拉扎维模拟CMOS集成电路设计第二章作业答案详解中文PPT资料.ppt

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拉扎维模拟CMOS集成电路设计第二章作业答案详解中文PPT资料.ppt

本题忽略侧向扩散LD,1)NMOS,2)PMOS,Copyrightforzhouqn,2.3导出用ID和W/L表示的gmro的表达式。

画出以L为参数的gmroID的曲线。

注意L,解:

Copyrightforzhouqn,2.4分别画出MOS晶体管的IDVGS曲线。

a)以VDS作为参数;

b)以VBS为参数,并在特性曲线中标出夹断点,解:

以NMOS为例,当VGSVTH时,MOS截止,则ID=0,当VTHVGSVDS+VTH时,MOS工作在饱和区,当VGSVDS+VTH时,MOS工作在三极管区(线性区),Copyrightforzhouqn,2.5对于图2.42的每个电路,画出IX和晶体管跨导关于VX的函数曲线草图,VX从0变化到VDD。

在(a)中,假设Vx从0变化到1.5V。

(VDD=3V),(a),上式有效的条件为,即,Copyrightforzhouqn,(a)综合以上分析,VX1.97V时,M1工作在截止区,则IX=0,gm=0,VX1.97V时,M1工作饱和区,则,Copyrightforzhouqn,(b)=0,VTH=0.7V,当0VX1V时,MOS管的源-漏交换,工作在线性区,则,当1VVX1.2V时,MOS管工作在线性区,Copyrightforzhouqn,当VX1.2V时,MOS管工作在饱和区,Copyrightforzhouqn,(C)=0,VTH=0.7V,当VX0.3V时,MOS管的源-漏交换,工作在饱和区,当VX0.3V时,MOS管工作截止区,Copyrightforzhouqn,(d)=0,VTH=-0.8V,当0VX1.8V时,MOS管上端为漏极,下端为源极,MOS管工作在饱和区,当1.8VVX1.9V时,MOS管工作在线性区,Copyrightforzhouqn,当VX1.9V时,MOS管S与D交换,MOS管工作线性区,Copyrightforzhouqn,(e)=0,当VX=0时,VTH=0.893V,此时MOS工作在饱和区,随着VX增加,VSB降低,VTH降低,此时MOS管的过驱动电压增加,MOS管工作在饱和区;

直到过驱动VDSAT上升到等于0.5V时,MOS管将进入线性区,则有,Copyrightforzhouqn,当VX1.82V时,MOS管工作在线性区?

Copyrightforzhouqn,2.7对于图2.44的每个电路,画出Vout关于Vin的函数曲线草图。

Vin从0变化到VDD=3V。

解:

(a)=0,VTH=0.7V,右图中,MOS管源-漏极交换,当Vin0.7V时,M1工作在截止区,Vout=0,当0.7Vin1.7V时,M1工作在饱和区,则,当1.7VVin3V时,M1工作在线性区,则,Copyrightforzhouqn,2.7(b)=0,VTH=0.7V,当0Vin1.3V时,M1工作在线性区,则,当Vin1.3V时,M1工作在饱和区,则,Copyrightforzhouqn,2.7(c)=0,VTH=0.7V,当0Vin2.3V时,M1工作在线性区,则,当Vin2.3V时,M1工作在饱和区,则,Copyrightforzhouqn,2.7(d)=0,VTH=-0.8V,当0Vin1.8V时,M1工作在截止区,则,M1工作在饱和区边缘的条件为Vout=1.8V,此时假设Vin=Vin1,因而,当1.8VVinVin1时,M1工作在饱和区,当Vin1Vin时,M1工作在线性区,Copyrightforzhouqn,2.9对于图2.46的每个电路,画出IX和VX关于时间的函数曲线图。

C1的初始电压等于3V。

(a)=0,VTH=0.7V,VbVTH,当Vb-0.7VX3V时,M1工作在饱和区,当VXVb-0.7时,M1工作在线性区,则,Copyrightforzhouqn,当VXVb-0.7时,M1工作在线性区,则,Copyrightforzhouqn,2.9(b)=0,VTH=0.7V,当VX初始电压为3V,M1工作在饱和区,t=0时,VX=3V,Copyrightforzhouqn,2.9(c)=0,VTH=0.7V,当VX初始电压为3V,VDS=0V,M1工作在深线性区,Copyrightforzhouqn,2.9(d)=0,VTH=0.7V,IX=I1,Copyrightforzhouqn,2.9(e)=0,VTH=0.7V,电容C1的初始电压为3V,初始状态(时间t=0),如右图所示,电容C1的充电电流IC1=0,此时M1的漏电流IX=I1;

同时VX=Vb-VGS1+3,当时间t=0+时,如右图所示,M1的一部分漏电流将对电容C1的进行充电,此时IX-IC1=I1,=当IX=IC1时,I1=0若电流源I1为理想电流源,则VN-,实际上VN不可能低于0.6V,若低于0.6V,则PN结正向导通若电流源I1不是理想电流源,则VN0,电容C1开始放电,Copyrightforzhouqn,2.13MOSFET的特征频率(transitfrequency)fT,定义为源和漏端交流接地时,器件的小信号增益下降为1的频率。

证明注意:

fT不包含S/D结电容的影响,节点1,有,输出:

Copyrightforzhouqn,2.13(b)假设栅电阻RG比较大,且器件等效为n个晶体管的排列,其中每个晶体管的栅电阻等于RG/n。

证明器件的fT与RG无关,其特征频率仍为,Copyrightforzhouqn,Copyrightforzhouqn,2.13(c)对于给定的偏置电流,同过增加晶体管的宽度(因此晶体管的电容也增加)使工作在饱和区所需的漏-源电压最小。

利用平方率特性证明,这个关系表明:

当所设计的器件工作于较低时,速度是如何被限制的。

Copyrightforzhouqn,2.16考虑如图2.50所示的结构,求ID关于VGS和VDS的函数关系,并证明这一结构可看作宽长比等于W/(2L)的晶体管。

假设=0,第一种情况:

M1、M2均工作在线性区,相当于W/(2L)工作在线性区,Copyrightforzhouqn,2.16第二种情况:

M1工作在线性区,M2工作在饱和区,相当于W/(2L)工作在饱和区,注意:

M1始终工作在线性区,因为M2的过驱动电压大于0,线性区,Copyrightforzhouqn,2.16上面讨论,可知:

(1)M2工作在饱和区,则电流满足平方关系

(2)M2工作在线性区,则电流满足线性关系,Copyrightforzhouqn,2.17已知NMOS器件工作在饱和区。

如果(a)ID恒定,(b)gm恒定,画出W/L对于VGS-VTH的函数曲线。

饱和区:

Copyrightforzhouqn,2.18如图2.15所示的晶体管,尽管处在在饱和区,解释不能作为电流源使用的原因。

以上电路的电流与MOS管的源极电压VS有关,而电流源的电流是与其源极电压VS无关的。

Copyrightforzhouqn,2.27已知NMOS器件工作于亚阈值区,为1.5,求引起ID变化一个数量级所需的VGS的变化量。

如果ID=10A,求gm的值,Copyrightforzhouqn,2.28考虑VG=1.5V且VS=0的NMOS器件。

解释如果将VD不断减小到低于0V或者将Vsub不断增大到0V以上,将会发生什么情况?

如果VD不断减小到低于0V,则NMOS的源-漏交换NMOS工作在线性区,(b)如果VB不断上升,VSB不断降低,则阈值电压不断减小,漏电流ID上升,Copyrightforzhouqn,THEEND!

THANKYOU!

Copyrightforzhouqn,

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