使用ZEMAX设计的典型实例分析剖析.docx
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使用ZEMAX设计的典型实例分析剖析
使用ZEMAX于设计、优化、公差和分析
武汉光迅科技股份有限公司宋家军（QQ：
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摘要
光学设计软件ZEMAX的功能讨论可藉由使用ZEMAX去设计和分析一个投影系统来讨论，包括使用透镜数组（lensletarrays）来建构聚光镜（condenser）。
简介
ZEMAX以非序列性（non-sequential）分析工具来结合序列性（sequential）描光程序的传统功能，且为一套能够研究所有表面的光学设计和分析的整合性软件包，并具有研究成像和非成像系统中的杂散光（straylight）和鬼影（ghosting）的能力，从简单的绘图（Layout）一直到优化（optimization）和公差分析（toleranceanalysis）皆可达成。
根据过去的经验，对于光学系统的端对端（endtoend）分析往往是需要两种不同的设计和分析工具。
一套序列性描光软件，可用于设计、优化和公差分析，而一套非序列性或未受限制的（unconstrained）描光软件，可用来分析杂散光、鬼影和一般的非成像系统，包括照明系统。
“序列性描光程序”这个名词是与定义一个光学系统为一连串表面的工具有关。
所有的光线打到光学系统之后，会依序的从一个表面到另一个表面穿过这个系统。
在定义的顺序上，所有的光线一定会相交到所有的表面，否则光路将终止。
光线不会跳过任何中间的表面，且光线只能打在每一个已定义的表面一次。
若实际光线路径交到一个表面上超过一次，如使用在二次描光（doublepass）中的组件，必须在序列性列表中，再定义超过一次的表面参数。
大部份成像光学系统，如照相机镜头、望远镜和显微镜，可在序列性模式中完整定义。
对于这些系统，序列性描光具有许多优点：
非常快、非常弹性和非常普遍。
几乎任何形状的光学表面和材质特性皆可建构。
在成像系统中，序列性描光最重要的优点为使用简单且高精确的方法来做优化和分析。
序列性描光的缺点，包括无法追迹所有可能的光路径（即鬼影反射）和许多无法以序列性方式来描述的光学系统或组件。
非序列性描光最常用来分析成像系统中的杂散光和鬼影，甚致分析照明和其它非成像系统。
在非序列性描光中，光线入射到光学系统后，是自由的沿着实际光学路径追迹；一条光线可能打到一个对象（object）许多次，而且可能完全未打到其它对象。
此外，非序列性方法可用来分析从光学或机构组件产生的表面散射（scatter），以及从场内（in-field）和场外（out-of-field）的光源所产生的表面反射而形成的鬼影成像。
ZEMAX的功能
ZEMAX可以用于一个完全序列性模式中、一个完全非序性模式中和一个混合模式中，混合模式对分析具有大部分序列性而却有一些组件是作用在非序列性方式的系统，是相当有用的，如导光管（lightpipes）和屋顶棱镜（roofprisms）等。
序列性系统需定义视场角（fieldofview）、波长范围（wavelengthrange）和表面数据（surfacedate）。
序列性设计的最重要参数之一，为系统孔径（systemaperture）。
系统孔径，常指入瞳（entrancepupil）或孔径光栏（STO），它限制可从已定义视场入射光学系统的光线。
光学表面可以是折射、反射或绕射。
透镜可以是由均匀或渐变折射率材质所制成。
表面的下弯（sag）可以是球面、圆锥面（conic）、非球面（aspheric）或藉由多项式或其它参数函数来定义。
也包含了许多绕射光学组件模型。
此外，一个使用者自定表面的功能，允许设计者以撰写程序的方式来建构任何实际的表面下弯或相位分布。
一些功能可以用来分析系统，包括数个系统绘图（layouts）类型、汇出CAD格式的表面信息功能、光点图（spotdiagrams）、光扇图（rayfan）和光程差图、光学调制传递函数（modulationtransferfunction，MTF）和点扩散函数（pointspreadfunction，PSF）图、包围圆（encircled）和包围矩形（ensquared）的能量信息、像差计算（塞德（Seidel）和泽尼克（Zernike））、理想或偏斜（skew）高斯光束参数计算、极化描光和波前传播工具。
优化
序列性描光软件的关键功能即是可以快速且精确的优化一个光学设计。
主要的优化技巧是以减幅最小均方根（dampedleastsquares，DLS）的算法为基础，并使用主动减幅（activedamping）。
此外，ZEMAX包括全域性优化功能，其以结合减幅最小均方根过程的优化算法为基础。
优化是以使系统绩效函数（meritfunction）的总值达到最小为基础。
简单的说，绩效函数为一种对一个理想光学系统的数值描述。
重要的是，绩效函数代表光学系统的要求性能。
对于既定的设计，可以适当的选用好几个预设的绩效函数。
对于成像系统，绩效函数可用来特别地针对减小光学像差，藉由限制光线在成像面上的延伸，或使从理想球面的系统波前偏差减至最小。
许多其它的优化参数也用来修改标准绩效函数或建立一个使用者自定的绩效函数。
当执行优化时，ZEMAX对任何使用者建构的系统或表面参数，决定最理想的值。
几乎任何参数，包括曲率、厚度、玻璃特性、非球面系数和视场或波长资料，皆可设为变数。
可以对可接受的参数值范围内下限制，以确保可以轻易的建构一个合理的系统。
公差分析
在完成光学系统的设计之后，执行公差分析是重要的。
公差分析为一种统计的过程，用来有系统地引入缺陷到光学设计中，以决定任何系统参数的误差对整体而言，如何影响系统性能。
公差分析是必须的，因为没光学组件是光滑的，或者当设计好时，可以精确地组装系统。
公差分析可用来决定每个系统参数的可接受值范围。
这个信息之后可以用来决定任何系统的可能性、以公差范围内来制造、在指定的性能水平之上工作。
ZEMAX包括一个广泛的、完整的公差分析算法，允许设计者自由完成任何光学设计的公差。
可以决定出相对于任何性能尺寸的公差，且可以包括任何补偿因子的影响，甚至机构的部分或光学的部分将被用来组装，或系统的使用。
波前传播
几何光线追迹为一般用来描述光的传播通过一个光学系统的方法。
如同先前所描述的，光线追迹对于分析许多光学系统来说，为一种非常精确的方法，然而这个模型的实用性有一些限制。
光线模型的限制是因为光线追迹而产生，每条光线是独立的，即：
一条光线传播的路径是可以完全决定的，而不受其它光线的影响。
光线之间不会发生干涉（interference）。
若光线与一个限制孔径或遮挡物的表面相交，光线不是被挡住就是通过，但在其它方面，光线路径是不受影响的，光线不会发生绕射现象。
ZEMAX包含了数个光线为基础的绕射计算，包括PSF和MTF，为包括单阶的夫琅和费（Fraunhofer）计算，波前从近场（出瞳）传播到远场（成像面）。
这些计算只可以在成像系统中执行，且在非常接近成像的表面。
当以光线为基础的方法不适用时，ZEMAX中的物理光学传播（PhysicalOpticsPropagation，POP）工具可用来分析系统，包括表面非常接近焦点、表面远离焦点但接近绕射孔径（diffractingapertures）和平行光的传播，或行经长距离后的近似平面波前。
使用POP，任何波前，包括高斯和混合的高阶模态光束、帽盖形（tophat）分布或任意的使用者自定波前，皆可以传播通过任何ZEMAX的设计档案。
几乎支持所有表面型态。
从任何场点来的波前可插入光学系统中的任何位置（不会仅能在已定义的物面位置）。
波前传播通过每个表面，且相位强度的信息可以在每个表面被计算。
POP功能非常有用地被用于空间滤波（spatialfilters）、分析光束成形的光学系统或任何其它与干涉和绕射有关的光学系统，如绕射菲涅耳区域平板（FresnelZonePlates）。
极化光线追迹
光可以用光线来模拟，并以位置、方向、相位和振幅来表示之。
然而，光也与电场有关。
电场的方向与传播方向互相垂直，且随着时间的改变，其方向和大小亦会有所变化。
当光线传播通过一个光学系统时，其极化状态一般并无需有守恒的关系存在。
当极化光线传播通过一个光学系统时，极化光线追迹可追踪光线极化的状态。
介质间的界面，包括空气、玻璃和金属，会导致衰减（attenuation）和延缓（retardance）的变化产生，和改变极化椭圆（polarizationellipse）的形状。
而入射角和波长的关系则会减少表面的传输。
这些在传输相位上的变化，称为极化像差（polarizationaberrations）。
这些像差会导致MTF和斯奈尔比（Strehlratio）值变小，此外亦会使得系统性能降低。
实际上，这些像差并没有不同于任何其它成像的像差。
ZEMAX可以在任何类型的光学表面上，完整建构出任何薄膜干涉的镀膜层。
极化光线追迹的计算，包括薄膜镀膜层、体积吸收（volumetricabsorption）和波长与入射角的影响，能更精确地预测真实系统的性能。
非序列性分析
使用非序列性分析，光学组件必须以真实对象来表示，而不是以表面来表示。
并允许以光线追迹的方法来决定对象被光线打到的顺序。
这不仅包括对象的顺序，也包括对象上的特殊表面或小刻面（facet）的顺序。
控制杂散光、分析成像系统中的鬼影、设计照明和其它非成像光学系统时，这样的功能是重要的。
非序列性分析不会被已定义的系统孔径所限制。
任何光分布种类的光源可以放置在光学空间中的任何位置。
从任何光源发射出的光线可以朝任何有实际意义的方向传播。
打到光学或机构组件上的一条特定光线的顺序，可藉由光线的位置、目前传播的方向和其它组件的位置来决定。
被光打到的对象将是沿光线传播方向上最接近光源的对象。
此外，在非序列性空间中，在每个光线表面交点上，任何光线可以分裂（split）成任何数目的子光线。
每条子光线将与父段中的一些能量有关。
这样一来，便允许追迹所有的折射、反射、散射和绕射能量路径。
建构诸如菲涅耳反射的影响来分析成像系统的鬼影，和在粗糙的或光滑的机构或光学组件上建构散射面来研究杂散光影响皆是必须的。
每一条子光线的能量可以藉由极化光线追迹来决定，这对研究鬼影的相对强度和建构诸如干涉仪（interferometers）的系统，包括整形平板（shearingplates），是很重要的。
对于散射特性，使用者可自由的指定任何表面粗糙的种类，然后分裂子光线的散射分布模型。
检测面装置是用在非序列性分析中。
检测面为奇特的表面，不是平的就是弯曲的，是用来量测入射在检测面位置上的能量。
可以赋予检测面表面性质来模仿真实检测器的效果，包括用于Narcissus分析的反馈（self-reflection）。
可量测包括非同调或同调发光、同调相位和发光强度。
并提供幅射度（Radiometric）或光度（photometric）信息。
复杂的筛选功能可用于从指定的光源而来所截取的能量信息，包括仅观看鬼影、折射、反射、散射或绕射能量，并在所指定的对象上做限制。
在追踪杂散光和鬼影问题上，这些筛选功能（filters）是很重要的。
所筛选的光线信息也可以用来产生以通过筛选功能为基础的光源光线数据。
这个功能可以用于反向光线追迹的分析。
以上所述为ZEMAX的概述。
有许多其它的功能还没有提到。
我们现在将应用ZEMAX于特定问题：
一个投影系统的设计和分析，包括聚光镜（condenser）和投影机的设计。
投影系统的设计和分析
我们将看到使用ZEMAX来设计和分析由一聚光镜配件所组成的投影系统，其能在投影镜头的输入端提供均匀的照明。
一个8mm长的灯丝光源所发出的光在经过聚光镜后，将在底片闸（filmgate）上形成均匀的能量分布。
投影机会产生一个640×480mm的影像到距输出端2000mm远的屏幕上。
两个次要配件中的每一个次要配件将可序列性的设计（优化），然后将这个系统组合起来，所以能计算出整个系统的照明和成像性质。
聚光镜的设计
聚光镜必须收集从光源发出来的光，并在底片闸（filmgate）上形成均匀分布的光。
此处考虑的聚光镜将由一准直镜配件所组成，用来使沿着两个透镜数组中的第一个透镜数组传播的初始光源能量平行。
第一透镜数组，为场透镜数组（fieldarray），用于收集从延伸光源（此处是线光源）对象来的能量，和在第二或成像透镜数组（imagingarray）中的每一个透镜上的光源之重新成像（reimage）。
在远距离的时候，成像透镜数组会将所有分开的光源影像，形成一部分重迭的影像；然而聚光镜取而代之的将这些重迭的光源影像重新成像在底片闸（filmgate）位置上。
对于这个设计，准直镜和聚光镜组件将完全相同于两透镜配件。
这并非必要的，但对于控制成本来说是相当有用的。
透镜数组
透镜数组通常用在照明系统。
每一数组会形成一个最终影像，其影像是所有独立影像的迭加。
每一个透镜的形状大小将会影响最后的能量分布。
对于已知孔径大小的透镜，具有较短焦距（较大的F/#）的系统将会产生较广的光分布。
投影系统通常需要两个透镜数组（也就是常用的复眼透镜）。
单一透镜数组只能使用在小的光源分布。
对于单一透镜数组，从延伸光源出来的离轴能量将成像在底片闸（filmgate）上的不同位置。
藉由使用一额外的场透镜数组，全部的光源影像会在底片闸（filmgate）上均匀的重新组合。
系统的视场角（光源大小）会被透镜数组的F/#所限制。
相当重要的是，从场透镜数组中的任何透镜出来的所有能量，需落在成像透镜数组中的相同透镜上，否则将会在底片闸（filmgate）上变模糊（blurring），降低均匀度（uniformity）。
这可由图1和图2中来看到，显示对于一延伸光源的对象，单一透镜数组和双透镜数组的照明会有所不同。
图1.在单一透镜数组设计中的照明
图2.双透镜数组的照明设计（第一个是场透镜数组，第二个是成像透镜数组）
数组必要条件
在设计此类的系统时需要考察数个参数，包括：
1）在底片闸（filmgate）上所需的照明大小
2）场透镜数组的透镜大小和位置：
假如数组大小固定的话，较多的透镜通常会产生较好的均匀度但限制了F/#。
数组的位置通常由机构的限制来决定。
3）成像透镜数组的大小和位置：
数组必须在场透镜数组的焦点上。
基于成本和装配的理由，数组通常是完全相同的。
4）场透镜数组的焦距：
必须在第二透镜数组上成像，但没有打满光线（overfilling）。
以ZEMAX来做设计
将藉由使用ZEMAX来决定聚光镜的参数来序列性地分析这个设计。
聚光镜的要求，整体来说相当复杂，且照明系统并不会形成一真实的像，故可能使得优化过程复杂化。
然而，这个设计可划分成两个不同的工作，每一个都是简单的设计工作。
第一个问题仅是准直镜和聚光镜的设计。
从光源发出的光将会被准直，然后重新成像在底片闸（filmgate）位置上，犹如透镜数组不存在般。
将光场透镜数组成像到底片闸（filmgate）位置上是第二个设计上的议题。
合并这两个设计的结果就是最后的聚光镜装配。
这种型态的设计要求可很快地以ZEMAX的多重组态功能来建构。
多重组态的设计
一个多重组态的设计是参照一光学系统，其系统是经由多于一种的模式或结构来分析。
对于多重结构的分析，最普遍的应用之一就是变焦镜头（zoomlens），其可允许光学组件的位置以焦距或放大率为函数做改变。
其它普遍的系统，包括消温差设计（athermalizeddesigns）、多重光路系统（multi-pathsystems）和扫描系统（scanningsystems）。
多重组态系统的设定与单组态系统设定非常类似。
多重组态编辑器是用来表示那些在不同组态间变化的设计参数。
对于这个设计，我们将需要三种组态：
第一个组态将建构整个系统，以致于能在底片闸（filmgate）上决定均匀度。
第二个组态将用来优化相匹配的准直镜和聚光镜的光学组件。
第三个组态将用来决定焦距和透镜数组的间隔。
系统参数
对于准直镜和聚光镜，选择准直镜的焦距为60mm。
光源为8mm长的灯丝，透镜数组为84mm的正方形，有7x7的透镜结构。
照明斑点的要求大小为16mm。
从这些我们可以决定出数组的焦距：
重要的是，在第二透镜数组上的光源成像大小不能超出透镜组件的大小：
透镜的大小需合适于初始光源的大小。
初始系统设定
最终的透镜参数、厚度、间距、曲率等，将藉由使用ZEMAX的优化功能来决定。
一个初始系统，包括基本数据，如光学表面的数目、初始材质的选定和系统孔径，必须在执行优化前提供。
准直镜和聚光镜皆是由两个透镜组件所组成。
也将有两个数组式单透镜（lensletarrays），其上共有六个光学组件。
整个系统将首先定义（结构1），然后将提供多重组态（configuration1）数据。
表1列出初始透镜参数。
表1.初始透镜参数
多重组态编辑栏可用来定义出准直镜、聚光镜和透镜数组间的不同优化参数。
显示在表2中。
数个列出来的多重组态参数可用来维持系统的设定对称。
表2.多重组态参数
图3显示三种组态的初始设计。
组态1在最下方，组态3在最上方。
图3.使用三重组态的Layout图来优化聚光镜
绩效函数将使用标准的成像要求，以均方根光点大小（RMSspotsize）法，来个别对光源经过准直镜和聚光镜对成像，然后光源同时成像于场数组和底片闸的位置。
光源是藉由沿着8mm直性范围的数个点（常取有限个间隔相同的点）光源来定义。
准直镜和数组的焦距要求也将在绩效函数中控制。
优化设计很容易符合设计要求。
图4显示聚光镜的最后设计结果。
图5显示在底片闸位置的照明分布。
结果的分布显示出在要求的16mm正方形范围上有高的均匀度（uniformity），而在这个范围之外能量较低。
图4.优化后的聚光镜Layout
图5.在底片闸上的照明分布
投影光学
投影光学的设计是以双高斯（doubleGauss）系统为基础。
系统的孔径应该与离开聚光镜后的最大输出分布相匹配。
虽然系统在此已考察过特定放大率和成像位置，但多重组态在此设计中也可以用来优化放大率和聚焦长度在某范围内的性能。
此设计的聚焦长为52mm、物空间数值孔径（objectspaceNA）为0.35、物高为16mm。
在全视场范围内，优化是以使均方根光点大小减到最小为基础。
从长共轭系统（longconjugate）来优化设计。
在结合聚光镜到投影机设计之前，将反向做最后的计算。
图6显示投影机光学的设计。
放置于距离最后一个透镜表面2000mm的成像面将不显示。
图6.投影镜头
系统组装
使用ZEMAX的非序列性功能来分析全部配件的要求。
这将允许复杂光源分布的建构，和建构照明与幻灯片对象的投影。
大部分所使用的组件可以使用ZEMAX主选单的选项，来直接转成非序列性设计。
聚光镜配件将首先转换。
使用序列性建构的透镜数组，其设计参数是不同于非序列性模型，所以将需要个别定义。
使用适当的工具，可转换聚光镜设计为非序列性形式。
两个个别的透镜也定义为非序列性的，表示两个数组的中心组件。
“复制工具（ReplicatorTool）”可用来产生每个数组的重复性组件。
图7显示透镜数组的形状。
每个小透镜是12mm的正方形。
图7.透镜数组
投影镜头现在也转换成非序列性系统。
所有表面可直接转换成ZEMAX的非序性对象。
新的对象可轻易的复制到非序列性组件编辑栏（Non-SequentialComponentEditor）中，并已包含了聚光镜的信息。
使用放置投影机组件相对于底片闸位置的功能以确保所有的组件能正确的摆放。
图8显示相结合的光学系统。
箭头表示光源的位置。
图8.聚光镜和投影配件
在非序列性分析中，检测面可以放到光学系统中来分析感兴趣位置上的能量分布。
在这个系统中，感兴趣的位置是在底片闸、成像面和成像的数组。
这个信息对确保光源能量没有充满数组是很重要的。
理想上，光源的成像应该是在每一个透镜上所成的像。
除了考察系统的成像性质外，非序列性分析对于杂散光和散射光分析也是有用的。
机构组件，如挡板（baffles）、镜头套桶（lensbarrels）和星形轮（spiders），可以加入设计中。
表面散射信息也可以更精确的使用于建构杂散光效应。
以分析系统的成像品质开始。
将需要在准直镜的焦点建构一个延伸光源（extendedsource）和在底片闸位置放置幻灯片模型。
从光源发出的光将传播通过准直镜；打到底片闸，光传播通过投影机到成像面。
任何JPG或BMP档案可以放在底片闸上，这将允许投影系统性能的真实表现。
图9显示被照明的对象，而图10显示在屏幕位置上的放大成像。
为了实际示范，将使用一个延伸的高斯分布光源。
图9.幻灯片对象（图片大小18mm×14mm）
图10.投影系统所形成的放大成像（图片大小640mm×480mm）
对于灯丝光源（filamentsource），离开光源的大部分能量是朝向离开准直镜。
为了增加系统的效率，一个反射组件常放在光源之后来截取这些能量的部分，并改变方向反向朝准直镜。
对于这一类的照明具，从光轴补偿光源是很重要的。
这将防止重新成像的光源能量造成过热（heating）和损坏灯丝的可能性。
落在相同的成像阵组件上的灯丝成像仍然是必须的。
这个系统显示在图11中。
图11.补偿灯丝光源在第二个数组上的成像
下一步的设计将包括加入镜头夹具（mounts）、挡板（baffles）和其它机构组件，并使杂散光和鬼影减到最小。
可以使用ZEMAX本身的对象或汇入CAD软件所设计的对象来建构这些组件，以便做更进一步的分析。
结论
ZEMAX这套软件有很强大的功能，对于成像系统和分析照明系统的整体表现，包括杂散光和散射光，可当作设计和优化的工具。
投影系统的设计，可用来验证这些功能如何让光学工程师能几乎毫无隔阂的在不同的分析模式下使用。
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