黄光流程了解及各站点的出现的异常描述.ppt

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TPKConfidentialandProprietaryInformation黄光流程了解及各站点的出现的异常描述TPKConfidentialandProprietaryInformation2ITO流程流程（Front&Back）清洗清洗IR/UV/CP光阻涂布光阻涂布软烤软烤曝光曝光显影显影蚀刻蚀刻剥膜剥膜Metal流程流程清洗清洗IR/UV/CP光阻涂布光阻涂布软烤软烤曝光曝光显影显影硬烤硬烤溅渡溅渡MetalPC405流程流程清洗清洗IR/UV/CP涂布涂布软烤软烤曝光曝光显影显影溅渡溅渡SiO2保护涂布保护涂布蚀刻蚀刻剥膜剥膜硬烤硬烤ADI检验AEI检验ADI检验AEI检验ADI检验DITO（N系列系列）流程流程硬烤硬烤TPKConfidentialandProprietaryInformation3SITO的流程的流程ITO流程流程（Front）清洗清洗IR/UV/CP光阻涂布光阻涂布软烤软烤曝光曝光显影显影蚀刻蚀刻剥膜剥膜PI流程流程清洗清洗IR/UV/CP光阻涂布光阻涂布软烤软烤曝光曝光显影显影渡渡PIMetal流程流程清洗清洗IR/UV/CP涂布涂布软烤软烤曝光曝光显影显影溅渡溅渡Metal保护涂布保护涂布硬烤硬烤剥膜剥膜ADI检验AEI检验ADI检验ADI检验蚀刻蚀刻AEI检验溅渡溅渡SITOPC405流程流程清洗清洗IR/UV/CP涂布涂布软烤软烤曝光曝光显影显影硬烤硬烤ADI检验硬烤硬烤硬烤硬烤TPKConfidentialandProprietaryInformation4光阻塗佈曝光顯影烘乾清洗制程的相关示意图制程的相关示意图TPKConfidentialandProprietaryInformation5蝕刻剝膜檢查TPKConfidentialandProprietaryInformation62.显影不良显影不良:

显影不净显影不净/过显过显/刮伤刮伤/脏污脏污/药液残留药液残留/光阻脱落光阻脱落/显影圈显影圈/凹点凹点1.涂布不良涂布不良:

涂布针孔涂布针孔/箭影箭影/气泡气泡/刮伤刮伤/脏污脏污/光阻回溅光阻回溅黄光生产常见的不良黄光生产常见的不良3.蚀刻不良蚀刻不良:

ITO&Metal蚀刻不净蚀刻不净/被蚀被蚀/脏污脏污/刮伤刮伤/ITO&AL残留残留4.剥剥膜不良膜不良:

剥膜不净剥膜不净/脏污脏污/刮伤刮伤/药液残留药液残留5.其他不良其他不良:

MO脱落脱落/SIO2脱落脱落/静电击伤静电击伤/Organic脱落脱落/线阻大小线阻大小TPKConfidentialandProprietaryInformation72.涂布气泡涂布气泡（部分因脏污/光阻粘度/涂布机台异常等所导致,目视为白色亮点）1.涂布针孔涂布针孔（部分因脏污/光阻粘度/涂布机台异常等所导致,目视为白色亮点）涂布异常图片涂布异常图片TPKConfidentialandProprietaryInformation83.涂布脏污涂布脏污（部分因来料脏污/未清洗干净/机台脏污等所导致）4.4.涂布箭影涂布箭影（部分因玻璃上粘有有机物/涂布机台异常/光阻粘度/风刀水未吹干等所导致）TPKConfidentialandProprietaryInformation9显影异常图片显影异常图片1.显影不净显影不净（部分因软烤温度/时间/曝光能量/显影速度等所导致,出现为显影后,目视白色条状,2D为彩色物质）2.药液残留药液残留（在显影在显影/剥膜清洗后留下的药液残留剥膜清洗后留下的药液残留）TPKConfidentialandProprietaryInformation103.AL线上光阻残留线上光阻残留（固定光阻残留主要因光罩上粘有脏污等其他物质所导致）4.光阻脱落光阻脱落（部分因软烤温度/曝光能量/显影速度等所导致,出现为显影后,目视黑色点状,如脱落不严重目视无法识别）TPKConfidentialandProprietaryInformation112.2.顶伤（因机台及导轮毛刺等所导致.出现在每道制程,目视为白色亮点/2D下成脏污状且透有彩色）1.1.光阻刮光阻刮伤（因机台及导轮毛刺等所导致.出现在每道制程,强光下目视为白色条/点状）TPKConfidentialandProprietaryInformation125.显影圈显影圈（部分因显影速度及电导率等所导致,出现在显影后,目视为小白点/较小且密集）6.PC405/Tory6.PC405/Tory锯齿（部分因软烤温度/曝光能量/显影速度等所导致,出现在显影后,目视锯齿状/外观”老鼠咬”）TPKConfidentialandProprietaryInformation137.凹点凹点（大部分是因脏污或其它物质导致光阻无法被显影干净,一般出现在PC405制程,目视为亮点）8.8.药液残留液残留（部分是因风刀未吹干及药液回粘水洗不掉,出现在每道制程,目视背光为白色/未烤前大部分可擦拭）TPKConfidentialandProprietaryInformation14ITO蚀刻异常图片蚀刻异常图片1.ITO蚀刻不净蚀刻不净/ITO残留残留（一般因光阻残留/蚀刻速度及药液浓度/光阻回溅等导致蚀刻不净蚀刻不净严重的强光下目视为白雾状,白光下不明显,通常借助于2D或万用表）2.ITO被蚀被蚀（一般因涂布异常/蚀刻速度等所导致/光阻被刮伤等目视对光可见,背光不可见）TPKConfidentialandProprietaryInformation15AL蚀刻异常图片蚀刻异常图片2.AL被蚀被蚀（大部分是因涂布异常/蚀刻速度/光阻被刮伤/曝光/显影等）1.AL蚀刻不净蚀刻不净/AL残留残留（大部分是因光阻残留/蚀刻速度/药液浓度等目视反光且不透光）TPKConfidentialandProprietaryInformation16其他不良其他不良图片片2.AL2.AL刮刮伤（大部分因机台异常/作业手法等所导致.目视为白色点线状,背光明显）1.ITO1.ITO刮刮伤/表面刮表面刮伤（大部分因机台异常/作业手法等所导致.目视为白色点线状,背光明显）TPKConfidentialandProprietaryInformation173.3.静静电击伤（最常出现在涂布/曝光/软硬烤段,目视为白色点状,强光下可见）4.SIO2气泡气泡（一般出现在PC405显影后/来料,目视为白色亮点）TPKConfidentialandProprietaryInformation186.Organic脱落脱落（玻璃表面保护层如PC405/TS821等脱落）5.SIO2脱落脱落TPKConfidentialandProprietaryInformation198.ITO线上光阻残留线上光阻残留（固定光阻残留主要因光罩上粘有脏污等其他物质所导致）7.MO脱落脱落（部分因存放环境目视泛白且半透光）TPKConfidentialandProprietaryInformation209.脏污脏污10.偏移偏移（主要出现在曝光光罩偏位及耙标异常所导致）Metal偏移PC405偏移Metal偏移TPKConfidentialandProprietaryInformation2111.AL氧化氧化（部分因存放环境目视泛白且半透光）12.PI异常异常（Metal蚀刻剥膜时药液渗透蚀刻剥膜时药液渗透）TPKConfidentialandProprietaryInformation22TPKConfidentialandProprietaryInformation23