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ICPMS主流产品技术参数

赛默飞世尔XSeriesII电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)

新一代是XSeriesII当前世界上最小的台式ICP-MS,其所用空间甚至小于一些AAS系统。

创新的保护性离子提取技术和InfinityII型离子透镜技术,使XSeriesII具有同类产品中最低的背景噪声。

此外,第三代碰撞反应池技术(CCT)可以使用简单碰撞气体,反应气体,和混合气体。

有效地消除由样品集体或等离子体源引起地多原子离子地干扰,并保证副反应最小化。

伴随Xt和Xs接口应用,进一步改善了检出限。

半导体控温系统和碰撞反应池技术使XSeriesII ICP-MS成为当前四级杆ICP-MS仪器中拥有最高地信噪比性能。

     高性能四极杆分析器所需的高真空系统由一个全新的分流式涡流分子泵后接一个机械泵提供。

可以使用7%氢气/氦气混合气或1%氨气/氦气混合气于CCT模块中。

这样便解决了将高纯度的氢气或氨气直接通入CCT中所造成的潜在的腐蚀问题。

同时也大大提高了仪器的稳定性和操作安全性。

     同时型模拟/脉冲检测器以及其实时的多通道电子学系统提供了大于8个量级的动态线性范围,这使得仪器能够同时适应稳定信号和瞬时信号分析。

【技术参数】

灵敏度(cps/mg/L):

Be>7×106     In>60×106     U>60×106

背景噪声(cps):

<0.5(220amu)

信噪比:

>120×106

短期稳定性:

<1.5%RSD

长期稳定性:

<3%RSD

氧化物离子:

CeO+/Ce+<2%

检出限(3,ng/L):

Be<3Co,In,U<0.5

同位素比精度:

<0.2%(107Ag/109Ag)

热焰高灵敏度模式:

灵敏度(cps/mg/L):

In>200×106    U>200×106

背景(cps):

<1(220amu)

高灵敏度模式信噪比:

>200×106

冷焰模式:

检出限(3,ng/L):

Li<1;Na<29;K<20;Ca<30;Fe<5。

第二代碰撞池技术模式:

检出限(3,ng/L):

Se(80)<20;As(75)<50。

灵敏度(cps/mg/L):

In>20

方法检出限MDL:

Fe<3ng/L

稳定性:

<2%RSD(10min)

背景ArO:

Co比(10ng/L):

质量数56与59之比<3

【详细参数】

ICP源:

27.12MHz全固态技术,晶控,动态调谐的RF发生器,最大功率1600W。

计算机控制功率调节,每10W连续调节,最佳功率设置被定义并储存在每个分析方法内,适用于不同种类的样品,计算机自动点火与熄火。

炬管:

整体型石英炬管,1.5mm口径喷射。

炬位调整:

计算机全面控制x、y、z三维炬管的精确位置(水平,垂直采样深度),所有调整参数存入分析方法内。

ICP气体控制:

3个由计算机控制的质量流量计,用于雾化气,辅助气,等离子体气的全部气量流量控制。

炬室保护:

全面的炬室RF射频源辐射泄露防护和紫外光防护,符合FCC标准。

安全自锁保护系统:

在意外事件如停电发生时,安全自行关机,而不损坏仪器系统,所有不正常失败事件都记录在电子错误文档内,包括日期和时间。

进样系统:

敞开式进样系统结构,并使用外部安装的雾化器,包括一个标准型炬管,插入式安装定位,自我定位,无需调整。

炬室采用关闭式屏蔽防护,法拉第网格用于射频辐射。

炬室门上装有全面防紫外线的观察窗。

蠕动泵:

计算机控制的3通道12滚轴的低脉冲蠕动进样泵,转速可调(0~100rpm)。

雾化器:

石英玻璃同心雾化器(0.8mL/m)。

雾化室:

小死体积,低记忆效应,空气冷却的或采用半导体Peltier制冷装置的高纯石英雾化室,单通道梨型带撞击球。

适用水溶液和有机试剂。

接口:

等离子体接口具有独特的活动接口门结构,易于替换和装卸采样锥与截取锥,更宽的动态响应范围,更低的多原子离子干扰水平,更结实耐用。

滑动阀门:

计算机控制真空滑动阀门,等离子体炬焰熄灭之后自动关闭真空阀门,保护真空系统,允许操作者在真空系统工作时拆装和清洗采样锥和截取锥。

InifinityTM离子透镜:

InifinityTM离子透镜组,配有高效率六极杆离子导向系统,保持在全质量范围内最佳的离子传输效率,计算机控制的交互式或全自动的离子聚焦最佳化调谐过程,获得的最佳工作参数储存在分析方法内,随时提供调用,真空室内的透镜使用非对称安装,方便拆装定位。

Chicane离子偏转镜,消除光子和中性分子,降低背景至0.5cps。

四极杆特征:

钨四极杆,离轴,极杆230mm×12mm,使用非对称安装组架,方便拆装定位。

免维护四极杆质谱仪,顶端开盖安装四极杆,检测器,离子透镜组。

四极杆RF发生器:

风冷,固态,2..0MHz,四极RF发生器,质谱质量数校正稳定性<0.05amu/day,<0.1aum/month。

质谱范围:

2~255amu。

检测器:

同时型AutoRangPlus检测器,分成两部分分列打拿极电子倍增器,同时操作在脉冲计数和模拟两种模式上。

测量范围:

>108

多通道信号分析器:

65000道多通道信号分析器(MCA)

信号采集模式:

跳峰,扫描,分段扫描,同时跳峰和扫描混合型(并能在一次信号采集过程中完成,使用PlasmaLabTM一体软件分析的瞬时信号(TRA)采集方式,用于色谱联用和激光进样等技术。

PlasmaLabTM软件:

软件支持所有的X系列ICP-MS仪器,提供自动控制仪器及其附件的能力,Windows2000专业操作系统,提供环境样品应用软件包(包括美国EPA200.8,EPA6020,日本JISK0102德国TVO和英国DWINS30等到标准确性以及微电子工业应软件包。

【技术特点】

∙π型离子提取模式的离子光学系统,,独一无二的InfinityII型离子透镜系统,具有极低的背景噪音,信噪比高,π型离子提取模式极大减少了空白等效浓度。

∙高效率的六极杆离子引导装置,保证离子传输效率高

∙Chicane离子偏转镜结构,离轴的四极杆质谱仪和检测器,降低噪音背景,消除因等离子体炬引起的光子和其它中性分子的进入,使背景<0.5cps

∙插入式的离子透镜,非对称定位的组件架结构,保证快速安装和定位

∙最长的四极杆、最大的场径,信噪比高,同位素丰度灵敏度高、质量数稳定,并可计算机控制可变分辨率,允许在一次分析中切换使用高低分辨率

∙免维护的质谱仪系统(InfinityII型离子透镜、四极杆和检测器),新型的质谱结构插入式安装离子透镜、四极杆和检测器组件,并准确定位。

∙可使用7%氢气/氦气混合气或1%氨气/氦气混合气于CCT模块中,解决了将高纯度的氢气或氨气直接通入CCT中所造成的潜在的腐蚀问题,也大大提高了仪器的稳定性和操作安全性。

∙三个高精度气体流量控制器和x、y、z三维炬位的自动调整,保证等离子体炬焰最佳状态,确保分析结果一致

∙进样系统敞开结构设计,维护方便,便于联用

∙AutoRangeplus检测器可同时在脉冲和模拟模式下工作。

∙同时型模拟/脉冲检测器以及其实时的多通道电子学系统,提供了大于8个量级的动态线性范围,这使得仪器能够同时适应稳定信号和瞬时信号分析。

∙第三代CCTED碰撞反应池技术,可使用简单碰撞气体、反映气体和混合气体,有效去除干扰和副反应。

∙Xt和Xs接口应用,进一步改善了检出限

∙半导体温控系统

【典型应用举例】

地质应用

材料工业、半导体工业

食品安全

临床研究

环境分析

PerkinElmerElan9000电感耦合等离子体质谱仪(ICPMS)

自ELAN6100DRC动态反应池技术赢得匹兹堡会议金奖以来的第三代DRC产品。

动态反应池(DRC)技术采用与反应池中气体的化学反应最大程度地消除了Fe、Ca、K、As、Se等分析物受到的干扰,并同时保证了这些分析物的有效传输,因而能得到最佳检出限,就抗干扰能力而言,是目前唯一可以与高分辨率质谱相媲美的技术。

 DRC中的轴向场(AFT)技术,改善了离子在反应池中的传输,提高分析速度,降低复杂样品的基体效应。

 新推出的DRC-e同样采用反应池,专门针对地质样品、冶金样品、环境样品等的分析而设计。

 动态反应池(DRC)是内有一个四极杆系统的反应池。

与中阶梯分光ICP-OES相似,DRC-ICP-MS具有双四极杆质量分析器,即ICP-MS-MS,DRC部分进行化学反应并与主四极杆同步扫描实现离子初步选择和过滤,大大延长了ICP-MS主四级杆质量分析器的寿命,提高了ICP-MS的性能和灵活度。

【技术参数】

质量范围:

2~270amu。

灵敏度:

Cr>40M,Co>40M,In>50M,U>40M。

灵敏度:

115In的灵敏度应在25×106cps/ppm以上。

 双电荷离子:

Ba﹢﹢的峰强度小于Ba﹢强度的3%。

氧化物离子:

CeO﹢/Ce﹢的比值低于3%。

检出限:

9Be<6.0ppt,59Co<1.0ppt,115In<1.0ppt,238U<1.0ppt(标准模式)80Se<8.0ppt(DRC模式)。

背景信号:

<0.5cps,在质量数为50.5和220处测量。

短期稳定性:

<1%RSD(无内标)。

长期稳定性:

<3%RSD4小时(无内标,标准模式和DRC模式)。

同位素比精度:

<0.08%,107/Ag/109/Ag(25ug/L) 

线形范围:

9个数量级。

化学分辨率>150,000。

分辨率:

0.3~3.0amu在线可调。

质量数校正稳定性:

<0.05amu采样方式:

扫描及单点跳峰。

【详细参数】

进样系统:

组合式设计快速可拆卸进样系统,具有预恒温系统。

耐腐蚀配置:

高浓度的HCl、HNO3、H2SO4、H3PO4、HF和NaOH可直接进样。

炬管喷射管:

2.0mm刚玉材料雾化室:

Ryton材料耐腐蚀雾室雾化器:

正交雾化器,刚玉宝石喷嘴蠕动泵:

有SmartRinse智能冲洗功能。

射频发生器:

40.68MHz自激式固态射频发生器,功率输出范围600~1600W,增量1瓦。

对复杂样品可动态调谐安全防护:

符合FCC和ECVDE0871ClassB标准。

等离子体系统:

炬管定位准直采用自动轨道定位EasyGlide技术Plasmalok技术消除锥口二次电弧放电,延长锥寿命。

接口:

锥孔直径:

采样锥1.1mm,截取锥0.9mm标准配置为镍锥,铂锥可选

离子透镜系统:

炬管定位准直采用自动轨道定位EasyGlide技术Plasmalok技术消除锥口二次电弧放电,延长锥寿命 。

四极杆:

材质:

镀金陶瓷四极杆,热碰撞系数极低,质量扫描与分辨率极为稳定,可以实现分辨率在同一方法中在线可调(AutoRes),可在运行中对不同离子选用不同分辨率(自动调节)。

分辨率:

0.3~3.0amu采样方式:

扫描及单点跳峰(SinglePointPeakHopping)。

真空系统:

分析涡轮泵:

双入口单分子涡轮泵抽气速率:

380升/分钟保护装置:

防腐蚀吹扫功能静态优于1.0×10-7Torr工作状态优于1.0×10-6Torr从大气压状态开始抽真空,15分钟内进入工作状态,停止使用时可以保持真空,也可以不保留真空。

控制系统:

全自动运行。

可在无人监控下自动启动、预热、点火、自动完成最佳工作参数选择、自动测试、自动关机。

利用ElanRemote软件进行远程诊断。

可选自动进样器(AS)、超声波雾化器(USN)、激光固体采样器(LS)、电热蒸发进样器(ETV)、流动注射进样器(FIAS)、有机样品进样系统。

全部由计算机控制联用。

检测器:

ETP双层多阶电子倍增器检测方式:

脉冲方式和模拟方式测定(SimulScan),控制软件自动选择适用范围:

同一方法中所有元素。

气路控制系统:

所有气体为全自动控制。

雾化气由高精密质量流量控制器控制,流量0~2.0升/分钟,增量0.01升/分钟。

动态反应池:

动态反应池(DRC)是内有一个四极杆系统的反应池。

DRC本身具有离子选择过滤的功能。

DRC-ICP-MS具有双四极杆质量分析器,即ICP-MS-MS。

DRC部分进行化学反应并与主四极杆同步扫描实现离子初步选择和过滤。

动态带宽调谐(DBT)通过待测成分,除去干扰成分。

轴向场技术(AFT)技术极大改善困难基体的测定结果,提高分析速度。

动态反应池性能:

H2、He、CH4、NH3、O2、N2O等多种气体,可对各种分析物采用最佳反应气,可以通入纯氨气或者甲烷气体等,也可以使用上述气体的混合气体。

两年以上实际样品分析无需维护。

高达9个数量级的干扰去除,完全不需要冷离子体,化学分辨率>150,000(分辨率=待测物质量数-干扰物质量数)/待测物质量数)。

【技术特点】

∙Elan9000不带动态反应池,绝对灵敏度提高;DRC-e和DRC-II均带动态反应池(DRC)技术,DRC-e用CH4作为反应气,主要用在环境、食品等通用行业,DRC-II用NH3作反应气,主要用在半导体行业。

∙ELAN9000/DRC-e的标准配置进样系统为耐腐蚀、高盐的GemClean™的十字交叉雾化器和Ryton™高分子惰性材料的Scott双通道雾化室,用HF等消解的土壤、地质、环境、冶金样品可以不经过赶HF酸而直接进样分析。

雾化器的使用寿命在3年以上。

整个进样系统30秒内清洗效率在1000倍以上。

∙两个机械泵两个分子涡轮泵,抽气速率:

>380L/min

∙四极杆调节分辨率:

0.3~3amu,在同一方法中在线可调(AutoRes™),可在运行中对不同离子选用不同分辨率(自动调节),扩展分析浓度范围和提高灵敏度。

∙DRC技术可以使用H2,He,CH3,NH3,O2,N2O,CO2等气体中的任何一种气体。

∙DRC技术消除干扰的能力优于7个数量级。

∙化学分辨率>150,000,是唯一可以消除87Sr-87Rb(分开两离子需要的分辨率287,000),204Hg-204Pb(450,000)等干扰的技术。

∙分析107Ag/109Ag的同位素比分析精密度优于<0.08%RSD的技术。

∙线性范围:

9个数量级。

∙极大的采样锥和截取锥锥孔设计,确保长时间分析高盐分的样品而锥孔不会堵塞。

同时配备容量最大的真空泵,仪器冷启动的时间不超过10分钟。

∙自动轨道定位EasyGlide™技术,无需每天进行炬管位置优化。

∙主机内置40.68MHz自激式射频发生器,功率稳定,适用于各种类型的无机样品和有机样品分析。

∙PlasmaLok™专利ICP-MS接口技术,完全消除接口处的二次电弧放电,保证等离子体稳定,延长采样锥寿命。

∙AutoLens™离子透镜偏压自动最佳化选择技术

∙SimulScan™同步扫描技术

【典型应用举例】

地质行业;

环境分析;

冶金;

食品;

半导体行业。

 

Agilent7700X电感耦合等离子体质谱仪(ICPMS)

Agilent7700系列是美国安捷伦公司于2009年6月全球发布的最新型ICPMS,该型号以其体积小型化、软件智能化、超高灵敏度、长期工作可靠性、操作与运行完全自动化等特点迅速成为现代元素分析基础研究实验室和行业实验室的首选仪器。

不同于操作和运行异常复杂且体积庞大的传统ICP-MS商品化仪器,该系列产品继承了前两代产品的优良品质,同时加入了众多Agilent的最新技术和操作软件,以简化仪器操作过程、提高实验室工作效率、增加实验室数据可靠性为目的,Agilent7700以崭新的设计和性能,应对日益复杂的实验室测试要求,7700具备业内最小的体积、使用功能强大且易用的MassHunter操作软件,配备全新升级的八级杆碰撞反应池、高盐进样系统以及RF发生器等性能优异的硬件系统,成功实现高灵敏度、高盐度、高可靠性集一身,真正实现了现代化实验室全自动的常规分析。

【技术参数】

1.灵敏度:

低质量数Li(7):

50Mcps/ppm

中质量数Y(89):

160Mcps/ppm

高质量数Tl(205):

80Mcps/ppm

2.检测限:

低质量数Be(9):

0.5ppt

中质量数In(115):

0.1ppt

高质量数Bi(209):

0.1ppt

3.氧化物干扰(CeO+/Ce+):

1.5%

4.双电荷干扰(Ce2+/Ce+):

3.0%

5.同位素比精度:

RSD(107Ag/109Ag)0.1%

6.质谱范围:

2-260amu

7.丰度灵敏度:

低质量端:

5x10-7

高质量端:

1x10-7

【技术特点】

全球尺寸最小的ICP-MS;

灵敏度最高的碰撞池-第三代ORS3;

唯一的纯He气碰撞池:

只用He气就可以消除所有干扰;

最耐高盐的ICP-MS:

HMI技术(TDS>3%);

最先进的ICP离子源技术:

唯一的数字控制式谐频ICP发生器;

有机溶剂进样不熄火;

分析速度最快:

ISIS-DS技术;

最容易维护和清洗;

最强的色谱联机功能:

真正的一体化;

功能最多最强的软件:

MassHunter系统,实现实时QA/QC偏移标示,自动化控制等。

 

Varian810/820-MS电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)

Varian于1993年推出第一台自动进样的ICP-MS,1998年将离子镜像(ionmirror)光学应用于ICP-MS离子传输,2001年发明离轴四极杆技术,2002年发明CRI碰撞反应接口,2003年推出最灵敏的ICP-MS,使用了以上的技术,2005年推出810/820-MS。

瓦里安810-MS在测试工作中实现了样品效率的提高。

此种仪器的核心因素是瓦里安专利的高效90度离子光学和离轴四极杆。

这些设计提供了独特的低背景噪音和无比卓越的灵敏度。

820-MS以瓦里安独特的碰撞反应界面(CRI)系统为特色。

该系统提供简单、常规扣除干扰。

其结果是,可以更加快速、更灵活地免干扰检测,而不需要担心复杂的多极或扫描四极杆离子导向或池的影响。

同时,通过耦合调整包括CRI气体在内的全部仪器参数,可以大大提高仪器的使用效率。

VarianICP-MS的核心技术是:

∙专利的高效90度离子光学

∙离轴四极杆设计

∙独特的碰撞反应界面(CRI)系统以及全数字检测器

     这些独创性的设计,保证仪器具有极低的低背景噪音和极高的灵敏度,并且有效消除干扰,获得极低的检测下限和准确的测定结果。

【技术参数】

RF发生器:

27.12MHz

90度离子光学系统和双离轴四极杆设计,对离子传输率高,灵敏度高,抗干扰

灵敏度:

>1×106c/s/ug/L,保持氧化物比率(CeO+/Ce+)<3%

独特的碰撞反应界面(CRI)系统,减少聚合离子对被测元素的干扰,如:

As、Se、Cr、V和Fe,能在热等离子体中获得低检出限

 

高灵敏度模式(Mcps/mg/L)

9Be>50

115In>1000

232Th>500

氧化物比率CeO+/Ce+<3%

双电荷比率Ce++/Ce+<2%

背景:

<5在5amu

低灵敏度模式(Mcps/mg/L)

9Be>5

115In>50

232Th>20

精密度(10次重复材料,20分钟)<3%

长期稳定性(10ug/L多元素标准物4小时)<4%

氧化物比率CeO+/Ce+<1%

双电荷比率Ce++/Ce+<2%

背景:

<2在5amu

 

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