原子力显微镜实验报告南京大学Word格式.docx

1、当探针与样品接触时,由于它们原子之间存在极微弱的作用力（吸引或排斥力） ,引起微悬臂偏转。扫描时控制这种作用力恒定,带针尖的微悬臂将对应于原子间作用力的等位面,在垂直于样品表面方向上起伏运动, 因而会使反射光的位置改变而造成偏移量，通过光电检测系统（通常利用光学、电容或隧道电流方法） 对微悬臂的偏转进行扫描,测得微悬臂对应于扫描各点的位置变化, 此时激光检测器会记录此偏移量，也会把此时的信号给反馈系统，以利于系统做适当的调整。将信号放大与转换从而得到样品表面原子级的三维立体形貌图像。AFM 的核心部件是力的传感器件, 包括微悬臂（Cantilever） 和固定于其一端的针尖。根据物理学原理,施

2、加到Cantilever 末端力的表达式为：F = KZZ 表示针尖相对于试样间的距离, K 为Can2tilever 的弹性系数，力的变化均可以通过Cantilever 被检测。（2） AFM关键部位：AFM关键部份是力敏感元件和力敏感检测装置。所以微悬臂和针尖是决定AFM灵敏度的核心。为了能够准确地反映出样品表面与针尖之间微弱的相互作用力的变化,得到更真实的样品表面形貌,提高AFM 的灵敏度,微悬臂的设计通常要求满足下述条件: 较低的力学弹性系数,使很小的力就可以产生可观测的位移; 较高的力学共振频率; 高的横向刚性,针尖与样品表面的摩擦不会使它发生弯曲; 微悬臂长度尽可能短;微悬臂带有能

3、够通过光学、电容或隧道电流方法检测其动态位移的镜子或电极; 针尖尽可能尖锐。 （3） AFM的针尖技术探针是AFM的核心部件。如右图。 目前,一般的探针式表面形貌测量仪垂直分辨率已达到0.1 nm ,因此足以检测出物质表面的微观形貌。 普通的AFM 探针材料是硅、氧化硅或氮化硅（Si3N4 ） ,其最小曲率半径可达10 nm。由于可能存在“扩宽效应”,针尖技术的发展在AFM中非常重要。探针针尖的几何物理特性制约着针尖的敏感性及样品图像的空间分辨率。 因此针尖技术的发展有赖于对针尖进行能动的、功能化的分子水平的设计。 只有设计出更尖锐、更功能化的探针, 改善AFM 的力调制成像（force mo

4、dulation imaging） 技术和相位成像（phase imaging）技术的成像环境,同时改进被测样品的制备方法,才能真正地提高样品表面形貌图像的质量。（4） AFM的工作模式AFM 有三种不同的工作模式: 接触模式（ contact mode） 、非接触模式（noncontact mode） 和共振模式或轻敲模式（Tapping Mode） 。接触模式接触模式包括恒力模式（constant2force mode） 和恒高（constant2height mode） 。在恒力模式中过反馈线圈调节微悬臂的偏转程度不变,从而保证样品与针尖之间的作用力恒定,当沿x 、y 方向扫描时,记录Z

5、 方向上扫描器的移动情况来得到样品的表面轮廓形貌图像。这种模式由于可以通过改变样品的上下高度来调节针尖与样品表面之间的距离,这样样品的高度值较准确,适用于物质的表面分析。在恒高模式中,保持样品与针尖的相对高度不变,直接测量出微悬臂的偏转情况,即扫描器在z 方向上的移动情况来获得图像。这种模式对样品高度的变化较为敏感,可实现样品的快速扫描,适用于分子、原子的图像的观察。接触模式的特点是探针与样品表面紧密接触并在表面上滑动。针尖与样品之间的相互作用力是两者相接触原子间的排斥力,约为10 - 8 10 - 11N。接触模式通常就是靠这种排斥力来获得稳定、高分辨样品表面形貌图像。但由于针尖在样品表面上

6、滑动及样品表面与针尖的粘附力,可能使得针尖受到损害,样品产生变形, 故对不易变形的低弹性样品存在缺点。非接触模式非接触模式是探针针尖始终不与样品表面接触,在样品表面上方520 nm 距离内扫描。针尖与样品之间的距离是通过保持微悬臂共振频率或振幅恒定来控制的。在这种模式中,样品与针尖之间的相互作用力是吸引力范德华力。由于吸引力小于排斥力,故灵敏度比接触模式高,但分辨率比接触式低。非接触模式不适用于在液体中成像。轻敲模式在轻敲模式中,通过调制压电陶瓷驱动器使带针尖的微悬臂以某一高频的共振频率和0。 011 nm 的振幅在Z 方向上共振,而微悬臂的共振频率可通过氟化橡胶减振器来改变。同时反馈系统通过

7、调整样品与针尖间距来控制微悬臂振幅与相位,记录样品的上下移动情况,即在Z 方向上扫描器的移动情况来获得图像。由于微悬臂的高频振动,使得针尖与样品之间频繁接触的时间相当短,针尖与样品可以接触,也可以不接触,且有足够的振幅来克服样品与针尖之间的粘附力。 因此适用于柔软、易脆和粘附性较强的样品,且不对它们产生破坏。这种模式在高分子聚合物的结构研究和生物大分子的结构研究中应用广泛。（5） AFM中针尖与样品之间的作用力AFM检测的是微悬臂的偏移量,而此偏移量取决于样品与探针之间的相互作用力。 其相互作用力主要是针尖最后一个原子和样品表面附近最后一个原子之间的作用力。当探针与样品之间的距离d 较大（大于

8、5 nm） 时,它们之间的相互作用力表现为范德华力（Van der Waals forces） 。 可假设针尖是球状的,样品表面是平面的,则范德华力随1Pd2 变化。 如果探针与样品表面相接触或它们之间的间距d 小于0。3 nm ,则探针与样品之间的力表现为排斥力（Pauli exclusion forces） 。 这种排斥力与d13 成反比变化,比范德华力随d 的变化大得多。 探针与样品之间的相互作用力约为10 - 6 10 - 9N ,在如此小的力作用下,探针可以探测原子,而不损坏样品表面的结构细节。 简而言之，原子力显微镜的原理是：将一个对微弱力及其敏感的长为100-200微米的Si或S

9、i3N4材料的微悬臂一端固定，另一端有一个针尖，针尖与样品表面轻轻接触，针尖尖端原子与样品表面原子间的及其微弱的作用力，使微悬臂发生弯曲，通过检测微悬臂背面反射出的红色激光光点在一个光学检测器上的位置的变化可以转换成力的变化（被反射激光点位置变化或是微悬臂梁弯曲的变化与力的变化成正比），通过控制针尖在扫描过程中作用力的恒定同时测量针尖纵向的位移量，从而最终还原出样品表面的形貌像。四、 实验步骤1、 微探针的安装（已安装就绪）。激光束及光斑的调节（已就绪）。2、依次开启：电脑、控制机箱、高压电源、激光器。2、 安装样品。松开螺丝，将样品卡进去，然后旋紧，注意不能碰到探针。3、 用粗调旋钮将样品逼

10、近探针，相距小于1mm。4、 再用细挑旋钮使样品缓慢逼近探针，直到光斑突然移动。说明样品与针尖的距离已经足够近到发生相互作用力。5、 缓慢回调细调旋钮并观察机箱读数至PSD信号约为1.6V，反馈信号约为-100到-200之间。6、 读数稳定之后，打开电脑上的扫描软件开始扫描。存储扫下的第三张图片，并对其进行一定分析。7、 操作完毕时，细调反转到底，然后反转粗调退出样品。按照打开的反顺序依次关闭所有仪器。注意事项：1、操作中皆不可碰到探针，以免探针损坏。在操作过程中也不要再看PSD光路，以免使光路不再对准。2、调整型号到一定数值，是为了在扫描样品的时候探针正常工作，使扫描 过程中信号也保持在一定

11、范围内。3、取第三张图是因为前两张因为不稳定不是很好，第三张左右开始稳定。五、 实验数据及分析1. A4纸片的二维表面形貌2、A4纸片的三维表面形貌3、A4纸片的粗糙度粗糙度 Ra: 24.9 nm ; Ry: 235.4 nm ; Rz: 235.4 nm扫描范围 X: 4000 nm ; Y: 4000 nm图像大小 X: 400 pixel ; 400 pixel4、分析数据通过对比同组同学做的其他样品的实验，如铜片和玻璃片。A4纸片的表面起伏褶皱和粗糙度明显提高。符合宏观上的观察结果。对于表面粗糙度评定系数，附录有如下说明：1、 轮廓算术平均偏差Ra在取样长度L内，轮廓偏转距绝对值的算

12、术平均值。2、 微观不平度十点高度在取样长度内五个最大的轮廓峰高的平均值与五个最大的轮廓谷深的平均值之和。3轮廓最大高度在取样长度内，轮廓峰顶线和轮廓谷底线之间的距离。从图中及数据结果不难看出：Ra变化很小，即轮廓算术平均偏差变化小，而 Ry和 Rz变化比较大，Ry表示微观不平度，Rz表示轮廓最大高度。表示A4纸张表面轮廓虽然起伏比较大，有200nm左右，但是起伏的算术平均值较小，起伏比较均匀，在一定范围内上下波动比较平均。六、 思考题1、AFM探测到的原子力的由哪两种主要成分组成？一种是分子间的吸引力即范德瓦耳斯作用力，第二种是电子云重叠而引起的排斥相互作用。2、怎样适用男公关AFM和CCD

13、光学显微镜，才能较好的保护探针？ 在实验过程中，特别是取放样品，调整粗调旋钮和细调旋钮的时候，不能碰到探针。还有在调整细调旋钮时，注意观察PSD信号，信号变动就立即停止靠近。扫描过程中，尽量不要产生外界扰动，以防探针撞上样品。3、原子力显微镜有哪些应用？STM显微镜仅适用于与导体和半导体，而原子力显微镜AFM适用面更广。可以用于研究金属和半导体的表面形貌、表面重构、表面电子态及动态过程,超导体表面结构和电子态层状材料中的电荷密度等。通过原子力显微镜对于材料表面形貌成像时，微悬臂探针与样品之间的作用力变化可反映样品表面的三维形貌。由于样品表面的高低起伏形貌能够准确地通过数值的形式得到。原子力显微

14、镜对材料表面整体图像进行分析就可以得到样品表面的粗糙度、颗粒度、平均梯度、孔结构和孔径分布等参数。原子力显微镜也可对样品的形貌进行丰富的三维模拟显示，使图像更适合于人的肉眼直接观察。科研者们在晶体的生长理论在其发展过程的过程中提出了很多模型，但是这些模型大多来自于理论分析的间接研究，其和真实的晶体生长情况究竟是否相同，这是研究者们最为关心的，因此人们希望通过显微镜直接观察晶面的生长过程。虽然研究者们利用光学显微镜、相衬干涉显微镜、激光全息干涉术等对晶体晶面的生长观测也取得了一些成果，但是由于这些显微技术分辨率太低，放大倍数不足，或者实验条件要求过高，所以出现了很多的限制因素，难以对生长界面进行纳米尺度级别的分子和原子进行直接的观测。原子力显微镜的发展则为研究者们提供了一个纳米尺度观测，研究晶体生长界面过程的全新而有效的手段。利用其高的分辨率和可以在溶液与大气环境下工作的特点，研究者们能够精确地实时