镀膜营销精英知识培训.ppt

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TN/STNITO、PDPITO多层：

触摸屏、PDP-Filter、P-TVMirror，用于TFT的Cr镀膜ARASFilm应用范围应用范围产品的应用产品的应用44精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道對外秘對外秘ITO4.5ITO4.5产品结构产品结构55精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道對外秘對外秘ITO10产品结构产品结构66精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道對外秘對外秘手机行业电脑行业数码行业光学镜头应用领域ITO盖板产品结构盖板产品结构77精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道對外秘對外秘多样化印刷盖板效果珠光效果黑色效果七寸面板印刷白色效果ITO盖板产品应用盖板产品应用88精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道對外秘對外秘镀膜原理镀膜原理99精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道對外秘對外秘镀膜分类镀膜分类1010精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道對外秘對外秘镀膜分类镀膜分类1111精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道對外秘對外秘镀膜分类比较镀膜分类比较1212精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道對外秘對外秘沉积方法沉积方法-物理沉积（PhysicalVaporDeposition,PVD）-化学沉积（ChemicalVaporDeposition,CVD）在沉积的过程中形成新的化合物什么是什么是溅射溅射？

高能粒子撞击固体表面时，固体表面的原子与撞击粒子弹性或者非弹性冲突后，固体表面的组成原子从表面跳出的过程把靶材（阴极）分裂成原子，然后将原子沉积在玻璃面上靶材（阴极）基片（玻璃）薄膜薄膜沉积沉积（溅射法溅射法）1313精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道對外秘對外秘首先把沉积物质转换成气体，换句话说利用加速的离子冲突，使基础物体从靶材中跳出的过程。

为了把溅射气体（Ar：

惰性气体，与内部物质间的化学反应最少，离子质量比较合适）转换成加速粒子，需要利用辉光放电形成等离子体，把Ar气体离子化并在电场作用下加速成Ar+轰击靶材，使靶材的粒子溢出。

为了形成等离子体，先要形成辉光（Glow）放电。

辉光放电辉光放电：

指电子密度为108-1012/、电子能为1-30eV左右的低温等离子体在持续的电流作用下产生发光的现象。

进行过程进行过程1414精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道對外秘對外秘什么叫等离子体什么叫等离子体?

-等离子体（等离子态、电浆、英文：

Plasma）：

是一种电离的气体，由于存在电离出来的自由电子和带电离子，具有很高的电导率，与电磁场存在极强的耦合作用。

等离子态在宇宙中广泛存在，常被看作物质的第四态-辉光放电生成及维持等离子体（辉光放电是低气压下的气体放电）等离子体等离子体1515精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道對外秘對外秘磁铁的排列方向为磁铁的排列方向为NSNSNS极，形成左右对称的靶材极，形成左右对称的靶材消耗，但根据磁铁排列及磁极之间的宽度，靶材消耗的宽度也不同消耗，但根据磁铁排列及磁极之间的宽度，靶材消耗的宽度也不同靶材上安装磁铁是为了使靶材周围形成磁场来约束电子，并利用电子的密集化来增加Ar气体的离子化。

可以提高溅射沉积速度，而且把电子约束在靶材周围，因此减少2次电子对基板的打入，导致的不必要的加热及杂质混合跳出的靶材粒子沉积在基板玻璃上就形成我们需要的薄膜真空泵电源Gas溅射沉积溅射沉积1616精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道對外秘對外秘要沉积的物质叫靶材，在真空室里注入Ar等惰性气体后，在靶材上施加负电压，Ar气体体被激活形成等离子体。

等离子体中的Ar+离子利用电引力移动到阴极方向，这时靶材表面原子会跳出并沉积在玻璃基板上。

这样的过程，通过很多离子反复发生，叫溅射沉积溅射沉积。

溅射沉积溅射沉积1717精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道對外秘對外秘各式各样的膜系金属（NB,SIAL,CU）半导体（ITO）绝缘体+半导体（TiN,SiO2）纯绝缘体（光纤,Tio2,SiO2）各式靶材各种基片完整的溅射工艺完整的溅射工艺1818精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道對外秘對外秘ITO镀膜镀膜玻璃玻璃的的定义定义-ITO是IndiumTinOxide的缩写，是In2O3-SnO2系列化合物的一种。

其中I表示In2O3，T表示SnO2,一般Sn（即Tin）的含量约为10%，用溅射的方法把材质镀在玻璃板上，并应用在显示器件上的玻璃叫ITO镀膜玻璃。

1）特性特性-透光率良好，电阻系数低。

-导电性及蚀刻性良好。

-以透明导电性薄膜及容易轻量化而扩大应用范围。

-可以形成超薄膜且再现性突出，所以可以镀膜的物体很多。

2）ITO镀膜玻璃的结构镀膜玻璃的结构ITO镀膜的理解镀膜的理解1919精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道對外秘對外秘具具有导电性的有导电性的材质：

材质：

1）金属：

通过自由电子的移动具有导电性。

2）半导体：

电子或者孔穴持有部分导电性。

3）绝缘体：

满带的电子持有导电性，但几乎没有电子的移动，所以不导电。

ITO具有导电性的具有导电性的原因原因ITO是In2O3被SnO2置换，如同下面反应式。

根据上面的反应式实际起导电作用的是Sn和In置换过程中提供的电子。

但是从Sn跳出来的电子不是在传导带上，而是在禁带上，所以在导电方面几乎没有做贡献，因此ITO物质不能导电。

但是，ITO实际上按照下面的反应式进行导电。

按照上面的反应式时，一个原子的2个氧电子处于传导带可以导电。

即，有氧离子空洞（vacancy）ITO才可以导电。

（vacancy：

是指1个到250个左右的原子跃居的空间；反面void是指数十万个的原子跃居的空间。

），所以ITO可以称为n-型半导体。

因此化学理论上ITO不能导电，实际导电的是氧离子稍微不足的非化学理论的ITO。

ITO导电原因导电原因2020精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道對外秘對外秘镀镀SIO2膜的必要性膜的必要性ITO玻璃的原板玻璃是廉价的碱性玻璃，玻璃内含有3wt%的Na2O成分。

玻璃中的钠离子移动到表面碰到空气后被大气中的水分引起Na+的涌出。

涌出的Na+和水分中的OH+及大气中CO2进行复合化学反应，导致玻璃模糊。

Na+进入ITO膜内跟ITO膜中的氧气进行反应，导致电阻系数上升及产生其他不良影响。

.为了防止Na+的涌出在玻璃基板和ITO薄膜之间镀一层SIO2膜（200-300A）2121精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道對外秘對外秘基板成份基板成份2222精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道對外秘對外秘什么是什么是RF溅射？

溅射？

使用绝缘体电极，利用交流电源，周期性施加正负电压在靶材表面不累计离子和电子的情况下，维持辉光放电的方法。

.反面发生异物原因反面发生异物原因RF电源周期性变化正负电压的同时，电子的流动要流畅，而且以一定的状态存在，但部分部件受污染后发生电阻差，所以电子会集中在一起，这样会发生电击现象并粘贴在部件上而形成污染源，当该污染物粘贴到玻璃上时，就形成了异物缺陷。

.妨碍电子移动的因素妨碍电子移动的因素-阴极绝缘-框架绝缘-匹配-部件污染RF溅射溅射2323精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道對外秘對外秘氧化物或者绝缘体作为靶材时DC溅射无法进行，但RF溅射可以解决这种问题，特别是氩气压力低的时候也可以维持等离子体Plasma。

RF电源除了对金属材质进行溅射外，也可以对非金属、绝缘体、氧化物等材质进行溅射，主要使用13.56的高频电源。

DCDC溅射溅射RFRF溅射溅射靶材材质靶材材质导体导体/绝缘体/非金属辉光放电的辉光放电的ArAr压压力力10-15mTorr2-5mTorr成膜速度成膜速度速度高，对Ar不敏感速度低，对Ar敏感在线方式溅射沉积RF溅射特性溅射特性2424精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道對外秘對外秘基板介绍基板介绍2525精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道對外秘對外秘常规产品厚度：

1.1mm，0.7mm，0.55mm，0.5mm0.4mm，0.3mm常规产品尺寸：

14*14，14*16，14*17300*320mm，300*350mm，300*360mm370*400mm，370*470mm，400*500mm基板分类基板分类碱玻璃钠钙玻璃，用于TN及STNLCD。

板硝子NSG，旭硝子Asahi，中央硝子CentralGlass，硼硅玻璃德国肖特Schott铝硅玻璃无碱硅酸铝玻璃，主要用于TFT-LCD。

美国康宁CorningITO玻璃基板玻璃基板2626精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光道對外秘對外秘ITO基板种类基板种类钠钙硅玻璃钠钙硅玻璃以硅砂（SiO2）、纯碱（Na2CO3）、石灰石（CaCO3）、长石等为主要原料，经15501600成、融熔温高型、并经快速冷却而制得的无定形材体固晶结非料。

其化学成分十分复杂，主要为SiO2（含量72%左右）、Na2O（含量15%左右）和CaO（含量9%左右），另外还有少量的Al2O3、MgO、K2O等。

铝硅玻璃铝硅玻璃RO-Al2O3-SiO2系统玻璃。

R是二价元素，通常在RO-Al2O3-SiO2系统的共熔点状态，添加少量B2O3、Na2O、K2O等便成为铝硅酸盐玻璃，具有透明度高，适宜化学钢化等特点的玻璃硼硅玻璃硼硅玻璃高硼硅玻璃（又名硬质玻璃），因线性热膨胀系数为（3.3士0.1）10-6/K，也有人称之为“硼硅玻璃3.3”。

它是一种低膨胀率、耐高温、高强度、高硬度、高透光率和高化学稳定性的特殊玻璃材料，因其优异的性能，被广泛应用于太阳能、光电显示、化工、医药包装、电光源、工艺饰品等行业。

美国康宁公司的7740料，德国肖特公司的50料属同种料性2727精英荟萃，共创美好明天；创新发展，走特色阳光