海德能反渗透膜清洗方法Word文档格式.docx

1、为维持正常的产水量，经温度校正后的给水压力增加 1015%产水水质降低1015%透盐率增加1015% 给水压力增加1015%系统各段之间压差明显增加（可能没有仪表监测该参数）。在运行数据未标准化的情况下，如果关键参数没有改变，上述清洗原则依然可以 适用。保持稳定的运行参数主要是指产水流量、 产水背压、回收率、温度及TDS 如果这些运行参数起伏不定，强烈建议标准化数据以确定是否有污染发生， 或者 在关键运行参数有变化的前提下反渗透的实际运行是否正常。海德能公司提供标 准化软件ROdata.xls，可从海德能公司的网站 t下载。定时监测系统整体性能是确认膜元件是否已发生污染的基本方法。 污染对膜元

2、件的影响是渐进的，并且影响的程度取决于污染的性质。 表-1 “反渗透系统故障诊断一览表”列出了常见的污染现象及其对膜性能的影响。 已受污染的反渗透膜的清洗周期根据现场实际情况而定。正常的清洗周期是每 3-12个月一次。如果在1个月以内清洗一次以上，就需要对反渗透预处理系统做进一步调整和改善，如 追加投资，或重新进行反渗透系统设计。表-1反渗透系统故障诊断一览表故障种类可能发生位置压降给水压力盐透过率金属氧化物（Fe/Mn）一段最前端膜元件迅速增加胶体污染（有机和无机混合物）逐渐增加轻度增加难溶盐类（Ca/Mg/Ba/Sr）末段最末端膜元件适度增加一般增加聚合硅沉积物增加生物污染任何位置通常前端

3、膜兀件明显增加有机物污染（难溶NOM）所有段降低阻垢剂污染末段最严重氧化损坏一段最严重水解损坏（超岀pH范围）一般降低磨蚀损坏（颗粒物）O型圈渗漏（内连接管或适配器）无规则（通常在两端适配器）膜元件外壳破损（由撞击造成）（运输或安装间隙）可能降低可能增加膜卷突出（压差过大导致）两端膜元件当膜元件仅仅是发生了轻度污染时， 重要的是清洗膜元件。重度污染则会阻碍化 学药剂深入渗透至污染层，影响清洗效果。如果膜元件的性能降低至正常值的 30-50%,那么，欲完全恢复膜元件出厂时的初始性能是不可能的。在反渗透系统设计中，可使用反渗透产品水冲刷系统中的污染物以降低清洗频 率。用产品水浸泡膜元件可有助于污垢

4、的溶解、脱落，降低化学清洗的频率。清洗何种污染物以及如何清洗要根据现场污染情况而进行。 对于几种污染同时存在的复杂情况，清洗方法是米用低 pH和高pH的清洗液交替清洗。膜元件受到污染时，往往通过清洗的方式来恢复膜元件的性能。清洗的方式一般 有两种，物理清洗（冲洗）和化学清洗（药品清洗）。物理清洗（冲洗）是不改变污染 物的性质，使用机械性的冲刷清除膜元件中的污染物，恢复膜元件的性能。化学清洗是使用相应的化学药剂，改变污染物的组成或属性，然后排出膜元件， 恢复膜元件的性能。吸附性低的粒子状污染物，可以通过冲洗（物理清洗）的方式 达到一定的效果，像生物污染这种对膜的吸附性强的污染物使用冲洗的方法很难

5、 达到预期效果。冲洗已经很难去除污染物时，应停止装置并采用化学清洗。为了 提高化学清洗的效果，清洗前，有必要通过对污染状况进行分析， 确定污染的种 类（详细参照第九章相关内容）。在掌握污染物种类、成分、数量的基础上，选择 合适的清洗药品是清洗成功的关键因素。化学清洗与物理清洗并是可以相互配合的两种清洗手段。 在面对轻度污染时，采用物理清洗时添加一些化学药品可以使清洗效果倍增，同样在严重污染采用化学 清洗时也可以使用一些物理性的强化手段来增强化学清洗的效果。8.3污垢成份碳酸钙垢碳酸钙垢是一种矿物结垢。当阻垢剂/分散剂添加系统出现故障时，或是加酸 pH 调节系统出故障而引起给水pH增高时，碳酸钙

6、垢有可能沉积出来。尽早地检测 碳酸钙垢，对于防止膜层表面沉积的污垢结晶损伤膜元件是极为必要的。 早期检测出的碳酸钙垢可由降低给水的 pH值至3-5，运行1-2小时的方法去除。对于 沉积时间长的碳酸钙垢，可用低 pH值的柠檬酸溶液清洗去除。硫酸钙、硫酸钡、硫酸锶垢硫酸盐垢是比碳酸钙垢硬很多的矿物质垢，且不易去除。硫酸盐垢可在阻垢剂 /分散剂添加系统出现故障或加硫酸调节 pH时沉积出来。尽早地检测硫酸盐垢对 于防止膜层表面沉积的污垢结晶损伤膜元件是极为必要的。硫酸钡和硫酸锶垢较 难去除，因为它们几乎在所有的清洗溶液中难以溶解，所以应特别加以注意。磷酸钙垢磷酸钙垢在高含磷的市政污水处理中是较为常见的

7、。通常这种垢可用酸性清洗液 去除。目前 在海德能公司的R0设计软件中未包含磷酸盐垢的计算。 如果在给水 中磷酸盐的含量达到或大于5ppm请与海德能公司联系。金属氧化物/氢氧化物污染典型的金属氧化物和金属氢氧化物通常为铁、锌、锰、铜、铝等金属的化合物。 这种垢可能是管路、容器（罐/槽）的腐蚀产物，金属材料会被空气、氯、臭氧、 高锰酸钾氧化，或者来自于预处理过滤系统中使用的铁或铝混凝剂。聚合硅垢硅胶垢去除困难，来自于可溶性硅过饱和或聚合反应。 硅胶垢与硅基胶体污染不 同，后者可能与金属氢氧化物和有机物有关。采用传统的清洗方法几乎无法对付 硅垢，如果遇到清洗不利的情况请联系海德能公司。 现在也有一些

8、非常利害的药 剂，如氟化氢氨在一些地方成功应用，但它的毒性很大，对设备也有害。胶体污染胶体是悬浮在水中的无机物或是有机与无机混合物的颗粒， 它不会由自身重力而沉淀。胶体物通常含有以下一个或多个主要组份：铁、铝、硅、硫或有机物。溶解性天然有机物污染（NOM溶解性天然有机物污染（NOM Natural Organic Matter ）通常是由地表水或深 井水中的营养物分解所致。有机污染的化学机理很复杂，主要的有机组份或是腐 植酸，或是灰黄霉酸。非溶性NOM被吸附到膜表面可造成RO膜元件的快速污染， 一旦吸附作用产生，凝胶或块状的污染过程就会开始。微生物沉积有机沉积物是细菌粘泥、真菌和霉菌等沉淀物，

9、这种污染物较难去除，尤其是在 给水通路被完全堵塞的情况下。给水通路堵塞会使清洁的进水难以充分均匀的进 入膜元件内。为抑制这种沉积物的进一步生长，重要的是不仅要清洁和维护 RO系统，同时还要清洁预处理、管道及端头等。对膜元件采用氧化性杀菌时，请与 海德能公司技术支持部门联系，使用海德能公司认可的杀菌剂。8.4物理清洗1物理清洗的意义物理清洗是通过低压力、高流速的进水冲刷膜元件，将短时间内在膜表面附着的 污染物和堆积物清洗掉的方式。图-1清洗时膜面的状态示意图2清洗要点清洗时的要点是高流速，低压力和清洗频率。（1）清洗的流速装置运行时，附着性高的颗粒状污染物逐渐堆积在膜表面。如果清洗时的流速与 运

10、行时的流速相等或更低，则很难把这些污染物从膜元件中冲洗出来。 因此，清洗时应使用比正常运行时更高的流速（一般可考虑为正常运行浓水流速的1.2 倍）。而实际上膜元件两端的压差与进水流量成正比，单只膜元件的压力差不允 许超过0.7bar，因此海德能公司对单只膜元件的最大进水流量作了严格的限制， 请在清洗时遵循以下规定。表-2运行时单只膜壳浓水流量范围规格单只容器的浓水流量单只容器的最大进水流量8英寸膜壳7.2-12.0 m 3/hr17.0 m3/hr4英寸膜壳1.8-2.5 m 3/hr3.6 m3/hr（2）清洗压力正常高压运转时，压力直接垂直作用膜面，使进水透过膜面得到产水，同时污染 物也被

11、压向膜面。所以在清洗时，如果采用同样的高压，则污染物被积压在膜表 面，清洗的效果就会降低。清洗时尽可能的通过低压，高流速的方式，增加水平 方向的剪断力把污染物冲出膜元件。清洗压力一般建议控制在 3.0bar以下。如 果在3.0bar以下，很难达到流量要求时，尽可能控制进水压力，以不出产水为 标准。一般进水压力不能大于 4.0bar。（3）清洗频率条件允许的情况下，建议经常对系统进行清洗。增加清洗的次数比延长1次清洗 的时间更为有效。一般清洗的频率推荐为1天1次以上。根据具体的情况，顾客 可以自行规定清洗的频率。清洗用水一般使用合格的预处理产水即可， 清洗时的 流量、时间以及压力条件归纳在表-3

12、中。表-3清洗条件膜尺寸压力频率时间（in ch）（bar）（次/日）（分）83.0以下1次以上10-1543清洗步骤（1）停止装置缓慢地降低操作压力，逐步停止装置。急速停车造成的压力急速下降会形成水锤， 将会对管道、压力容器以及膜元件造成冲击性损伤。调节阀门首先全开浓缩水阀门；然后关闭进水阀门；接着全开产水阀门 （如关闭系统后关闭了产水阀门）。如果错误的关闭产水阀门，压力容器中的后端的膜元件可能因 为产水背压而造成膜元件机械性损伤。（3）清洗作业首先启动低压清洗泵；然后缓慢地打开进水阀，同时观察浓缩水流量计的流量； 调节进水阀门直至流量和压力调节到设计值； 最后在10-15分钟后慢慢地关闭进 水阀门，停止进水泵。8.5化学清洗1化学清洗药品的选择与使用选择适宜的化学清洗药剂及合理的清洗方案涉及许多因素。首先要与设备制造 商、RO膜元件厂商、或RO寺用化学药剂及服务人员取得联系。确定主要的污染 物，选择合适的化学清洗药剂。有时针对某种特殊的污染物或污染状况， 要使用RO药剂制造商的专用化学清洗药剂，并且在应用时，要遵循药剂供应商提供的