口腔正畸学复习考试重点.docx
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口腔正畸学复习考试重点
口腔正畸学(orthodontics)是研究错合畸形(maloccusion)的病因机制、诊断分析及其预防和治疗的科学。
错合畸形是指儿童在生长发育过程中,由先天的遗传因素或后天的环境因素导致的牙齿、牙弓、颌骨、颅面的大小、形态、位置异常,这种不协调引起的各种畸形。
个别正常he:
凡轻微的错he畸形,对于生理过程无大的妨碍者,都可列入正常he范畴。
这种正常范畴内的正体he,彼此之间又有所不同,称之为个别正常he
理想正常he:
保存全副牙齿,牙齿在上下牙弓排列的很整齐,上下牙的尖窝关系完全正常,上下牙弓的he关系非常理想。
预防矫治:
在牙颌颅面的胚胎发育和后天发育过程中,各种先天和后天环境因素均可影响其发育而造成错he畸形,而采取各种预防措施来防止各种错he畸形的发生,是预防矫治的主要内容。
阻断矫治:
当错he畸形发生的早期,通过简单的方法进行早期矫治,阻断错he畸形向严重发生,将he颌面的发育导向正常称为阻断矫治。
外科矫治:
对生长发育完成后严重的骨源性错he畸形需采用外科手术的方法来矫治其错he,称为正颌外科或外科正畸。
固定矫治器:
是指矫治器通过粘固剂将一些矫正附件粘固于牙面,通过矫正弓丝和牙上的附件发生关系来矫正牙。
活动矫治器:
纠正牙颌畸形的矫正装置,可由患者或医生自由摘戴,摘下时矫治器完整无损。
由固位装置卡环、邻间钩、基托、矫正弹簧等组成,患者可自行摘戴,多用于预防性矫治及阻断性矫治。
它靠卡环的固位和黏膜的吸附发挥矫治作用,由固位,加力和连接3部分组成。
功能性矫治器:
通过改变肌肉功能促进颌发育和颅面生长,从而矫正形成中的错颌畸形,最适用于生长发育的患者。
灵长间隙(primatespace):
生长发育过程中,在上颌乳尖牙的近中和下颌乳尖牙的远中出现间隙,一般称为灵长间隙,这是灵长动物的特征。
替牙间隙leewayspace乳尖牙及第一二乳磨牙的牙冠宽度总和比替换后的恒尖牙和第一二磨牙大,这个差值为替牙间隙。
在上颌单侧为0.9-1.0mm,下颌单侧为1.7-2.0mm
生理龄physiologicalage包括骨龄,牙龄,第二性征及形态学年龄。
毛氏分类法I类-牙量骨量不调II类-长度不调III-类宽度不调IV-高度不调
V类-个别牙错位VI类-特殊类型
颅底线(平面):
在头颅侧位X线片上,从鼻根点到bolton点的连线(平面),称为颅底线(平面),或bolton-鼻根点平面
面横平面:
也称frankfort平面,指从左右眶下缘最低点至左右外耳道上缘最高点的连线所成的平面。
覆盖下唇:
由于口腔不良习惯或其他因素,造成前牙深覆盖,则下唇自然处于上下前牙之间,而被上前牙所覆盖,这种不正常现象称为覆盖下唇或称为继发性下唇卷缩
拥挤度牙冠宽度的总和牙弓现有弧形长度之差。
分3度:
I度拥挤0-4mmII度。
8mm度大于4-8mmIII.
正常覆盖:
上切牙切缘到下切牙唇面的水平距离在3mm以内
深覆盖:
上下前牙切端的前后距离超过3mm以上者。
分3度I度:
3-5mmII度:
5-8mmIII度:
大于8mm
反覆盖:
下前牙切端位于上前牙切端之唇侧,常在严重的下颌前突、前牙反he时呈现
正常覆合normaloverbite:
上前牙覆盖过下前牙唇面不超过切1/3且下前牙切缘在上前牙舌面1/3以内者
深覆合deepoverbite:
上前牙覆盖过下前牙唇面超过1/3或下前牙切缘咬在舌上前牙舌面切1/3以上者.I度:
上前牙覆盖下前牙唇面超过切1/3而不足1/2,或下前牙切缘咬在上前牙舌面或超过切1/3而不足1/2者.II度:
上前牙覆盖下前牙唇面超过切1/2而不足2/3.,或下前牙切缘咬在上前牙舌面超过切1/2而不足2/3。
III度:
上前牙覆盖下前牙唇面超过切2/3或下前牙切缘咬在上前牙舌面超过劲1/3者。
开合openbite:
上下前牙切端间无覆牙合关系,垂直向呈间隙者为前牙开牙合。
I度:
上下前牙切端垂直向间隙在3mm以内II度:
上下前牙切端垂直向间隙在3-5mmIII度:
上下前牙切端垂直向间隙在5mm以上
反覆he:
咬合时下前牙舌面覆盖上前牙牙冠的唇面。
spee曲线:
连接下颌切牙的切缘、尖牙的牙尖、前磨牙的颊尖以及磨牙的近远中颊尖的连线,是一条连续的凹向上的纵he曲线
Moyers预测法:
Moyers提出的用下颌恒切牙的牙冠宽度总和来预测替牙列期未萌出的上下颌尖牙与前磨牙牙冠宽度的方法。
Bolton指数分析:
通过测量得出上下前牙牙冠宽度总和的比例关系与上下牙弓全部牙牙冠宽度总和的比例关系,来诊断患者上下牙弓中是否存在牙冠宽度不协调的问题。
Pont指数分析:
牙冠宽度与牙弓宽度之间存在一定的比例关系。
牙间交错he(ICO):
上下颌牙he面保持最大接触关系时的咬合状态。
X线头影测量:
主要是测量X线头颅定位照片所得的影像,对牙颌、颅面各标志点描绘出一定的线角进行测量分析,从而了解牙颌、颅面软硬组织的结构,使对牙颌、颅面的检查从表面形态深入到内部骨骼中去。
一般X线检查分析:
包括牙片、咬合片、颞下颌关节开闭口位片、全颌曲面断层片和手腕部X线片。
前颅底平面:
由蝶鞍点和鼻根点连线组成,在颅部的矢状平面上,代表前颅底的前后范围。
眼耳平面:
由耳点和眶点连线组成正常头位时与地面平行
阻抗中心(centerofresistance)在自由空间中物体的阻抗中心就是它的质心。
在重力场中它就是重心。
当力作用于一物体时,该物体周围约束其运动的阻力中心,称阻抗中心。
它受压根长度、形态、牙槽骨高度的影响而不同。
旋转中心(centerofrotation)物体在外力作用下形成转动时所围绕的中心称旋转中心。
矫治器:
一种治疗错he畸形的装置,可产生作用力,作用于颌骨、错位牙及牙周支持组织,以利于牙颌面的正常发育。
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支抗(anchorage):
正畸矫治过程中,任何施与矫治牙使其移动的力必然产生一个方向相反、大小相等的力,能抵抗矫治力反作用力的结构成为支抗。
肌激动器(activitor)
第一序列弯曲:
是在矫治弓丝上做水平向的一些弯曲,主要有内收弯和外展弯
第二序列弯曲:
是矫治弓丝垂直向的弯曲可使牙升高或压低,也可使牙前倾或后倾。
包括后倾弯、末端后倾弯、前倾弯、前牙轴倾弯
第三序列弯曲:
只在方弓丝上完成,是在方弓丝上做转矩而产生转矩力。
差动力(differentialforce):
当单根的前牙和多根的后牙之间使用交互持续轻力时,前牙相对快速倾斜后移,而后牙几乎不动,如果较大的力应用于同一情况,则后牙趋于近中移动,而前牙移动受阻。
这实际上是不同牙对同一力的“不同反应”,这就是差动力的根本意义。
矫形力:
用于移动牙弓、颌骨位置或诱发骨组织改建从而刺激颌骨生长的矫治力,其力值远远大于移动牙的正畸力。
早期矫治:
是指在儿童早期生长发育阶段,一般指青春生长发育高峰前或生长发育高峰时,对已表现出的牙颌畸形、畸形趋势及可导致牙颌畸形的病因进行的预防、阻断、矫正和导引治疗。
牙列拥挤:
是最常见的错he畸形表现,可单独存在也可伴其他错he畸形,前者称为单纯拥挤后者称为复杂拥挤
邻面去釉(interproximalenamelstripping):
是非拔牙矫治方法之一,可单独使用,也可以与其他矫治措施如牙弓扩展、拔牙矫治联合应用。
后牙反he:
往往因为上颌牙弓狭窄或上颌后压舌侧倾斜所造成。
少数是由下颌牙弓过宽或下颌后牙颊倾引起。
可单侧也可双侧发生,可个别后牙也可多数后牙反he。
锁he:
分为正锁he反锁he,前者是上颌后牙舌尖的舌斜面位于下颌后牙颊尖颊斜面的颊侧。
颌面无咬合接触,后者是上后牙颊尖的颊斜面位于下后牙舌尖舌斜面的舌侧,颌面无咬合接触。
小范围牙移动(MTM)牙齿移动范围及距离较小、矫治目的单一、方法简单的单纯牙性畸形的正畸治理。
复发(relapse):
错HE畸形矫治后,牙或颌骨都有退回到原始位置的趋势,正畸临床上称之为复发。
保持:
为了巩固牙颌畸形矫治完成后的疗效、保持牙位于理想的美观及功能位置而采取的措施
自然保持:
是指利用自然力来进行保持,不需要带保持器
支抗丢失:
当反作用力承受体与作用力对象同处一颌或互为对颌,作为承受体的牙可能因为抵抗不住反作用力而出现移动或倾斜,即支抗丢失
倾斜移动(tippingmovement):
牙冠与牙根作相反方向移动(最常见)。
整体移动(bodilymovement):
牙冠与牙根作相同方向等距离移动。
控根移动(controllingrootmovement):
牙冠不动而牙根移动。
旋转移动(rotationmovement):
牙体绕牙长轴的转动。
平动(translation):
当一外力力线通过牙的阻力中心时,牙产生单纯平动,此时旋转中心距阻力中心无穷远。
转动(rotation):
当一力偶在以阻力中心为圆心在对应的等距离处反向作用于牙体时,牙产生单纯转动,此时旋转中心在阻力中心处。
牙伸长或压低:
是指将牙向外拉出伸长时,牙槽骨的基底部和牙槽窝周边的牙周膜纤维受牵拉多,有新骨沉积,很少出现骨吸收现象。
拔牙序列(serialextraction)是应用于替牙颌期通过拔牙手段矫治严重牙列拥挤的一种传统方法,又称为萌出诱导
填空
1.错颌畸形的矫治方法:
预防矫治,阻断矫治,一般矫治和外科矫治。
2.矫治器分为固定矫治器、可摘矫治器和功能性矫治器。
错牙合畸形的矫治标准:
个别正常牙合。
矫治目标:
平衡、稳定、美观3.
4.颅面生长发育研究方法:
人体测量法、组织切片法、X线投影测量法、放射
性同位素法、种植体法。
5.牙列与牙合的发育可分为乳牙牙合期、替牙牙合期和恒牙牙合期。
牙齿的发
育要经过发生期、钙化期及萌出期三个阶段
6.婴儿颅面三个软骨分布区:
鼻部、颅底、下颌髁突软骨表面。
7.常用的颅面分界面有两个:
颅底线和面横平面
8.颅面骨骼的三种发育方式:
软骨的间质及表面增生、骨缝间的间质增生、骨
的表面增生
9.错合畸形的病因分为内在的遗传因素(先天性)和外界的环境因素(后天性)正畸治
10.过程中通常可分为两个阶段:
生物力学阶段和生物学阶段。
11.遗传因素通过两种途径影响错牙合畸形的形成:
a牙的大小与颌骨大小之间遗传性的不协调b上下颌大小或形状之间的遗传性的不协调
12.遗传性错合畸形主要通过重复表现、断续表现和变化表现三种表现形式。
常见的遗传因素的错合畸形有颜面不对称性牙间隙,牙列拥挤,牙的数目、形态、萌出时间异常,下颌前突、上颌前突、下颌后缩合深覆牙合等
13.上颌第一磨牙是颌关键,各类错颌畸形都是由下颌、下牙弓在近远中间的错位引起的
14.x线头影测量是生长发育和分析错牙合机制的重要手段
15.牙弓应有长度或必须间隙:
一般测量下颌第一磨牙前牙弓内各个牙的牙冠宽度其总和。
意义:
a.判断上下牙弓的不调试发生在上颌或下颌,为前牙或全部牙的宽度异常b.bilton指数分析可协助判断和分析形成的机制,并可为制订治疗计划时的参考因素之一。
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16.牙列拥挤矫治手段包括减数拔牙、扩大牙弓和临面去釉
正畸矫治力的来源:
金属弹性丝、各种橡皮圈、永磁体、肌收缩力。
17.
18.如何减少牙根吸收?
尽可能的缩短疗程,减少牙根移动距离,用轻的间断力.
19.根据矫治器的作用目的分类:
矫治性,预防性,保持性;根据矫治力来源分
类:
机械性,磁力性,功能性
20.支抗的种类:
颌内支抗,颌间支抗,颌外支抗
21.现在最常用的功能矫治器为FR—Ⅲ。
解决前牙反颌;Herbst矫治器为功能性矫治器