真空蒸发和离子溅射镀膜.docx
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真空蒸发和离子溅射镀膜
实验一真空蒸发和离子溅射镀膜
随着材料科学的发展，近年来薄膜材料作为其中的一个重要分支从过去体材料一统天下的局面中脱赢而出。
如过去需要众多材料组合才能实现的功能，现在仅需数几个器件或一块
集成电路板就能完成，薄膜技术正是实现器件和系统微型化的最有效的技术手段。
薄膜技术
还可以将各种不同的材料灵活的复合在一起，构成具有优异特性的复杂材料体系，发挥每种
物理法主要指物理气
材料各自的优势，避免单一材料的局限性。
薄膜的应用围越来越宽,膜、微电子学薄膜、光电子学薄膜、集成光学薄膜、信息存储薄膜、薄膜材料在科学技术和社会经济各个领域发挥着越来越重要的作用。
研究就显得非常重要。
薄膜的制备方法可分为物理法、化学法和物理化学综合法三大类。
相沉积技术（PhysicalVaporDeposition,简称PVD）,即在真空条件下，采用各种物理方法
将固态的镀膜材料转化为原子、分子或离子态的气相物质后再沉积于基体表面，从而形成固
体薄膜的一类薄膜制备方法。
物理气相沉积过程可概括为三个阶段：
1.从源材料中发射出粒
子；2.粒子输运到基片；3.粒子在基片上凝结、成核、长大、成膜。
由于粒子发射可以采用不同的方式，因而物理气相沉积技术呈现出各种不同形式，主要有真空蒸发镀膜、溅射镀膜
和离子镀膜三种主要形式。
在这三种PVD基本镀膜方法中，气相原子、分子和离子所产生的方式和具有的能量各不相同，由此衍生出种类繁多的薄膜制备技术。
本实验主要介绍了真空
蒸发和离子溅射两种镀膜技术。
在薄膜生长过程中，膜的质量与真空度、基片温度、基片清
洁度、蒸发器的清洁度、蒸发材料的纯度、蒸发速度等有关。
在溅射薄膜的生长过程中，气体流量（压力）也会对形成的薄膜的性质产生影响。
通过改变镀膜条件，即可得到性质炯异的薄膜材料。
对制备的薄膜材料，可通过X射线衍射、电子显微镜（扫描电镜、透射电镜等）、扫描探针（扫描隧道显微镜、原子力显微镜等）以及光电子能谱、红外光谱等技术来进行分析和
表征，还可通过其它现代分析技术测试薄膜的各种相应特性等。
【实验目的】
1•掌握溅射的基本概念，学习直流辉光放电的产生过程和原理；
2•掌握几种主要溅射镀膜法基本原理及其特点，掌握真空镀膜原理；
3.掌握真空镀膜和溅射镀膜的基本方法；
4•熟悉金属和玻璃片的一般清洗技术，学习薄膜厚度的测量方法；
5.了解真空度、基片温度、基片清洁度、蒸发器的清洁度、蒸发材料的纯度、蒸发速度等因素，在薄膜生长过程中对形成薄膜性质的影响。
【实验原理】
一真空蒸发镀膜原理
任何物质在一定温度下，总有一些分子从凝聚态（固态，液态）变成为气态离开物质表
面，但固体在常温常压下，这种蒸发量是极微小的。
如果将固体材料置于真空中加热至此材料蒸发温度时，在气化热作用下材料的分子或原子具有足够的热震动能量去克服固体表面原子间的吸引力，并以一定速度逸出变成气态分子或原子向四周迅速蒸发散射。
当真空度高，分子平均自由程—远大于蒸发器到被镀物的距离d时（一般要求2~3d）,材料的蒸气分子在散射途中才能无阻当地直线达到被镀物和真空室表面。
在化学吸附（化学键力引起
的吸附）和物理吸附（靠分子间德瓦尔斯力产生的吸附）作用下，蒸气分子就吸附在基片表
面上。
当基片表面温度低于某一临界温度，则蒸气发分子在其表面发生凝结，即核化过程，形成“晶核”。
当蒸气分子入射到基片上密度大时，晶核形成容易，相应成核数目也就增多。
在成膜过程继续进行中，晶核逐渐长大，而成核数目却并不显著增多。
由于
（1）后续分子
直接入射到晶核上；
（2）已吸收分子和小晶核移徒到一起形成晶粒；（3）两个晶核长大到互
相接触合并成晶粒等三个因素，使晶粒不断长大结合。
构成一层网膜。
当它的平均厚度增加
到一定厚度后，在基片表面紧密结合而沉积成一层连续性薄膜。
在平衡状态下，若物质克分子蒸发热H与温度无关，则饱和蒸气压PS和绝对温度T
有如下关系：
△H
PSKeRT（1.1）
式中R为气体普适常数，K为积分常数。
在真空环境下，若物质表面静压强为P,则单位时间从单位凝聚相表面蒸发出的质量，
即蒸发率为
式中k为波尔兹曼常数，n为气体分子密度。
气体压强P为帕时，的单位为米。
根据
（1.4）式可列出表1-1。
2—
从表中看出，当真空度高于110帕时，大于50cm;在蒸发源到被镀物d为15~20cm情况下是满足入2~3d。
因此将真空镀膜室抽至110帕以上真空度是必需，方可得到牢固纯净的薄膜。
表1-1
P（帕）
1000
100
10
1
1101
1102
1103
（m）
5106
5105
5104
5103
5102
5101
5
二离子溅射镀膜原理
1•溅射
溅射是指具有足够高能量的粒子轰击固体（称为靶）表面使其中的原子发射出来。
实际
过程是入射粒子（通常为离子）通过与靶材碰撞，把部分动量传给靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成级联过程。
在这种级联过程中某些表面附近的靶原子获得向外运动的足够动量，离开靶被溅射出来。
而入射粒子能量的95%用于激励靶中的晶格热振动，只有5%
左右的能量传递给溅射原子。
下面以最简单的直流辉光放电等离子体构成的离子源为例,明入射离子的产生过程。
1-7），系统的电流和电压的关系曲线如图1-1所示，系统
A电i^T/A
图1-1直流溅射系统中两极间电流和电压的关系曲线
2.直流辉光放电考虑一个二极系统（参考图压强为几十帕。
在两电极间加上电压，系统中的气体因宇宙射线辐射产生一些游离离子和电子，但其数量非常有限，因此所形成的电流非常微弱，这一区域AB
称为无光放电区。
随着两极间电压的升高，带电离子和电子获得足够高的能量，与系统中的中性气体分子发生碰撞并产生电离，
进而使电流持续增加，此时由于电路中的电源有高输出阻抗限制，致使电压呈一恒定值，这
一区域BC称为汤森放电区。
当电流增加到一定值时（C点），会产生“雪崩”现象。
离子开
始轰击阴极，产生二次电子，二次电子与中性气体分子碰撞，产生更多的离子，离子再轰击
阴极，阴极又产生出更多的二次电子，大量的离子和电子产生后，放电达到自持。
气体开始
起辉，两极间电流剧增，电压迅速下降，这一区域CD叫做过度区，通常称为气体击穿。
在
D点以后，电流平稳增加，电压维持不变，这一区域DE称为正常辉光放电区，这时，阴极
表面并未全部布满辉光。
随着电流的增加，轰击阴极的区域逐渐扩大，达到E点后，离子轰
击已覆盖整个阴极表面。
此时增加电源功率，则使两极间的电流随着电压的增大而增大，这
一区域EF称做“异常辉光放电区”。
在这一区域，电流可以通过电压来控制，从而使这一区
域成为溅射所选择的工作区域。
在F点之后，继续增加电源功率，两极间电压迅速下降，电
流则几乎由外电阻所控制，电流越大，电压越小，这一区域FG称为“弧光放电区”。
众多电子、原子碰撞导致原子中的轨道电子受激跃到高能态，而后又衰变到基态并发射
光子，大量光子形成辉光。
辉光放电时明暗光区的分布情况如图1-2所示。
从阴极发射出来
图1-2一般直流辉光放电区域的划分
的电子能量较低，很难与气体分子发生电离碰撞，这样在阴极附近形成阿斯顿暗区。
电子一旦通过阿斯顿暗区，在电场的作用下会获得足够多的能量与气体分子发生碰撞并使之电离，离化后的离子和电子复合泯灭产生光子，形成阴极辉光区。
从阴极辉光区出来的电子，由于碰撞损失了能量，已无法与气体分子碰撞使之电离，从而形成另一个暗区，叫做阴极暗区，又叫克鲁克斯暗区。
通过克鲁克
斯暗区以后，电子又会获得足够的能量与气体分子碰撞并使之电离，离化后的离子和电子复合后又产生光子，从而形成了负辉光区。
负辉光区是辉光最强的区域，它是已获加速的电子与气体分子发生碰撞而产生电离的主要区域。
在此区域，正离子因质量较大，向阴极的运动速度较慢，形成高浓度的正离子区，使该区域的电位升高，与阴极形成很大的电位差，此电位差称为阴极辉光
放电的阴极压降。
此压降区域又称为阴极鞘层，即阴极辉光区和负辉光区之间的区域，主要
对应克鲁克斯暗区，如图1-3所示。
这个区域的压降占了整个放电电压的绝大部分，因此也
可近似认为，仅仅在阴极鞘层中才有电位梯度存在，其形成的电压降约等于靶电压。
也正因
为这个原因，阳极所处位置虽会影响气体击穿电压，但对放电后的靶电压影响不大，即阳极
位置具有很大的自由度。
在实际溅射镀膜过程中，基片（衬底）通常置于负辉光区，且作为阳极使用。
经过负辉光区后，多数电子已丧失从电场中获得的能量，只有少数电子穿过负辉
光区，在负辉光区与阳极之间是法拉第暗区和辉光放电区，其作用是连接负辉光区和阳极。
3.溅射的特点
（1）溅射粒子（主要是原子，还有少量离子等）的平均能量达几个电子伏，比蒸发粒子的平均动能kT高得多（3000K蒸发时平均动能仅0.26eV），溅射所获得的薄膜与基片结合较好；
（2）入射离子能量增大（在几千电子伏围），溅
射率（溅射出来的粒子数与入射离子数之比）增大。
入射离子能量再增大，溅射率达到极值；能量增大到几万电子伏，离子注入效应增强，溅射率下降，如图1-4所示。
（3）入射离子质量增大，溅射率增大。
（4）入射离子方向与靶面法线方向的夹角增大，溅射率增大（倾斜入射比垂直入射时溅射率大）。
（5）单晶靶由于焦距碰撞（级联过程中传递的动量愈来愈接近原子列方向），在密排方向上发生优先溅射。
（6）不同靶材的溅射率很不相同。
图1-5为Ar+在400KV加速电压下对各种元素靶材的溅
射产额的变化情况。
由图中数据可以看出，元素的溅射产额呈现明显的周期性，即随着元素
外层d电子数的增加，其溅射产额提高，因而，Cu、Ag、Au等元素的溅射产额明显高于
Ti、Zr、Nb、Mo、W等元素的溅射产额。
（7）不同溅射气体的溅射率也不相同。
图1-6是45KV加速电压下各种入射离子轰击Ag
靶表面时得到的溅射率随入射离子的原子序数的变化。
由图中结果可以看出，使用惰性气体
作为入射离子时，溅射产额较高。
而且，重离子的溅射额明显高于轻离子。
但是出于经济等
方面的考虑，多数情况下均采用Ar离子作为薄膜溅射沉积时的入射离子。
（8）溅射所得薄膜纯度高，致密性好；
（9）溅射工艺可重复性好，膜厚可控制，同时可以在大面积基片上获得厚度均匀的薄膜。
4•溅射类型
溅射装置种类繁多，因电极不同可分为二极、三极、四极直流溅射，磁控溅射，射频溅射、合金溅射、反应溅射等等。
直流溅射系统一般只用于靶材为良导体的溅射；而射频溅射则适用于绝缘体、导体、半导体等任何靶材的溅射；磁控溅射是通过施加磁场改变电子的运动方向，并束缚和延长电子的运动轨迹，进而提高电子对工作气体的电离效率和溅射沉积率。
磁控溅射具有沉积温度低、沉积速率高两大特点。
一般通过溅射方法获得的薄膜材料与靶材相同，但也有一种溅射方法，其溅射镀膜的过程中，引入一种放电气体与溅射出来的靶原子发生化学反应而形成新物质，这种方法称为反
应溅射。
如在。
2中溅射反应可获得氧化物薄膜；在N2或NH3中溅射反应可获得氮化物等。
（1）直流溅射
直流溅射是最简单的一种溅射系统。
其示意图如图1-7所示。
盘状的待镀靶材连接到电
IB良空
图1-7直流溅射装置及两极间气体放电体系模型
源的阴极，与阴极靶相对的基片则连接到电源的阳极。
首先将真空室真空抽至10-3-10-4Pa,
然后通过气体入口充入流动的工作气体如氩气，并使压力维持在1.3-13Pa围，通过电极加
上1-5KV的直流电压（电流密度1-10mA/cm2）,两极间便会产生辉光放电。
当辉光放电开始，正离子就会轰击阴极靶，使靶材表面的中性原子逸出，这些中性原子最终在基片上凝结
形成薄膜。
在离子轰击靶材产生出中性原子的同时，也有大量二次电子产生，它们在电场作
用下向基片阳极方向加速，在这一过程中，电子和气体分子碰撞又产生更多的离子，更多的
离子轰击阴极靶材，又产生更多的二次电子和靶材原子，从而使辉光放电达到自持。
直流溅射镀膜法的优点是装置简单，操作方便，可以在大面积的基片上制取均匀的薄膜，
并可溅射难熔材料等。
但这种方法存在镀膜沉积速率低、只能溅射金属导电材料等缺点。
因
而未经改进的二级直流溅射仅在实验室使用，很少用于生产。
而且二级直流溅射要达到辉光
放电自持，必须满足两个条件，①真空室充入的气体压强要适度；②阴极-阳极间距要适度。
因为如果气压太低或阴阳极间距太短，在二次电子打到阳极之前不会有足够多的离化碰撞出
现；相反，如果气压太高或阴阳极间距太长，则会使产生的离子因非弹性碰撞而减速，当它
们打击靶材时没有足够的能量来产生二次电子。
图1-8显示了溅射沉积速率与工作气体压力
之间的关系曲线。
直流溅射系统为了实现足够的离化碰撞，要求气压不能低于1.3Pa,但是这种自持辉光
放电最严重的缺陷是用于产生放电的惰性气体对所沉积形成的薄膜构成污染。
而在低气压下
要想自持辉光放电和足够的离化碰撞，就需要提供额外的电子源，而不是靠阴极发射出来的
二次电子，或者提高已有电子的离化效率。
三极溅射系统就是通过一个另加的热阴极（加热
的钨丝）产生的电子注入到系统中，以满足自持辉光放电所需要的电子量，达到高效率的直
流溅射目的，如图1-9。
提高电子的离化效率则可通过施加磁场的方式来实现，磁场的作用
是通过改变电子的运动方向，使电子的运动路径增加，从而提高电子和气体分子的碰撞机会，
在20世纪70年代磁控溅射技术出现以前，真空蒸发喷镀技术由于其高沉积速率而成
为气相沉积技术的主要方法，而目前由于磁控溅射法的薄膜沉积速率已达到与蒸镀相当的水平，从而使具有制膜种类多、工艺简便的磁控溅射技术成为了目前工业中最常用的物理气相沉积技术。
磁控溅射又分为直流（DC）磁控溅射和射频（RF）磁控溅射。
（3）射频溅射
无论是二级直流溅射还是磁控直流溅射，所面对的另一个困难是绝缘介质材料，其原因在于轰击于介质靶材表面上的离子无法中和而造成靶面电位升高。
外加电压几乎都加在了
靶上，极间电位降低，离子的加速和电离迅速减小，直到放电停止。
为此，发展了可以溅射绝缘介质材料的射频溅射法。
（a）（b）
图1-12射频溅射原理图
（a）负半周（b）正半周
射频溅射是采用高频电磁辐射来维持低压气体辉光放电的一种镀模法。
射频溅射的原理如图1-12所示。
图中阴极的表面安装上介质靶材，这样，加上高频交流电压后，在一个频率周期正离子和电子可以交替地轰击靶面，从而保持气体放电的维持，实现溅射介质材料的目的。
当靶电极为高频电压负半周期时，正离子对靶面进行轰击引起溅射，并在靶面产生正电荷积累，当靶处于高频电压正半周期时，由于电子对靶的轰击中和了积累于介质靶表面上的正电荷，就为下一周期的溅射创造了条件。
这样一个周期介质靶面既有溅射，又能对积累的电荷进行中和，故能使介质靶的溅射得以进行。
然而，在两个电极上加上高频电压产生辉光放电时，两个电极都会产生阴极暗区，在一个频率周期，两个电极将交替成为阴极和阳极，并受到正离子轰击而产生溅射。
显然，这
时无法在基片上溅射薄膜。
因此，实用的溅射镀膜系统常采用两个金属电极面积大小不等，形成非对称平板结构。
把高频电源接在小电极上，而将大电极和屏蔽板等相连后接地作为另
一极，这样，在小电极表面产生的阴极压降就比大电极的阴极压降大得多。
由于阴极压降的
大小决定轰击电极离子的能量，当大电极的面积大到足以使轰击其的离子能量小于溅射阈能
时，则在大电极上就不会溅射。
因而，只在小电极上装上靶材，而将基片置于大电极上，就可实现高频溅射镀膜，其国际采用的通用频率为13.56MHz。
理论上利用射频磁控溅射可以溅射沉积任何材料。
由于磁性材料对磁场的屏蔽作用，溅射沉积时它们会减弱或改变靶表面的磁场分布，影响溅射效率。
因此，磁性材料的靶材需
要特别加工成薄片，尽量减少对磁场的影响。
5.溅射薄膜的生长特点
不管薄膜的制备采用什么方法，但薄膜的形成大致都要经过以下几个阶段，
（1）最初阶
段，外来原子在基底表面相遇结合在一起形成原子团，当原子团达到一定数量即形成“核”,
然后再逐渐形成“岛”；
（2）随着原子的不断增多，很多岛逐渐结合起来形成“通道网络结构”；（3）后续原子再不断填补网络结构中的空隙，逐渐形成连续的薄膜。
溅射法制取薄膜时，由于到达基片的溅射粒子（原子、分子、及其团簇）的能量比蒸发镀膜大的多，因而会给薄膜的生长和性质带来一系列影响。
首先，高能量溅射粒子的轰击
会造成基片温度的上升和应力的增加。
溅射薄膜的应力主要来自两个方面，一方面是本征应
力，因溅射粒子沉积于正在生长的薄膜表面的同时，其带有的能量也对薄膜的生长表面带来
冲击，造成薄膜表面晶格的畸变。
如果基片温度不够高，晶格中的热运动不能消除这种晶格畸变，就在薄膜中产生应力。
对于反应溅射的化合物薄膜，这种本征应力可高达几个GPa,
甚至超过10GPa。
另一方面由于薄膜与基片热膨胀系数的差异所致，在较高温度镀膜后冷却
至室温，也会使薄膜产生热应力。
应力的存在会改变薄膜的硬度、弹性模量等力学性能，以
及薄膜与基片的结合力。
对于TiN等硬质薄膜，由于存在巨大的应力，并且这种应力会随
薄膜厚度的增加而增加，因而在厚度增加后（如＞5卩m）有时硬质薄膜会自动从基片上剥落。
溅射薄膜的能量与溅射电压、真空室气体的压强以及靶和基片的距离等有关，因而溅射薄膜的生长也与上述因素相关。
此外，基片温度对溅射粒子的能量释放和生长减鉀叶酬槪林
图1-13溅射薄膜结构示意图
（T--基片温度，Tm--薄膜熔点）
中薄膜的晶格热运动有关，因此也会影响薄膜的生长结构。
图1-13形象的表示了溅射气体压力和基片温度与薄膜生长结构之间的关系。
由图4-13可见，随基片温度
等轴晶的变化。
还应指出，溅射的晶体薄膜经常产生强烈的织构，织构的择优取向通常为晶体的密排面平行于薄膜的生长表面。
三材料的清洗
清洗一般意味着除去物质表面不需要的不干净物质。
如物理污染物（油脂、灰尘等）。
被镀玻璃基片、钨蒸发器、铝条、玻璃钟罩等材料、配件清洁程度直接影响薄膜的牢固
性和均匀性，玻璃片和蒸发器、铝条表面的任何微量的灰尘、油斑杂质及植物纤维等都会大大降低薄膜附着力，并使薄膜出现花斑和过多过大的针空，不久会自然脱落。
因此会使铝镜
减少反射，增加吸收。
所以加强清洗是非常必要的。
清洗上述污染物的方法很多，如机械清
洗、溶剂浸渍冲洗、电化学清洗、离子轰击清洗、超声波清洗等。
不同材料，不同污染物，清洗的方法不同。
（1）钨蒸发器和铝条的清洗方法是：
先用自来水冲去尘埃，放入浓度为20%的氢氧化钠溶液中煮10分钟（铝条煮半分钟），除去表面氧化物和油迹，达到见钨发亮为止；然后用自来水冲洗，浸在离子水（或蒸馏水）中冲洗，取出用无水乙醇脱水烘干便可。
（2）玻璃片的清洗方法是：
用去污粉察洗除去一般油污和尘埃；然后用清水冲洗放在
重铬酸钾和硫酸混合溶液中浸10~30分钟，取出后先后用自来水、蒸馏水冲洗；最后用无水
乙醇脱水，烘干后便可使用。
清洗的过程中手指不能直接与被镀物表面和酸碱接触。
（3）玻璃钟罩用浓度约为30%的氢氧化钠溶液擦洗掉镀上的铝膜，然后用自来水、蒸馏水冲洗，无水乙醇脱水烘干便可。
近年来，化学清洗剂比较多，也可以根据不同材料，选用化学试剂清洗。
四蒸发器与薄膜质量
蒸发器是由热稳定性良好、化学性质稳定、出气量少、纯度高的耐高温材料制成。
对于
丝状和片状蒸发物一般采用钨和铂丝做成螺旋式、螺旋式丝状蒸发器如图1-14。
对粉末状
蒸发物则采用钽、钼、铂等材料做成舟状蒸发器如图1-15。
图1-14丝状蒸发器
图1-15舟状蒸发器
本实验蒸发物为铝薄片，采用舟状蒸发器和丝状蒸发器均可。
实验中经常采用直径为
0.5mm的单股钨丝制成螺旋式或波浪式蒸发器，它可使蒸发铝条放置稳定，接触面大受热
均匀。
实验时先将铝条变成V字型，悬挂在钨蒸发器上；当系统真空度达到10-2帕以上时,通电加热钨蒸发器至白炽状态，使铝熔化蒸发（铝在真空中蒸发温度为990oC）铝蒸发前要
先液化，因钨在液化铝中有一定溶解度和液化铝的表面力作用，故液态铝一般不会掉下来，而很好的附着于钨蒸发器上，如图1-16。
要求选择
而
待真
放入干净的蒸发舟中。
本实验采用舟状蒸发器。
、蒸发器
铝膜的质量除上面谈到的与真空度、玻璃片清洁度有关外，还与蒸发物（铝）
（钨）的纯度、蒸发速度有关。
蒸发物的纯度直接影响着薄膜的结构和光学性质，为了得到较高纯度的铝膜，
纯度高的铝，实际上绝对纯的铝不存在。
所以我们采用预熔的办法让杂质蒸发到档板上，不要使杂质蒸发到玻璃片上。
预熔时蒸发物和蒸发器要放出大量气体，使真空度降低,
空度恢复到要求真空度时，才可以进行蒸发镀膜。
蒸发速度也影响膜的结构和均匀性，蒸发温度愈高，蒸发时间愈短，膜的结构愈致密、均匀性愈好；蒸发温度低，蒸镀时间拉长，会使真空度降低，因此会产生软膜。
但蒸发温度不宜过高，以免使蒸发物和蒸发器中比铝熔点高的杂质蒸发出来。
【实验仪器】
实验所用仪器为海康创业（）科技生产的FZJ-Z289A型多功能镀膜机。
如图1-17所示；SGC-2型自动椭圆偏振测厚仪。
【实验步骤】
首先将制备薄膜的衬底材料---基片准备好：
用超声波清洗机在丙酮溶液中超声振荡，然后用镊子取出烘干，并放入干燥器中保存待用。
然后使用多功能溅射仪进行镀膜实验。
实验步骤如下：
一安装薄膜基片和蒸发材料
1.打开充气微调，使空气进入蒸发室；
2.轻轻将玻璃罩拿掉，将清洗好的基片安装在溅射台底座下方，用螺丝轻轻上紧；将适量镀膜材料（铝片或铝丝或其他）
3.轻轻将玻璃罩扣好，并确认玻璃罩底部位置接合完好。
二抽真空
1.开循环水
2.开电源^-----开机械泵|开旁路阀，
抽真空至10Pa以下；
3.开前级阀|开分子泵L-----开碟阀］然后按下工作键|------抽真空至5x10-3Pa,三
（1）溅射镀膜
1•将碟阀关闭至接近关闭状态
（开氩气瓶充氩气或者空气）；
2.调充气微调——至工作压力为2----3Pa左右
（此时需要和碟阀配合调节）；
3•开磁控溅射电源
1将挡板位置旋转至C;
2慢慢旋转电流调节旋钮至起辉，记下起辉电压；
3减小和增加电流调节，观察辉光放电情况。
（注意电压不要过大）
4.将电流调节旋至电压为300V，溅射20分钟（溅射过程中可打开工作旋转注意调速不要太快）
5.溅射完毕后------关磁控溅射电源~C
四取出薄膜，更换基片
1.关碟同~关充气微调（关氩气）----关前级阀
2•开放气阀------约2分钟后------打开玻璃钟罩并轻轻取下------取出制备薄膜。
五真空蒸发镀膜
1.关放气阀|
2•打开旁路阀------抽真空至w10Pa
3.关旁路阀------开前级阀|------开碟阀抽真空至10-3Pa
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