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1、A又沉积下来。图2-8在温度梯度下，固体物原法。就是用一种金属还原金属合化物（氧化 物、卤化物）的方法还原条件：这种金属对非金属的亲和力要比被还 原的金属大。还原剂的选择原则：比较生成自由能的大小可 以作为选择还原用金属的依据可以用两种上 的金属作为还原剂时，主要考虑（1）还原力强 （2）容易处理（3）不能和生成的金属生成合金（4）可以制得高纯度的金属（5）副产物容易和 生成金属分离（6）成本尽可能低加入溶剂的目的：&改变反应热b.使熔渣易于分 离。染和电磁的干扰，同时要求有一个不影响其热稳 定性的环境。例如有些热电偶不宜于氧化气氛, 但有些又应避免还原气氛。在不合适的气氛环境中，应以耐热材料

2、套管将其密封，并用惰性气体 加以保护，但这样就会多少影响它的灵敏度。当热感滞后易于装配维护，使用方便。主要作用点是出两 根线连成的很小的热接点，两根线较细，所以热 惰性很小，有良好的热感度。能直接与被测物 体相接触，不受环境介质如烟雾、尘埃、二氧化 碳、蒸气等影响而引起误差,具有较高的准确度, 可保证在预期的误差以内。测温范围较广，一 般可在室温至2000C左右之间应用，某些情况 其至可达3000C。测量讯号可远距离传送， 并由仪表迅速显示或自动记录，便于集中管理。5.什么是低温下的分级冷凝：所谓低温下的分级冷凝就是让一个气体混合物通过不同低温的冷阱，由于气体的沸点不同，就分别冷凝在不同低 温

3、的冷静内，从而达到其分离的目的。6.III溶胶一凝胶合成法有什么优点：（1）通过各种 反应物溶液的混合，很容易获得需要的均相多组 分体系；（2）对材料制备所需温度可大幅度降低, 从而能在较温和条件下合成出陶瓷、玻璃、纳米 复合材料等功能材料；（3）由于溶胶的前驱体可 以提纯而且溶胶-凝胶过程能在低温下可控制的 进行，因而可制备高纯或超纯物质，且可避免在 高温下对反应容器的污染等问题；（4）溶胶或凝胶的流变性质有利于通过某种技 术如喷射、旋涂、浸拉、浸渍等制备各种膜、纤 维或沉积材料。溶胶一凝胶合成法最近有哪些进展：复合材料 的制备薄膜材料的制备陶瓷材料的制备7.自蔓延高温合成反应（SHS）的关

4、键技术： 引燃技术燃烧波点火辐射流点火其它: 激光点火法、火花点火、电热爆炸、微波能点火、 化学（自燃式）点火，及线性加热等等。SHS制 粉技术化合法：气体合成化合物或复合化合物 粉末的制备还原化合法（带还原反应的SHS） 热爆技术：指在加热钟罩内对反应物进行加热，达到一定温度后，整个试样将重新出现燃烧 反应，合成可在瞬间完成。通常用来合成金属件 化合物8.高压在合成中起什么作用：高压可提高反应 速率和产物的转化率，降低合成温度，大大缩短 合成时间。高压可使容许因子偏小、而利用 一般常压高温方法难于合成的化合物得以顺利 合成，如PrTmO3等。高压有增加物质密度、 对称性、配位数的作用和缩短键

5、长的倾向。高 压合成较易获得单相物质，可以提高结晶度。 高压高温可以起到氧化作用，获得高氧化态的化 合物，也可以起到还原作用。在一定的条件下, 高压也可促进化合物的分解。高压可以抑制固体 中原子的扩散，也可促使原子的迁移。高压 既可以抑制非晶晶化过程，也可以促进非晶晶化 过程。高压还可以改变原子的自旋态，也可使某 些元素在晶体中具有优选位置的作用等等。9.1=|或在哪些情况下需要利用高压合成技术：在大 气压（O.IMPa）条件下不能生长出潢意的晶体； 要求有特殊的晶型结构；晶体生长需要有高的 蒸气压；生长或合成的物质在大气压下或在熔 点以下会发生分解；在常压条件下不能发生化i=i=i学反应而只

6、有在高压条件下才能发生化学反应； 要求有某些高压条件下才能出现的高价态（或 低价态）以及其它的特殊的电子态；要求某些 高压条件下才能出现的特殊性能等情况。10.点缺陷有哪几种存在的方式：空位间隙 原子杂质替代原子缔合中心缺陷的表示方法：空位缺陷用V （Vacancy）表 示杂质缺陷用杂质的元素符号表示电子缺 陷用e （electron的字首）表示空穴缺陷用h （hole的字首）表示。什么是硝基特点缺陷：11.光的吸收遵从什么定律：Beer-Lambert定律 光化学反应的实质是：光致电子激发态的化学反 应12.什么是理想完整晶体的科塞尔机制：晶体生 长机制大致可分为以下几个阶段:原子由母相 介

7、质吸附在生长晶面上;扩散至台阶处并附着 在台阶上；扩散至扭折处并稳定地堆砌到晶 相上.13.为什么先进陶瓷制备科学是必须的：为了实 现具有均匀性和重复性的无缺陷显微结构以便 提高可靠性14.9I El|=:纳米材料有哪些特征：比表面特别大表 面张力大焰点降低磁性的变化光学性质 变化随着粒子的纳米化，超导临界温度Tc逐 渐变化离子导电性增加低温下热导性能好 比热容增加化学反应性能提高QD纳米粒子 比表面积大，表面活性多，催化效率高力学性 能变化15.什么是激光气相合成法：激光气相合成法是 利用定向高能激光器光束制备纳米粒子。其包括 激光蒸发法、激光溅射法和激光诱导化学气相沉 积（LICVD）,前

8、二种方法主要是物理过程。激光 气相合成法的特点：（1）反应器壁为冷壁，为制粉 过程带来一系列好处。反应区体积小而形状规 则、可控。（3）反应区流场和温场可在同一平面, 比较均匀，梯度小，可控，使得几乎所有的反应 物气体分子经历相似的时间一温度的加热过程o （4）粒子从成核、长大到终止能同步进行，且反应 时间短，在13 s内，易于控制。（5）气相反应 是一个快凝过程,冷却速率可达105-106C / s,l=J有可能获得新结构的纳米粒子。（6）能方便地一步 获得最后产品。16.I三1=1水热法的特点是什么：由于在水热与溶剂 热条件下反应物反应性能的改变、活性的提高， 水热与溶剂热合成方法有可能代

9、替固相反应以 及难于进行的合成反应.并产生一系列新的合成 方法。由于在水热与溶剂热条件下中间态、介 稳态以及特殊物相易于生成，因此能合成与开发 一系列特种介稳结构、特种凝聚态的新合成产 物。能够使低熔点化合物、高蒸气压且不能在 融体中生成的物质、高温分解相在水热与溶剂热 低温条件下晶化生成。水热溶剂热的低温、等 压、溶液条件，有利于生长极少缺陷、取向好、 完美的晶体，且合成产物结晶度高以及易于控制 产物晶体的粒度。由于易于调节水热与溶剂热 条件下的环境气氛，因而有利于低价态、中间价 态与特殊价态化台物的生成，并能均匀地进行掺 杂。17.人工合成单晶有什么办法：气相生长溶 液生长熔体生长固相生长

10、18.陶瓷材料的液相合成方法：沉积法：直 接沉积法共沉淀法：非水溶剂洗涤，共沸蒸积法 化学还原法：溶液中还原法：BH4-还原：水 和非水介质、BE13H-还原、碱金属还原19.合成材料中温度如何定：差热分析等20.立方晶体的生长过程中粒子进入是如何成键 的：（科塞尔机制、能量最低）21.水热法制备粉体有哪些具体的方法：水热析 晶法、水热金属氧化法、水热分解法、水热电化 学法以及水热微波法等22.自蔓延高温合成法的特点：利用原料本身的 热能来制备原料23.最常用的加温设备常温电解炉的工作温度范:10003000 C24.高压合成法起到什么反应效果：改变物质的 原子间距和原子壳层状态25 .固相合

11、成反应的机制: 根据上述的分析和实验的验证,MgA1204生成反应的机制应该可由下列（a）, （b）二式表出：2AJi +4MfQ MgMd（b） MgAl2O4 /A.12O3 齐面- 2AP * +4ALd 3MeA.L2O4总反应为MgO+A12O3 = MgAl2O426.画出流动制备单晶的示意图并加以说明:图20-24 流动法示意图在变温法生长晶体过程中,不再补充溶液或溶质, 故生长晶体的尺寸受到限制，要生长更大的晶体， 可用流动法.27.画出电子陶瓷制备过程的流程图：（见附页）28.水热法的流程图： 舰的水热含成实验程序选择反应物严祸是合成物料的普方 配料序摸索.混料搅粪蜜封箜 确

12、定反应温度、时间、埃态（静止与动态晶化）辇拎M （空气拎、水冷）釜虹样苓滤，干燥常学显微镒观察晶貌与粒度分布.粉末x射奴彳行射物相分析 - -29.以图示说明理想完整晶体的生长模型：30.化学分离物质的方法：常规分离：重结晶、 分级结晶和分级沉淀、升华、分馅、离子交换和色谱分离、莘取分离等 特种 分离：低温分馋、低温分级蒸发冷凝、低温吸附 分离、高温区域熔融、晶体生长中的分离技术、 特殊的色谱分离、电化学分离、渗析、扩散分离 等31.无机合成最常用的方法、设备：加热反应； 各种高温电阻炉、聚焦炉、闪光放电、等离子体 电弧、激光、原子核的分离和聚变、高温粒子32.先进陶瓷材料的研究内容、主要4个方面： 先进陶瓷材料足凝聚态物理、固态化学、结晶化 学、胶体化学以及各有关工程科学等多学科的边 缘学科，其主要内涵包括材料的合成与制备、组 成与结构、材料的性能与使用效能四方面