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TFC膜系设计中文教程

TFC膜系设计中文教程

TFCalcExamples

Antireflection(AR)FiltersPageAR-1

Single-Layer

Description这是最古老的AR设计。

假定入射介质是空气,基板具有折射率Ns,那么折射率小于Ns的任何药材组成的四分之一波长厚度的膜层,其反射在参考波长下都最小。

若膜层的折射率是Ns的平方根,则其反射在参考波长处是零。

但若Ns,1.9,则不存在反射可以降到零的永久药材。

在这种情况下,我们需要一个两层的膜系。

Plot裸的基板的反射率大约是4.2%,四分之一波长厚度的MgF2会将其在550nm处Comment的反射降到大约1.3%。

Antireflection(AR)FiltersPageAR-2

Two-Layer(Vcoating)

Description一个两层膜的AR膜系比单层的在反射上有更多的控制。

一个两层膜的滤波器可以在某单一波长处反射为0,这就是称其为V-coating的原因。

对于给定的两个药材,可以有两种产生0反射的设计。

但此种膜系的缺点就在于0反射处波长对于加工误差很敏感,这可以用本软件显示其敏感度来说明。

Plot此图显示的是两种设计的反射。

一个相当厚的ZrO2膜层处在玻璃基板和MgF2膜Comment层之间。

为使反射降到0,可以用优化来确定两个膜层的厚度。

Antireflection(AR)FiltersPageAR-3

Two-Layer(Wcoating)

Description一个两层膜的AR膜系比单层的在反射上有更多的控制。

一个两层膜的滤波器的另一特性是可使某一范围内的反射很低(但不为0)。

这就是为什么称它为W-coating。

Plot这是经典的H/2L/4设计。

Comment

Antireflection(AR)FiltersPageAR-4

Three-Layer

Description一个三层膜的AR膜系比两层的在反射上可以有更多的控制。

这种膜系的成功之处很大程度在于找到三种折射率可以和基板,入射介质相兼容的药材。

Plot这是经典的M/4H/2L/4设计。

它具有在一定程度上消除色差的优点。

Antireflection(AR)FiltersPageAR-5

Four-LayerTwo-Material

Description三层的AR膜系为了得到最好的性能,需要3种药材,这是其弱点,也很难找到。

现在,只要将贴着基板的那个膜层用等价的3层的膜堆取代,就可以克服这一缺点,这里的膜堆是由其它两种药材组成的。

Thelen依据W.Geffcken的理论给出了不同基板的设计的表格。

但应用优化,对于指定的基板和波长范围,我们可以很容易的设计出4层的膜系。

Plot细线表示的是用等价的膜堆HLH取代膜层1后的4层设计的反射曲线。

在对450---650nm优化后,其反射就是粗的那条曲线。

注意反射范围已经改在0—0.5%,以更清楚的显示其性能。

Antireflection(AR)FiltersPageAR-6

Two-Zero

Description对于一个在两个波长处抗反射的膜系来说,一个三层膜的设计便是其基础。

这样的膜系在倍频处(即一处的波长是另一处的2倍)经常发生。

通常的设计是使用三个四分之一波长厚度的膜层,用优化来调整两个膜层的折射率,使在想要的两个波长处的反射为0。

若调整后的折射率与实际药材的不接近,则其中一层或两层都要被等价的LHL膜堆代替。

在这种情况下,需要再次优化设计,以校正因LHL膜堆带来的轻微色散造成的影响。

Plot这并不是一个倍频的例子;波长是600和1100。

此时,我们允许优化来调整膜层的厚

度和折射率。

不同的折射率会被由ZrO2和MgF2组成的不同的膜堆所代替。

同样的技术对各种各样的基板都有效。

Antireflection(AR)FiltersPageAR-7

Graded-Index

Description就像提到的,非均匀的膜系都适合高折射率的基板,例如GE。

通常,非均匀膜层的折射率是单调的从基板变化到入射介质。

直线型的,指数型的以及双曲线型的折射率轮廓与此都很相似。

一个非均匀膜系可以用一系列折射率不同的均匀膜层模拟出来。

然后用优化来改善这些离散的滤波器的性能。

Plot这是GE上的一个宽带的AR膜系。

上面的曲线是最初的10层的设计的反射,它的四分之一波长厚度的膜层的折射率线性地由1.35变化到3.735。

通过优化,其反射得到了实质性的降低,如图中下面的曲线。

Antireflection(AR)FiltersPageAR-8

Graded-Index,EqualRipple

DescriptionThelen提出了一些有关具有均等波动属性的AR膜系生产的理论。

但是,这些合成方法的一个基本问题是依赖于实际中不存在的折射率。

一个可以替换的方法是用优化来创造一个均等波动的膜系。

如,在前一页的Graded-Index设计中,在长波段处,反射升高了,这看起来很不顺眼。

将优化目标改成不等式就可补救这一点。

Plot通过将优化目标改成R,0.5,来改善GE上的这个宽带的AR膜系;然后,我们努力向均等波动设计的方向优化,如上图所示。

反射图以波数为函数来突出反射曲线的对称。

Antireflection(AR)FiltersPageAR-9

WideBand

Description通过增加膜层的数量,运用优化,设计宽带AR膜系还是有可能的。

Plot此图显示的是个21层设计的反射。

此设计基板是Ge,药材是Ge和ZnS。

其RMS优化函数的值是0.6%。

Antireflection(AR)FiltersPageAR-10

Detector-Relative

Description若一个检波器的特性已知,则设计一个为它而优化的AR膜系还是有可能的。

考虑到人眼对可见波段不同波长的敏感度不同,我们可以尽可能降低此膜系的反射光量,来为此检波器设计一个AR膜系。

Plot这是个四层的例子,我们通过优化使反射光量最小。

细线是原始设计;粗线是优化后设计。

反射光量由0.08%降到0.04%。

BandpassFiltersPageBP-1

Fabry-Perot

Description此滤波器实质上是两个镜子间的cavity(模槽)。

随着模槽尺寸的增加,或者随

着镜子中膜层的增加,图中PEAK的宽度都会降低。

cavity(模槽)必须是波长一半的整数。

(,)

若因加工误差导致PEAK在一个较大的波长处产生,可以斜移膜系将PEAK移动到想要

的波长处。

Plot

BandpassFiltersPageBP-2

PhaseConjugate

Description此设计比起前面的Fabry-Perot滤波器来,对加工误差的敏感度要小些。

主要

PEAK轻微的飘离了参考波长。

Plot

BandpassFiltersPageBP-3

Narrow-Band

Description运用多个模槽可以创建一个窄的带通滤波器。

增加模槽的尺寸可以增加曲线过

度处的倾斜度,但这样做,会在一定程度上降低通过区域的宽度。

Plot这是个含有三个模槽的滤波器。

BandpassFiltersPageBP-4

Wide-Band

Description创造一个很宽的带通滤波器的一个技术就是:

镀上两个edgefilter。

将一短波通

过滤波器镀在一个长波通过滤波器的上面,或者将这两个滤波器分别镀在基板的两边。

此技

术的优势就在于很容易放置这两个滤波器,使得可以很容易的创造几乎任何宽度的滤波器。

Plot此例子是由“LongWavePass3”和“ShotWavePass”创造而来

BeamSplittersPageBS-1

Neutral

Description此种滤波器的目的就在于将给定波段内的入射光束分成两部分。

虽然50%-50%

是最常见的分法,但其他比例的分法同样需要。

入射角度可以是垂直的,也可以不是。

在非

垂直入射下,比例的影响是个很重要的考虑因素。

在非垂直入射下,此种膜系会被放置在两个棱镜之间,使得入射和出射介质一样。

和抗反射膜系一样,优化提供了最好的设计方式。

如果使用dielectric(绝缘的)药材,垂直入射的情况就可以设计出来,然后在调整膜层的厚度来适应不同的入射角度。

Plot这是个由TiO2和SiO2组成的8层的膜系,通过优化,可以在400-700nm处将光束分成50%-50%的比例。

BeamSplittersPageBS-2

ColdMirror

Description这是个dichroic(二色性的)滤波器的例子,它可以一个波段内通过,而在另一个波段内反射。

对于一个ColdMirror,红外波段要通过,可见光波段要反射。

用一个edgefilter也可以达到这个目的,但通常在截止处没必要像edgefilter那样的陡峭。

在一些应用中,反射光的颜色很重要。

若投光源已知,就已经对此膜系进行优化了。

此种类型的另一个膜系-HotMirror,则是在红外波段反射,在可见光波段通过。

Plot这是个由TiO2和SiO2组成的12层的膜系,通过优化,可以在400-700nm段反射,在800-2000nm段透过。

BeamSplittersPageBS-3

Polarizing

Description斜移edgefilter并优化提高P分量的透过,就可以创造一个绝缘的偏振光束分离器。

虽然用两种药材在brewster(.布儒斯特角)处可以设计出最宽的偏振范围,但在其他

角度处同样设计出这样的滤波器也并不困难。

Plot在525-565nm段优化一个edgefilter。

BeamSplittersPageBS-4

Nonpolarizing

Description在非垂直入射下设计非偏振光束分离器是个困难的问题。

Thelen阐明了几种理论方法,这给我们优化提供了一个好的开始。

Plot这是个17层的MgF2-AnS膜系,它于45度时在一个相当宽的波段内反射是20%。

P和S分量都在目标的1%内。

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