较合适。每班生产前，可测定微蚀速率，根据微蚀速率来确定微蚀时间。3、成膜成膜前的水洗最好采有DI水，以防成膜液遭到污染。成膜后的水洗也最好采有DI水，且PH值应控制在4.0-7.0之间，以防膜层遭到污染及破坏。a、工作液的有效物浓度对成膜速率有一定影响，尽量控制工作液的有效物浓度稳定是重要的。b、控制PH值的稳定（PH3.0-3.2）。PH值的变化对成膜速率的影响较大。PH值越高，成膜速率越大，PH值越低，则成膜速率越慢。c、控制成膜液温度的稳定也是必要的。因为成膜液变化对成膜速率的影响比较大，温度越高，成膜速率越快。d、成膜时间的控制。

19、成膜时间越长，成膜厚度越大。根据实测的膜厚来确定成膜时间。成膜厚度的控制OSP工艺的关键是控制好防氧化膜的厚度。膜太薄，耐热冲击能力差，在过回流焊时，膜层耐不往高温（190-00C），最终影响焊接性厚，在电子装配线上，膜不能很好的被助焊剂所溶解，影响焊接性能。一般控制膜厚在0.2-0.5um之间比较合适。检测方法：1、除油效果检测方法一般认为，经除油后，板面裸铜面在水洗后能形成水膜且在15秒钟内不破裂，说明除油效果良好。否则，可考虑补充或更换除油剂。2、微蚀速率测定方法a、取7cm X 7cm的1.6mm厚双面铜箔板，面积记为S（cm2）；b、放入烘炉中，在90-100C烘30分钟；c、在防潮

20、瓶内冷却至室温，用分析天平称重W1（克）；d、随生产板浸入生产线内的除油缸中，并于微蚀缸后取出（保证浸蚀时间跟生产板一致），微蚀时间记为t（分钟）；e、用水清洗后，于烘炉中90-100f、在防潮瓶中冷却至室温，用分析天平犯法重W2（克）；g、计算：蚀铜速率（微米/分钟）=10000 X （W1-W2）/（8.92 X 2 X S X t）3、成膜液有效物浓度的测定方法a、工作液1.0ml，用去离子水稀释至500ml，混匀；b、在751分光光度计上，于269 1nm用去离子水作参比，校零；c、换a步骤的溶液，测定吸光度A；d、计算：有效物浓度（%）=280 X A4、成膜厚度测试方法a、将一片4

21、0mm X 50mm的单面裸铜板与生产板一起在OSP生产线上处理；b、将已处理的板放在一干净的250ml烧杯中；c、用移液管取50ml5%的盐酸液，放入烧杯，轻摇烧杯，三分钟后将板拿出；d、用5%的盐酸校零，在751G分光光度计上，于269.1nm处测吸光度；e、再以c步骤准备的液体更换，读取在170nm处的吸光度A；f、计算：膜厚（微米）=0.7 X A经工艺的测算，除油、微蚀槽及水溶性助焊剂浸涂槽的三个槽的比例控制在1：1：2.5。如果浸涂槽太长，在一定的传送速度下，通过除油、微蚀槽的时间相对会缩短，将会影响成膜的质量。风力和烘干系统对成膜的均匀性、厚度有很大影响，要求浸涂的有机可焊保护剂

22、（OSP）后的吹干段能够将多余的残液吹尽，否则后续的纯水将带走板面上多余的残液，而使此处的涂覆层偏薄，致使外观不均匀。另外浸涂前段吹干是非常重要的。水份带入浸涂液易造成成膜的减薄。吹风的冷风易造成成膜液温度的下降，吹干的风太热易造成进料段的结晶。由此，风力和烘干系统的控制调整十分重要。【金属化板板面起泡成因及对策探讨】本文介绍了对一例孔金属化板板面起泡现象产生原因的分析，并就分析提出各种解决方法。最终确定引起孔金属化板板面起泡的原因。现象:一次，更换沉铜槽槽液后，化学镀后的双面板经全板电镀厚铜后发现板面起泡，并伴有结瘤。起泡处形状不规则，目测其形状跟某种液体的自然流动而留下痕迹相似，并且每一处

23、起泡都是以点开始的。分析:孔金属化的典型工艺流程是：化学沉铜（去油水洗粗化水洗酸性预浸活化水洗还原（1）还原（2）沉铜），全板电镀厚铜（水喷淋酸预浸全板电镀水洗钝化水洗风干）。根据工艺流程直接否定了故障产生于电镀工段，因为电镀流程简单，如果产生这一现象，那末唯一的工序就是全板电镀，即是说电镀槽引入有机杂质。但是，共用电镀槽的图形电镀铜却没任何问题，因而确定产生于化学沉铜工段。在化学沉铜工段，我们将重点放在还原与沉铜工序。因为根据更换槽液前的处理效果，去油与活化都不错，粗化与此现象没太大关系，而且这几槽槽液都没有更换。根据起泡形状分析认为：这是由还原液引起，因为沉铜液的配制严格按照供应商提供的参数执行，还原液也是刚刚配制的，还原剂中引入杂质可能导致这一现象。还原剂的成份不清楚，只知是浓缩液。还原之后没有水洗，直接进行化学沉铜，这使杂质带入沉铜槽成为可能。解决方案:经与供应商联系，供应商建议将还原（2）改为蒸馏水水洗。采用建议后，情况有所改观，但