电镀与其它镀的区别.doc

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1.目前镀锌与发蓝两种防锈功能比较强？

那种成本比较低？

钢制件的表面发黑处理，也有被称之为发蓝的。

发黑处理现在常用的方法有传统的碱性加温发黑和出现较晚的常温发黑两种。

但常温发黑工艺对于低碳钢的效果不太好。

A3钢用碱性发黑好一些。

碱性发黑细分出来，又有一次发黑和两次发黑的区别。

发黑液的主要成分是氢氧化钠和亚硝酸钠。

发黑时所需温度的宽容度较大，大概在135摄氏度到155摄氏度之间都可以得到不错的表面，只是所需时间有些长短而已。

实际操作中，需要注意的是工件发黑前除锈和除油的质量，以及发黑后的钝化浸油。

发黑质量的好坏往往因这些工序而变化金属“发蓝”药液采用碱性氧化法或酸性氧化法；使金属表面形成一层氧化膜，以防止金属表面被腐蚀，此处理过程称为“发蓝”。

黑色金属表面经“发蓝”处理后所形成的氧化膜，其外层主要是四氧化三铁，内层为氧化亚铁。

（1）金属表面务必洗净和干燥以后，才能进行“发篮”处理。

（2）金属器件进行“发蓝”处理条件与金属中的含碳量有关。

（3）每隔一星期左右按期分析溶液中硝酸钠、亚硝酸钠和氢氧化钠的含量，以便及时补充有关成分。

一般使用半年后就应更换全部溶液。

（4）金属“发蓝”处理后，最好用热肥皂水漂洗数分钟，再用冷水冲洗。

然后,又用热水冲洗，吹干。

钢铁零件的表面进行发蓝处理，就能大大增强抗蚀能力，延长使用寿命。

像武器、弹簧、钢丝等常用此法。

基本原理是铁在含有氧化剂和苛性钠的混合溶液中，一定温度下经一定时间后，反应生成亚铁酸钠（Na2FeO2）和铁酸钠（Na2Fe2O4），亚铁酸钠与铁酸钠又相互作用生成四氧化三铁氧化膜。

但传统的常温发蓝工艺存在着附着力和耐磨性差的缺点。

锌镀层对铁基体既有机械保护作用，又有电化学保护作用，抗腐蚀性能良好。

镀锌工艺：

分热镀锌、冷镀锌等，而且现在还要无氰化物镀锌。

而且镀锌废水处理是个问题。

电镀锌：

就是利用电解，在制件表面形成均匀、致密、结合良好的金属或合金沉积层的过程。

与其他金属相比，锌是相对便宜而又易镀覆的一种金属，属低值防蚀电镀层。

被广泛用于保护钢铁件，特别是防止大气腐蚀，并用于装饰。

镀覆技术包括槽镀（或挂镀）、滚镀（适合小零件）、自动镀和连续镀（适合线材、带材）。

目前，国内按电镀溶液分类，可分为四大类：

1．氰化物镀锌：

由于（CN）属剧毒，所以环境保护对电镀锌中使用氰化物提出了严格限制，不断促进减少氰化物和取代氰化物电镀锌镀液体系的发展，要求使用低氰（微氰）电镀液。

采用此工艺电镀后，产品质量好，特别是彩镀，经钝化后色彩保持好。

2．锌酸盐镀锌：

此工艺是由氰化物镀锌演化而来的。

目前国内形成两大派系，分别为：

a）武汉材保所的”DPE”系列；b）广电所的”DE”系列。

都属于碱性添加剂的锌酸盐镀锌；PH值为12.5~13。

采用此工艺，镀层晶格结构为柱状，耐腐蚀性好，适合彩色镀锌。

注意：

产品出槽后—>水洗—>出光（硝酸+盐酸）—>水洗—>钝化—>水洗—>水洗—>烫干—>烘干—>老化处理（烘箱内80~90oC。

3．氯化物镀锌

此工艺在电镀行业应用比较广泛，所占比例高达40%。

钝化后（兰白）可以锌代铬（与镀铬相媲美），特别是在外加水溶性清漆后，外行人是很难辩认出是镀锌还是镀铬的。

此工艺适合于白色钝化（兰白，银白）。

4．硫酸盐镀锌

此工艺适合于连续镀（线材、带材、简单、粗大型零、部件）。

成本低廉。

2.什么是真空电镀，都有那些工序。

问：

真空电镀和其它的电镀有什么大的曲别。

湿法工艺：

1.化学浸镀

2.电镀

3.喷导电涂料

干法工艺

1.真空蒸镀

2.阴极溅镀

3.离子镀

4.烫金

5.熔融喷镀

真空蒸镀法是在高度真空条件下加热金属，使其熔融、蒸发，冷却后在塑料表面形成金属薄膜的方法。

常用的金属是铝等低熔点金属。

加热金属的方法：

有利用电阻产生的热能，也有利用电子束的。

在对塑料制品实施蒸镀时，为了确保金属冷却时所散发出的热量不使树脂变形，必须对蒸镀时间进行调整。

此外，熔点、沸点太高的金属或合金不适合于蒸镀。

置待镀金属和被镀塑料制品于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使金属蒸发或升华，金属蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金属薄膜。

在真空条件下可减少蒸发材料的原子、分子在飞向塑料制品过程中和其他分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着力。

通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低（10-5Pa）。

镀层厚度0.04-0.1um,太薄，反射率低；太厚，附着力差，易脱落。

厚度0.04时反射率为90%

3.如何判断内存金手指是电镀还是化学镀

内存的金手指通常有两种制造方法，电镀和化学镀。

电镀金手指耐磨度和电气性能较化学镀的金手指好，电镀的薄20微米左右，不过肉眼很难看得出。

电镀的金手指在末端会有一个“小辫子”（这是生产工艺造成，电镀必须要各金手指是导通的，电镀完后再分板将导通线切断）。

4.电镀于化学镀的差别！

问：

电镀于化学镀的差别！

答：

通常的置换镀金（IG）液能够腐蚀化学镀镍（EN）层，其结果是形成置换金层，并将磷残留在化学镀镍层表面，使EN/IG两层之间容易形成黑色（焊）区（Blackpad），它在焊接时常造成焊接不牢（SolderJointFailure）金层利落（Peeling）。

延长镀金的时间虽可得加较厚的金层，但金层的结合力和键合性能迅速下降。

本文比较了各种印制板镀金工艺组合的钎焊性和键合功能，探讨了形成黑色焊区的条件与机理，同时发现用中性化学镀金是解决印制板化学镀镍/置换镀金时出现黑色焊区问题的有效方法，也是取代电镀镍/电镀软金工艺用于金线键合（GoldWireBonding）的有效工艺。

一引言

随着电子设备的线路设计越来越复杂，线路密度越来越高，分离的线路和键合点也越来越多，许多复杂的印制板要求它的最后表面化处理（FinalSurfaceFinishing）工艺具有更多的功能。

即制造工艺不仅可制成线更细，孔更小，焊区更平的镀层，而且所形成的镀层必须是可焊的、可键合的、长寿的，并具有低的接触电阻。

[1]

目前适于金线键合的镀金工艺是电镀镍/电镀软金工艺，它不仅镀层软，纯度高（最高可达99．99%），而且具有优良的钎焊性和金线键合功能。

遗憾的是它属于电镀型，不能用于非导通线路的印制板，而要将多层板的所有线路光导通，然后再复原，这需要花大量的人力和物力，有时几乎是不可能实现的。

[2]另外电镀金层的厚度会随电镀时的电流密度而异，为保证最低电流处的厚度，电流密度高处的镀层就要超过所要求的厚度，这不仅提高了成本，也为随后的表面安装带来麻烦。

化学镀镍/置换镀金工艺是全化学镀工艺，它可用于非导通线路的印制板。

这种镀层组合的钎焊性优良，但它只适于铝线键合而不适于金线键合。

通常的置换镀金液是弱酸性的，它能腐蚀化学镀镍磷层（Ni2P）而形成置换镀金层，并将磷残留在化学镀镍层表面，形成黑色（焊）区（Blackpad），它在焊接焊常造成焊接不牢（SolderJointFailure）或金层脱落（Peeling）。

试图通过延长镀金时间，提高金层厚度来解决这些问题，结果反而使金层的结合力和键合功能明显下降。

[3]

化学镀镍/化学镀钯/置换镀金工艺也是全化学镀工艺，可用于非导通线路的印制板，而且键合功能优良，然而钎焊性并不十分好。

开发这一新工艺的早期目的是用价廉的钯代替金，然而近年来钯价猛涨，已达金价的3倍多，因此应用会越来越少。

化学镀金是和还原剂使金络离子直接被还原为金属金，它并非通过腐蚀化学镀镍磷合金层来沉积金。

因此用化学镀镍/化学镀金工艺来取代化学镀镍/置换镀金工艺，就可以从根本上消除因置换反应而引起的黑色（焊）区问题。

然而普通的市售化学镀金液大都是酸性的（PH4-6），因此它仍存在腐蚀化学镀镍磷合金的反应。

只有中性化学镀金才可避免置换反应。

实验结果表明，若用化学镀镍/中性化学镀金或化学镀镍/置换镀金（<1min）/中性化学镀金工艺，就可以获得既无黑色焊区侍猓志哂杏帕嫉那ズ感院吐痢⒔鹣呒瞎δ艿亩撇悖视贑OB（Chip-on-Board）、BGA（BallGridArrays）、MCM（Multi-ChipModules）和CSP（ChipScalePackages）等高难度印制板的制造。

自催化的化学镀金工艺已进行了许多研究，大致可分为有氰的和无氰的两类。

无氰镀液的成本较高，而且镀液并不十分稳定。

因此我们开发了一种以氰化金钾为金盐的中性化学镀金工艺，并申请了专利。

本文主要介绍中性化学镀金工艺与其它咱镀金工艺组合的钎焊性和键合功能。

二实验

1键合性能测试（BondingTests）

键合性能测试是在AB306B型ASM装配自动热声键合机（ASMAssemblyAutomationThermosonicBondingMachine）上进行。

金线的一端被键合到金球上，称为球键（BallBond）。

金线的另一端则被键合到金焊区（Goldpad），称为楔形链（WedgeBond），然后用金属挂钩钩住金线并用力向上拉，直至金线断裂并自动记下拉断时的拉力。

若断裂在球键或楔形键上，表示键合不合格。

若是金线本身被拉断，则表示键合良好，而拉断金线所需的平均拉力（AveragePullForce）越大，表示键合强度越高。

在本实验中，金球键的键合参数是：

时间45ms、超声能量设定55、力55g；而楔形键的键合参数是：

时间25ms、超声能量设定180、力155。

两处键合的操作温度为140℃，金线直径32μm（1．25mil）。

2钎焊性测试（SolderabilityTesting）

钎焊性测试是在DAGE-BT2400PC型焊料球剪切试验机（MilliceSolderBallShearTestMachine）上进行。

先在焊接点上涂上助焊剂，再放上直径0.5mm的焊料球，然后送入重熔（Reflow）机上受热焊牢，最后将机器的剪切臂靠到焊料球上，用力向后推挤焊料球，直至焊料球被推离焊料接点，机器会自动记录推开焊料球所需的剪切力。

所需剪切力越大，表示焊接越牢。

3扫描电镜（SEM）和X-射线电子衍射能量分析（EDX）

用JSM-5310LV型JOEL扫描电镜来分析镀层的表面结构及剖面（CrossSection）结构，从金/镍间的剖面结构可以判断是否存在黑带（Blackband）或黑牙（BlackTeeth）等问题。

EDX可以分析镀层中各组成光素的相对百分含量。

三结果与讨论

1在化学镀镍/置换镀金层之间黑带的形成

将化学镀镍的印制板浸入弱酸性置换镀金液中，置换金层将在化学镀镍层表面形成。

若小心将置换金层剥掉，就会发现界面上有一层黑色的镍层，而在此黑色镍层的下方，仍然存在未变黑的化学镀镍层。

有时黑色镍层会深入到正常镀镍层的深处，若这层深处的黑色镍层呈带状，人们称之为“黑带”（Blackband），黑带区磷含量高达12.84%，而在政党化学镀镍区磷含量只有8.02%。

在黑带上的金层很容易被胶带粘住而剥落（Peeling）。

有时腐蚀形成的黑色镍层呈牙状，人们称之为“黑牙”（Blackteeth）。

为何在形成置换金层的同时会形成黑色镍层呢？

这要从置换反应的机理来解释。

大家知道，化学镀镍层实际上是镍磷合金镀层（Ni2P）。

在弱酸性环境中它与金液中的金氰络离子发生下列反应：

Ni2P+4[Au（CN）2]―→4Au+2[Ni（CN）4]2―+P

结果是金层的形成和镍磷合金被金被腐蚀，其中镍变成氰合镍络离子（Ni（CN）4）2―，而磷则残留在表面。

磷的残